一种控制使用合格化的光学邻近效应校正(OPC)模型的成像过程的方法，所述方法包括：获取OPC模型，所述OPC模型被配置成在用于在图案化过程中使用后OPC设计在衬底上形成图案的过程中对预OPC设计的OPC修改的行为进行建模；在制造环境中使...

光刻过程是一种将所需图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的工艺。在光刻过程中，需要控制聚焦。公开了一种用于确定与衬底相关的性能参数的指纹的方法，例如在光刻过程期间要使用的聚焦值。确定参考衬底的性能参数的参考指纹。确定参考衬底的参考...

本发明提供了一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(1)，支撑件包括具有用于支撑所述衬底的支撑表面(11)的支撑主体(WT)和被配置成引起衬底与支撑主体的支撑表面之间的绕垂直于支撑表面的旋转轴线的相对旋转抖动运动的旋转抖动装置(50)。

一种用于评估印制图案的图像的方法由至少一个可编程处理器实施。所述方法包括获得(2310,2320)所述印制图案的第一平均图像，其中所述第一平均图像是通过对所述印制图案的原始图像进行平均化而生成的。所述方法也包括识别(2330)第一平均图...

本文中所描述的是一种用于减少设备性能变化的方法。所述方法包括：获得(i)参考设备(例如参考扫描器)的参考性能(例如CD)、(ii)从被选择用以再现所述参考性能的设备(例如，待匹配的扫描器)的多个光瞳琢面反射镜的多个自由度中所选择的一组初...

本发明涉及方法和相应设备，其能够操作为引起驱动辐射束与介质之间的相互作用以通过高阶谐波产生来产生发射辐射，所述装置包括：相互作用区，所述相互作用区被定位在相互作用平面且被配置成接收所述介质；束阻挡件，所述束阻挡件在所述相互作用平面的上游...

一种用于增加脉冲式辐射束的脉冲长度的装置(10)，该装置包括：分束器(16)，被配置为将输入辐射束(18)分成第一光束(24)和第二光束(22)；光学器件(12、14)，其中分束器和光学器件被配置为使得在光学器件所引起的第一光束的光学延...

用于确定跨越包括多个经图案化区的衬底的平面内变形(IPD)的方法和设备。所述方法包括：获得指示跨越所述多个经图案化区中的一个图案化区的局部应力分布的区内数据；基于所述区内数据来确定指示跨越所述衬底的全局应力分布的区间数据；以及基于所述区...

本发明提供一种平台设备，所述平台设备包括物体支撑件，所述物体支撑件包括在第一平面上具有外半径的环形突起，并且所述物体支撑件被配置成支撑在所述第一平面上具有大于所述环形突起的所述外半径的半径的物体。所述平台设备还包括传感器模块，所述传感器...

公开了一种用于控制制造半导体器件的制造过程的方法，所述方法包括：获得指示所述制造过程的性能的性能数据，所述性能数据包括横跨经受所述制造过程的衬底的性能参数的值；和基于所述性能数据和与所述制造过程的一个或更多个控制参数的动态行为有关的至少...

公开了用于在多束装置中观察样品的系统和方法。一种带电粒子光学系统可以包括：偏转器，其被配置为形成带电粒子源的虚像；和转印透镜，其被配置为在图像平面上形成带电粒子源的实像。图像平面可以至少形成在光束分离器附近，该光束分离器被配置为分离由源...

所披露的压电致动器(40)包括第一对电极(410)、第二对电极(420)、以及具有第一表面(44)和第二表面(46)的压电材料(42)。所述第一表面沿第一方向(x)和第二方向(y)布置。所述第一对电极包括被布置在所述第一表面上的第一电极...

描述一种用于确定蚀刻轮廓的方法。所述方法包括：确定起始遮蔽层轮廓。确定负载信息。所述负载信息指示针对所述遮蔽层轮廓的蚀刻速率对正被蚀刻的材料的数量和图案的依赖性。确定通量信息。所述通量信息指示所述蚀刻速率对入射到所述遮蔽层轮廓上的辐射的...

一种用于修改衬底保持器(20)的衬底支撑元件(21)的工具(1)，所述衬底支撑元件具有用于支撑衬底的支撑表面(22)，所述工具包括具有主体表面(3)的主体(2)，其中所述工具包括自所述主体表面的多个突起部(4)，所述多个突起部具有被配置...

本文公开了一种计算机可读介质，所述计算机可读介质上记录有指令，所述指令配置成使计算机系统至少：获得关于来自设计布局的一部分的热点的信息，所述设计布局将由器件制造过程处理到衬底上；针对所述热点确定所述器件制造过程的处理参数的取值范围，其中...

披露了一种用于获得对由一对结构散射辐射进行描述的按计算方式确定的干涉电场的方法，所述一对结构包括位于衬底上的第一结构和第二结构，所述方法包括：确定与由所述第一结构散射的第一辐射相关的第一电场；确定与由所述第二结构散射的第二辐射相关的第二...

一种方法包括用具有形成第一灰度图案的光幅度的光照射反射镜阵列，反射镜阵列包括多个反射镜，并且用光的相同幅度照射至少两个反射镜。该方法还包括将具有光幅度的光成像到衬底上以在衬底处产生不同于第一灰度图案的第二灰度图案。

本公开涉及对目标进行测量。在一个布置中，提供一种测量设备，所述测量设备具有被配置成利用辐射来照射目标和将反射辐射从目标引导到传感器的光学系统。所述光学系统的光瞳平面中的可编程的空间光调制器被编程为重定向多个光瞳平面区域中的每个光瞳平面区...

本发明提供了一种组件，包括低温保持器(6，7，8，9)和用于与光刻设备的磁悬浮和/或加速电机系统(1)一起使用的超导线圈(2)的扁平线圈层(3)。低温保持器包括两个绝热覆盖物(8，9)。线圈层布置在两个覆盖物之间。每个覆盖物包括被配置为...

公开了一种确定与衬底上通过光刻过程形成的结构有关的感兴趣特性(特别是聚焦)的方法以及相关联的图案形成装置和光刻系统。方法包括：使用图案形成装置上对应的经修改的掩模版特征在衬底上形成经修改的衬底特征，经修改的衬底特征被形成用于除了量测以外...