匹配光瞳确定制造技术

本文中所描述的是一种用于减少设备性能变化的方法。所述方法包括：获得(i)参考设备(例如参考扫描器)的参考性能(例如CD)、(ii)从被选择用以再现所述参考性能的设备(例如，待匹配的扫描器)的多个光瞳琢面反射镜的多个自由度中所选择的一组初始引导自由度、以及(iii)与所述图案化过程的基于所述一组初始引导自由度来指示所述设备的性能的一个或更多个参数有关的曝光数据(例如CD、重叠、聚焦等)；和基于所述一组初始引导自由度来确定所述设备的匹配光瞳、和所述曝光数据，使得所述匹配光瞳减少所述设备的性能与所述参考性能之间的差异。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】匹配光瞳确定相关申请的交叉引用本申请要求于2018年8月24日提交的欧洲申请18190862.5的优先权，所述申请的全部内容通过引用而被合并入本文中。
本公开涉及改进器件制造过程的性能的技术。所述技术可以与光刻设备或量测设备结合使用。
技术介绍
光刻设备是将期望的图案施加至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在该情形下，替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生与IC的单层对应的电路图案，并且这种图案可以被成像至具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。通常，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。已知光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次性将整个图案曝光至每个目标部分上来照射所述目标部分；和所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上经由束对图案进行扫描的同时平行于或反向平行于这种方向同步地扫描衬底来照射每个目标部分。在将电路图案从图案形成装置转印至衬底之前，衬底可以经历各种工序，诸如涂底漆、抗蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于减少设备性能变化的方法，所述方法包括：/n获得(i)参考设备的参考性能、(ii)从被选择用以再现所述参考性能的设备的多个光瞳琢面反射镜的多个自由度中所选择的一组初始引导自由度、以及(iii)与所述图案化过程的基于所述一组初始引导自由度来指示所述设备的性能的一个或更多个参数有关的曝光数据；和/n由计算机系统基于所述一组初始引导自由度和所述曝光数据来确定所述设备的匹配光瞳，使得所述匹配光瞳减少所述设备的性能与所述参考性能之间的差异。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180824 EP 18190862.51.一种用于减少设备性能变化的方法，所述方法包括：
获得(i)参考设备的参考性能、(ii)从被选择用以再现所述参考性能的设备的多个光瞳琢面反射镜的多个自由度中所选择的一组初始引导自由度、以及(iii)与所述图案化过程的基于所述一组初始引导自由度来指示所述设备的性能的一个或更多个参数有关的曝光数据；和
由计算机系统基于所述一组初始引导自由度和所述曝光数据来确定所述设备的匹配光瞳，使得所述匹配光瞳减少所述设备的性能与所述参考性能之间的差异。


2.根据权利要求1所述的方法，其中所述匹配光瞳是与所述一组初始引导自由度相对应的所述多个光瞳琢面反射镜的子集和/或整个集合。


3.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述匹配光瞳是迭代过程，迭代包括：
基于所述设备的性能与所述参考性能之间的差异来改变所述多个光瞳琢面反射镜的所述一组引导自由度中的一个或更多个自由度；
根据与改变后的光瞳琢面反射镜相对应的所述曝光数据来获得当前性能；和
确定所述当前性能与所述参考性能之间的当前差异。


4.根据权利要求3所述的方法，其中改变一个或更多个自由度包括：与所述一组引导自由度相对应的一个或更多个反射镜的方向和/或强度的改变。


5.根据权利要求1所述的方法，其中基于用于再现所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·B·范奥斯汀，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL