衬底支撑件、光刻设备、衬底检查设备、器件制造方法技术

本发明专利技术提供了一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(1)，支撑件包括具有用于支撑所述衬底的支撑表面(11)的支撑主体(WT)和被配置成引起衬底与支撑主体的支撑表面之间的绕垂直于支撑表面的旋转轴线的相对旋转抖动运动的旋转抖动装置(50)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底支撑件、光刻设备、衬底检查设备、器件制造方法相关申请的交叉引用本申请要求欧洲申请18190585.2的优先权，该案在2018年8月23日提交且该案的全部内容以引用的方式并入本文。
本专利技术涉及一种衬底支撑件、一种光刻设备、一种衬底检查设备和一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种构造为将所要图案应用到衬底上的机器。例如，光刻设备可以被用于集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可以将图案形成装置(例如掩模)的图案(通常还被称为“设计布局”或“设计”)投影到辐射敏感材料(抗蚀剂)层上，该辐射敏感材料(抗蚀剂)层被设置在衬底(例如晶片)上。衬底检查设备适合于检查已经被应用到衬底的图案。随着半导体制造工艺不断发展，电路元件的尺寸不断减小，而每个装置的功能元件(诸如晶体管)的数量在过去几十年中沿通常被称为“摩尔定律”的趋势稳定增长。为了跟上摩尔定律，半导体行业正在寻求能够创建越来越小的特征的技术。为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长确定了被图案化在衬底上的特征的最小大小。当前使用的典型波长是36本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于支撑衬底的衬底支撑件，包括：/n-支撑主体，所述支撑主体包括用于支撑所述衬底的支撑表面，/n-短行程模块，/n-长行程模块，/n-旋转抖动装置，/n其中所述短行程模块被布置成相对于所述长行程模块移动所述支撑主体，并且其中所述长行程模块被布置成移动所述短行程模块，并且其中所述旋转抖动装置被配置成引起所述衬底与所述支撑主体的所述支撑表面之间的、绕垂直于所述支撑表面的旋转轴线的相对旋转抖动运动。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180823 EP 18190585.21.一种用于支撑衬底的衬底支撑件，包括：
-支撑主体，所述支撑主体包括用于支撑所述衬底的支撑表面，
-短行程模块，
-长行程模块，
-旋转抖动装置，
其中所述短行程模块被布置成相对于所述长行程模块移动所述支撑主体，并且其中所述长行程模块被布置成移动所述短行程模块，并且其中所述旋转抖动装置被配置成引起所述衬底与所述支撑主体的所述支撑表面之间的、绕垂直于所述支撑表面的旋转轴线的相对旋转抖动运动。


2.根据权利要求1所述的衬底支撑件，
其中所述旋转抖动装置被配置成当所述衬底与所述支撑主体的所述支撑表面的至少一部分接触时，引起所述衬底与所述支撑主体的所述支撑表面之间的所述相对旋转抖动运动。


3.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑件，
其中所述支撑主体包括多个支撑主体突节，并且其中所述支撑主体突节的顶表面一起形成所述支撑表面。


4.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑件，
其中所述旋转抖动装置被配置成引起所述衬底与所述支撑主体和短行程模块的组合之间的相对旋转抖动运动。


5.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑件，
其中所述衬底主体包括多个台支撑突节，所述多个台支撑突节被配置成将所述衬底主体支撑在所述短行程模块上，所述台支撑突节被彼此间隔开，
并且其中所述旋转抖动装置包括致动器，所述致动器被布置在相邻的台支撑突节之间的空间中。


6.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑件，
其中所述旋转抖动装置被配置成引起所述短行程模块与长行程模块之间的相对旋转抖动运动。


7.根据前...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·P·M·B·弗穆伦，L·L·A·M·姆伦迪卡斯，A·F·J·德格罗特，J·A·C·M·皮南伯格，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL