确定由图案化工艺形成的目标的所关注参数的值的方法技术

公开了确定所关注参数的值的方法。在一种布置中，导出来自照射目标的检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量。表征对称分量的第一度量和表征非对称分量的第二度量在所关注参数的值的参考范围上根据所关注参数非单调地变化。使用所导出的对称分量和所导出的非对称分量的组合来从所关注参数的多个候选值中标识正确值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】确定由图案化工艺形成的目标的所关注参数的值的方法相关申请的交叉引用本申请要求于2018年4月18日提交的欧洲专利申请18168041.4的优先权，其全部内容通过引用合并于此。
本公开涉及确定通过图案化工艺(诸如使用光刻的图案化工艺)形成的目标的所关注参数的值。
技术介绍
光刻装置是一种将期望图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将图案形成装置(替代地称为掩模或掩模版)用于生成要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。图案的转印通常是经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行的。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。制造诸如半导体器件等器件通常涉及使用很多制造工艺来处理衬底(例如，半导体晶片)以形成器件的各种特征并且通常形成器件的多个层。这样的层和/或特征通常使用例如沉积、光刻、蚀刻、化学机械抛光和离子注入来制造和处理。可以在衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种确定通过图案化工艺在衬底上形成的目标的所关注参数的值的方法，包括：/n导出检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量，所述检测到的光瞳表示能够通过执行测量过程获取，所述测量过程包括用辐射照射所述目标、并且检测由所述目标重定向的辐射，其中：/n所述目标的类型和测量过程使得表征所述对称分量的第一度量和表征所述非对称分量的第二度量在所述所关注参数的值的参考范围上，根据所述所关注参数非单调地变化；以及/n所述方法包括：使用所导出的对称分量和所导出的非对称分量的组合来标识：/n所述所关注参数的、由于所述第一度量的所述非单调变化而全部与所述第一度量的值相对应的多个候选值中的正确值，所述第一度量的所述值...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180418 EP 18168041.41.一种确定通过图案化工艺在衬底上形成的目标的所关注参数的值的方法，包括：
导出检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量，所述检测到的光瞳表示能够通过执行测量过程获取，所述测量过程包括用辐射照射所述目标、并且检测由所述目标重定向的辐射，其中：
所述目标的类型和测量过程使得表征所述对称分量的第一度量和表征所述非对称分量的第二度量在所述所关注参数的值的参考范围上，根据所述所关注参数非单调地变化；以及
所述方法包括：使用所导出的对称分量和所导出的非对称分量的组合来标识：
所述所关注参数的、由于所述第一度量的所述非单调变化而全部与所述第一度量的值相对应的多个候选值中的正确值，所述第一度量的所述值与用于所述目标的所导出的对称分量相对应；或者
所述所关注参数的、由于所述第二度量的所述非单调变化而全部与所述第二度量的值相对应的多个候选值中的正确值，所述第二度量的所述值与用于所述目标的所导出的非对称分量相对应。


2.根据权利要求1所述的方法，其中所述非单调变化至少大致为周期性变化。


3.根据权利要求2所述的方法，其中所述所关注参数的值的参考范围与所述周期性变化的一个周期相对应。


4.根据权利要求2或3所述的方法，其中所述第一度量的所述周期性变化具有与所述第二度量的所述周期性变化相同的周期。


5.根据权利要求4所述的方法，其中所述第一度量的所述周期性变化相对于所述第二度量的所述周期性变化被相移。


6.根据权利要求5所述的方法，其中所述相移为90度。


7.根据权利要求2至6中任一项所述的方法，其中所述周期性变化至少大致为正弦曲线。


8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中：
针对从对应目标集合获取的检测到的光瞳表示的集合中的每个检测到的光瞳表示，导出所述对称分量和所述非对称分量；以及
所述所关注参数的所述正确值的所述标识包括：
a)针对所述目标集合中的每个目标，导出所述对称分量的所述第一度量，并且使用所得到的所导出的第一度量和所述所关注参数的对应值，估计所述第一度量相对于所述参考范围的子区域中的所述所关注参数的所述值的变化率的至少符号；
b)针对所述目标集合中的每个目标，导出所述非对称分量的所述第二度量，并且使用所得到的所导出的第二度量和所述所关注参数的对应值，估计所述第二度量相对于所述参考范围的所述子区域中所述所关注参数的所述值的变化率的至少符号；
使用在步骤(a)中确定的所述第一度量的所述变化率的所述至少符号和在步骤(b)中确定的所述第二度量的所述变化率的所述至少符号，标识所述子区域在所述参考范围中的位置。


9.根据权利要求8所述的方法，包括：使用所述子区域的所标识的位置，从所述所关注参数的所述多个候选值中标识所述正确值。


10.根据权利要求8或9所述的方法，其中：
所述非单调变化至少大致为周期性变化；
所述所关注参数的值的参考范围与具有四个象限的所述周期性变化的一个周期相对应；以及
所述子区域的所述位置如下被标识：
当所述第一度量的所述变化率为正、并且所述第二度量的所述变化率为负时，确定所述子区域位于所述四个象限中的第一象限中；
当所述第一度量的所述变化率为正、并且所述第二度量的所述变化率为正时，确定所述子区域位于所述四个象限中的第二象限中；
当所述第一度量的所述变化率为负、并且所述第二度量的所述变化率为正时，确定所述子区域位于所述四个象限中的第三象限中；以及
当所述第一度量的所述变化率为负、并且所述第二度量的所述变化率为负时，确定所述子区域位于所述四个象限中的第四象限中。


11.根据权利要求10所述的方法，其中所述目标集合中的所述目标被选择使得对于所述集合中的所有目标，所述所关注参数的所述值在所述参考范围的同一象限中。


12.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，还包括：
多次执行第一拟合过程，所述第一拟合过程的每次执行包括：通过改变在数学模拟中使用的所述目标的数学模型中的一个或多个参数，将所述检测到的光瞳表示的所导出的非对称分量拟合到数学上被模拟的检测到的光瞳表示的非对称分量，直到拟合误差被最小化，所述一个或多个参数包括所述所关注参数，其中所述第一拟合过程的每次执行以所述参考范围的...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·U·雷曼，A·蔡亚马斯，S·塔拉布林，J·J·维塞拉尔，M·V·梅德韦德耶瓦，A·奥诺塞，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL