公开一种被配置成测试收集器反射镜的系统，所述收集器反射镜具有第一焦点和第二焦点，所述系统包括：测试辐射子系统，所述测试辐射子系统能够操作以将测试辐射从所述第二焦点投影至所述收集器反射镜上；传感器子系统，所述传感器子系统能够操作以接收从所...

本发明提供一种平台设备，包括物体支撑件、多个支撑构件、夹持器和控制单元。所述物体支撑件包括用于在其上安装物体的表面，所述表面沿着一平面延伸。多个支撑构件用于支撑所述物体，并布置成从夹持器接收物体并且将物体布置在表面上和/或反之亦然。支撑...

本发明提供一种用于光刻设备的气动支撑装置和具备这种支撑装置的光刻设备。所述支撑装置包括气弹簧。所述气弹簧包括悬挂部件、被悬挂部件和压力腔室，所述压力腔室被配置用于相对于所述悬挂部件支撑所述被悬挂部件。所述支撑装置还包括被配置成用于相对于...

本发明提供一种管状线性致动器，该管状线性致动器包括：管状线圈组件，其包括在管状线性致动器的纵向方向上彼此相邻并且相对于管状线性致动器的纵向轴线同心地布置的多个管状线圈；以及磁体组件，其包括在纵向方向上延伸并且具有交替极化方向的一系列永磁...

本发明提供一种光刻设备或光刻框架组件，包括：‑第一气动支撑件和第二气动支撑件，所述第一气动支撑件和所述第二气动支撑件被布置成控制框架的位置，每个所述气动支撑件都容纳压力室，‑框架位置控制系统，包括：‑第一位置传感器装置，所述第一位置传感...

一种晶片，包括在一个面上的掩模和在相对面上的至少一个层，其中所述掩模包括至少一个划线，所述划线与所述相对面的实质上不含所描述的至少一个层的至少一部分叠置。还描述一种制备表膜的方法，包括以下步骤：提供晶片，所述晶片包括在一个面上的掩模和在...

对准传感器装置包括照射系统、第一光学系统、第二光学系统、检测器系统和处理器。照射系统被配置为沿照射路径透射照射光束。第一光学系统被配置为朝向衬底上的衍射目标透射照射光束。第二光学系统包括第一偏振光学器件，该第一偏振光学器件被配置为分离并...

本发明提供一种系统，所述系统包括具有反射表面的反射光学元件，所述反射表面被配置成反射辐射束。所述反射光学元件也具有主体。所述系统包括热调节机构，所述热调节机构可操作以在控制器的控制下以热方式引发所述主体的变形。借助于使所述主体可控制地变...

公开了检测器和检测系统。衬底包括：多个感测元件(311‑313)，包括多个第一感测元件和多个第二感测元件；以及被配置为将多个第一感测元件连接到输出并且将多个第二感测元件连接到输出的多个部段(321‑324)。可以在感测元件之间提供被配置...

公开了一种减轻结构的测量上的过程相关杂散光伪影的方法。该方法包括基于参考角分辨测量和目标角分辨测量来获得针对过程相关杂散光伪影的校准标度因子，以及利用所获得的校准标度因子来对图像进行校正。

本文中提供一种检查设备或光刻设备，包括光学系统和检测器。所述光学系统包括非线性棱镜形光学器件。所述光学系统被配置成接收从衍射目标反射的零阶衍射束和一阶衍射束并且分离每阶衍射束的第一偏振和第二偏振。所述检测器被配置成同时检测所述零阶衍射束...

公开一种用于测量与衬底上的结构有关的关注的特性的方法和相关联设备。所述方法包括在利用照射辐射照射结构之后，直接地由关注的特性对在照射辐射被所述照射辐射被所述结构散射时的至少相位的影响，来计算关注的特性的值。

公开了检测器和检测系统。根据某些实施例，一种检测器包括衬底，该衬底包括多个感测元件，该多个感测元件包括第一感测元件(402)和第二感测元件(403)，其中至少第一感测元件形成为三角形形状。检测器可以包括切换区域(4009A)，该切换区域...

公开了确定所关注参数的值的方法。在一种布置中，导出来自照射目标的检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量。表征对称分量的第一度量和表征非对称分量的第二度量在所关注参数的值的参考范围上根据所关注参数非单调地变化。使用所导出的对称分量和所导出...

通过以下步骤确定制备在衬底上的结构的性质的方法和设备：根据所述结构的测量光瞳图像的像素来确定测量特性，所述测量特性包括比射手测量光瞳图像更少的信息；生成与所述测量特性相对应的初始的模拟特性，并且所述模拟特性基于所述结构的候选模型；在迭代...

一种用于处理生产衬底的设备的清洁装置，所述清洁装置包括：实体，具有与所述生产衬底相似或相同的尺寸，使得所述清洁装置与所述设备兼容，所述主体具有第一主表面和朝向与第一主表面相反的方向的第二主表面；所述主体内的腔室，被配置用以容纳污染物；从...

本发明提供了一种用于确定物体的位置的位置测量系统，该位置测量系统包括第一干涉仪和第二干涉仪，该第一干涉仪和第二干涉仪被布置为当物体处于第一测量区域时通过将束发射到物体的目标表面上来确定物体在第一方向上的距离。位置测量系统还包括第三干涉仪...

一种系统包括空间调制设备，其被配置为与光束相互作用以创建经修改光束，该经修改光束包括沿垂直于该经修改光束的传播方向的方向具有非均一强度的光的空间图案，该光的空间图案包括一个或多个光分量；和目标供应系统，其被配置为向目标区域提供目标，该目...

一种装置包括用于夹持组件的静电夹具和用于邻近静电夹具生成自由电荷的机构。用于生成自由电荷的机构被配置为在从静电夹具的第一激发状态到静电夹具的第二激发状态的转变期间邻近静电夹具生成自由电荷。

一种光刻装置的部件，该部件具有污染物捕获表面，该污染物捕获表面设置有凹部，该凹部被配置用于捕获污染物颗粒和减少DUV辐射的镜面反射。凹部可以具有小于或等于约2μm、理想地小于1μm的至少一个尺寸。