【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光束的空间调制相关申请的交叉引用本申请要求于2018年04月03日提交的美国申请62/651,928的优先权，并且其全文通过引用而结合于此。
本公开涉及用于对光束进行空间调制的技术。该技术例如可以在极紫外(EUV)光源中使用。该光束例如可以是照射目标材料或燃料材料的光束。
技术介绍
极紫外(EUV)光——例如是具有100纳米(nm)或更短波长的电磁辐射(有时也被称作软x射线)，并且包括处于例如20nm或更短、5nm和20nm之间、或者13nm和14nm之间波长的光——可以在光刻过程中被用来通过在抗蚀剂层中发起聚合而在例如硅晶片的衬底中产生极小型的特征。用来产生EUV光的方法包括但并不一定限于将目标材料转换为发射EUV光的等离子体。该目标材料包括具有EUV范围中的发射谱线的元素，例如氙、锂或锡。在一种经常被称作激光等离子体(LPP)的这样的方法中，可以通过利用可以被称作驱动激光的放大光束照射包括目标材料的目标来产生所需的等离子体。出于该目的，该等离子体通常是在例如真空腔的密封容器中产生，并且使用各种类型...
【技术保护点】
1.一种系统，包括：/n空间调制设备，其被配置为与光束相互作用以创建经修改光束，所述经修改光束包括沿垂直于所述经修改光束的传播方向的方向具有非均一强度的光的空间图案，所述光的空间图案包括一个或多个光分量；和/n目标供应系统，其被配置为向目标区域提供目标，所述目标包括目标材料，所述目标材料在处于等离子体状态时发射EUV光，其中所述目标区域与束路径重叠，使得所述经修改束中的所述一个或多个光分量中的至少一些光分量与所述目标的一部分进行相互作用。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180403 US 62/651,9281.一种系统，包括：
空间调制设备，其被配置为与光束相互作用以创建经修改光束，所述经修改光束包括沿垂直于所述经修改光束的传播方向的方向具有非均一强度的光的空间图案，所述光的空间图案包括一个或多个光分量；和
目标供应系统，其被配置为向目标区域提供目标，所述目标包括目标材料，所述目标材料在处于等离子体状态时发射EUV光，其中所述目标区域与束路径重叠，使得所述经修改束中的所述一个或多个光分量中的至少一些光分量与所述目标的一部分进行相互作用。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述空间调制设备包括衍射光学元件。
3.根据权利要求2所述的系统，其中所述衍射光学器件包括空间光调制器(SLM)、自适应光学器件、掩模版和/或光栅。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述空间调制设备包括折射光学元件。
5.根据权利要求4所述的系统，其中所述空间调制设备包括透镜、小透镜阵列和/或掩模版。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述光的空间图案包括两个或更多光分量，并且所述两个或更多光分量中的每一个光分量具有基本上相同的强度。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述光的空间图案包括以直线网格布置的两个或更多光分量。
8.根据权利要求2所述的系统，其中所述空间调制设备包括至少一个达曼光栅。
9.根据权利要求1所述的系统，进一步包括：
第一光生成模块，被配置为发射所述光束；和
第二光生成模块，被配置为发射第二光束。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述空间调制设备进一步被配置为与第二光束相互作用以创建第二经修改光束，所述第二经修改光束包括沿垂直于所述第二经修改光束的传播方向的方向具有非均一强度的光的第二空间图案，所述光的第二空间图案包括一个或多个第二光分量。
11.一种形成用于极紫外(EUV)光源的目标的方法，所述方法包括：
将光束引导到束路径上；
使得所述光束与位于所述束路径上的空间调制设备进行相互作用以形成经修改光束，所述经修改光束包括沿垂直于所述经修改光束的传播方向的方向具有非均一强度的光的空间图案，所述光的空间图案包括一个或多个光分量；并且
使得所述经修改光束与包括目标材料的目标进行相互作用，所述目标材料在处于等离子体状态时发射EUV光，其中所述空间图案中的所述一个或多个光分量中的至少一些光分量与所述目标的区域进行相互作用，以修改所述目标的所述区域的属性。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述属性包括密度，并且修改所述属性包括降低所述密度。
13.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：K·W·张，M·A·珀维斯，C·A·斯廷森，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL
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