一种用于测量衬底上的标记的位置的设备，所述设备包括：照射系统，所述照射系统被配置成调节至少一个辐射束以形成在空间上串联地分布的多个照射斑，使得在所述衬底的扫描期间所述多个照射斑顺序地入射到所述标记上；和投影系统，所述投影系统被配置成投影...

一种用于确定在光学系统的物平面处的辐射的角强度分布的至少一部分的方法，所述角强度分布可以被称为物体水平光瞳形状。所述方法包括：将所述辐射引导到所述物平面中的衍射光栅上以便产生由所述光学系统至少部分地接收的至少一个非零阶衍射束；在传感器平...

描述了一种粒子束装置，该装置包括：‑载物台，被配置为保持半导体衬底；‑粒子束源，被配置为生成粒子束；‑检测器，被配置为检测由粒子束与衬底的相互作用引起的衬底的响应并且输出表示该响应的检测器信号；‑处理单元，被配置为：接收或确定衬底上的一...

一种用于将粒子固定到表膜隔膜以供后续用于光刻设备中的系统，该系统包括配置成将粒子固定到表膜隔膜的粒子固定装置。粒子固定装置配置成引导电子束或辐射束，使得电子束或辐射束在入射于粒子上之前通过表膜隔膜。

公开了一种衬底台、一种光刻设备和一种液体限制系统。提供了一种用于浸没系统的衬底台，所述浸没系统包括：投影系统，布置成将图像投影到衬底上；和液体限制系统，配置成将浸没液体限制在所述投影系统和所述衬底之间的空间中。所述衬底台包括：衬底保持器...

一种用于极紫外光源的系统包括：毛细管，毛细管包括从第一端延伸到第二端的侧壁，侧壁包括外壁和内壁，内壁限定从第一端延伸到第二端的通道；被配置为定位在毛细管的外壁处的致动器；以及在外壁与致动器之间的粘合剂，粘合剂被配置为机械耦合致动器和毛细...

一种晶片检查系统，包括与电子束检查工具通信的控制器，所述控制器包括电路以：经由光学成像工具采集样品上的缺陷的坐标；将电子束检查工具的视场(FoV)设置为第一尺寸以定位缺陷的子集；基于样品的扫描期间电子束检查工具产生的检查数据确定缺陷的子...

一种辐射系统，包括辐射源和辐射调节设备，其中所述辐射源被配置成提供具有从紫外延伸到红外的波长的辐射束，并且其中所述辐射调节设备被配置成将所述辐射束分离成至少两个束部并且还被配置成不同地调节所述至少两个束部。

本文中所描述的是一种从图案化过程的图案集合确定候选图案的方法，所述方法包括：获得(i)图案化过程的图案集合、(ii)具有第一特征和第二特征的搜索图案、和(iii)包括介于所述搜索图案的所述第一特征与所述第二特征之间的相对位置的第一搜索条...

披露了一种被配置为产生包括多个照射束的测量照射的量测装置(1600)，这些照射束中的每一个照射束是空间不相干的或伪空间不相干的并且在量测装置的照射光瞳中包括多个光瞳点。多个照射束中的每一个照射束中的每一个光瞳点在多个照射束中的其他照射束...

描述了一种用于将辐射束(B)聚焦于量测设备中的衬底的关注的区上的光学系统(400)。所述辐射束包括在软X射线或极紫外光谱范围中的辐射。所述光学系统包括第一反射器系统(410)和第二反射器系统(412)。所述第一反射器系统(410)和第二...

公开了一种改进的带电粒子束检查装置，更具体地公开了一种用于检查晶片的粒子束装置，包括用于检测快充电缺陷的改进的扫描机构。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括带电粒子束源，该带电粒子束源向晶片的区域传送带电粒子并且扫描该区域。改进的带电粒...

公开了一种用于将一个诸如导管的流体处理设备(52)连接到诸如另一导管的另一流体处理设备(70)的连接器，其中附接到连接器中的压盖(50)的配件(54)的面被设置互补的配合构造(58，60，82)，以便它们可以啮合而缺乏圆形对称性，使得当...

一种适于用在高温高压环境的导管，该导管具有由第一难熔金属制成的伸长部分和由第二难熔金属制成的装配部分，装配部分附接到伸长部分的轴向端部。附接可以通过焊接来实现，并且第二难熔金属的屈服强度可以大于第一难熔金属。金属。金属。

公开了用于最佳电子束量测指导的系统和方法。根据某些实施例，该方法可以包括：接收样本的获取的图像；基于对获取的图像的分析确定图像参数集；基于图像参数集确定模型参数集；基于模型参数集生成模拟图像集。该方法还可以包括：对模拟图像集执行临界尺寸...

本公开描述了一种用于校正图案化过程的量测数据的方法。方法包括：获得(P92)(i)经历图案化过程的衬底的量测数据(901)和(ii)量化衬底的量测数据的品质的品质度量(902，例如聚焦指数)；建立(P94)品质度量与量测数据之间的相关性...

公开了一种改进的带电粒子束检查装置，更具体公开了一种用于检测薄型器件结构的缺陷的粒子束检查装置。束检查装置包括：带电粒子束源，其用于在时间序列上将带电粒子引导到晶片的受检查的位置处；以及控制器，该控制器被配置为在时间序列上的不同时间对晶...

一种用于测量衬底上的多个对准标记中的每一个对准标记的位置的设备，包括：照射系统，配置成将来自辐射源的辐射束引导到所述衬底上的多个对准标记上；投影系统，配置成投影来自所述衬底的多个对准标记的图像，所述多个对准标记的图像是由所述辐射束从所述...

一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备，所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源用于产生照射辐射；至少两个照射分支，所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构，所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构；以及辐射切换器，所述辐...

根据本发明的一方面，提供一种对横跨用于将图案曝光至衬底上的图案形成装置扫描光子束或粒子束的步骤进行配置的方法，其中所述方法包括：确定被配置成改善所述曝光的品质的图案化校正的空间分辨率；和基于所确定的所述图案化校正的空间分辨率来确定所述束...