二维衍射光栅制造技术

一种用于相位步进测量系统的二维衍射光栅，该相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射，该二维衍射光栅包括设置有通孔的正方形阵列的基底，其中衍射光栅是自支撑式的。应当理解，为了使设置有通孔的正方形阵列的基底是自支撑式的，在每个通孔和相邻通孔之间提供至少一些基底材料。一种设计用于相位步进测量系统的二维衍射光栅的方法，该相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射，该方法包括：选择二维衍射光栅的通用几何形状，该通用几何形状具有至少一个参数；以及选择至少一个参数的、产生二维衍射光栅的光栅效率映射的值，以便控制对相位步进信号的一次谐波作出的贡献。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】二维衍射光栅相关申请的交叉引用本申请要求2018年1月31日提交的欧洲专利申请18154475.0的优先权，该欧洲专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
本专利技术涉及一种用于相位步进测量系统的二维衍射光栅以及用于设计这种二维衍射光栅的方法，该相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射。特别地，本专利技术涉及一种用于剪切相位步进干涉测量系统的二维衍射光栅。
技术介绍
光刻设备是一种被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备例如可以在集成电路(IC)的制造中使用。光刻设备例如可以将图案形成装置(例如，掩模)处的图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以形成在衬底上的特征的最小大小。与例如使用波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用极紫外(EUV)辐射的光刻设备可用于在衬底上形成更小的特征，极紫外辐射具有在4-20nm的范围内的波长，例如6.7nm或13.5nm。使用投影系统将已通过图案形成装置图案化的辐射聚焦到衬底上。投影系统可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于相位步进测量系统的二维衍射光栅，所述相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射，所述衍射光栅包括基底，所述基底设置有通孔的正方形阵列，其中所述衍射光栅是自支撑式的。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180131 EP 18154475.01.一种用于相位步进测量系统的二维衍射光栅，所述相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射，所述衍射光栅包括基底，所述基底设置有通孔的正方形阵列，其中所述衍射光栅是自支撑式的。


2.根据权利要求1所述的二维衍射光栅，其中，所述基底包括：
支撑层；以及
辐射吸收层，
并且其中，所述通孔延伸穿过所述支撑层和所述辐射吸收层两者。


3.根据权利要求1或权利要求2所述的二维衍射光栅，其中，假设所述二维衍射光栅将与包括占空比为50％的一维衍射光栅的第一图案化区一起使用，则所述二维衍射光栅的几何形状被布置为产生使对相位步进信号的谐波作出的超过阈值的贡献的数量减少的光栅效率映射。


4.根据权利要求1或权利要求2所述的二维衍射光栅，其中，假设所述二维衍射光栅将与包括占空比为50％的二维棋盘式衍射光栅的第一图案化区一起使用，则所述二维衍射光栅的几何形状被布置为产生使对相位步进信号的谐波作出的超过阈值的贡献的数量减少的光栅效率映射。


5.根据前述权利要求中任一项所述的二维衍射光栅，其中，所述二维衍射光栅的几何形状被布置为产生抑制第(n，m)衍射阶的光栅效率的光栅效率映射，其中n或m为非零偶数。


6.根据前述权利要求中任一项所述的二维衍射光栅，其中，所述通孔是正方形孔，所述正方形孔的长度是相邻通孔的中心之间的距离的一半，并且所述正方形孔的侧边平行于所述通孔的正方形阵列的轴线。


7.根据权利要求1至4中任一项所述的二维衍射光栅，其中，所述二维衍射光栅的几何形状被布置为产生抑制除第(0，0)衍射阶以外的第(n，m)衍射阶的光栅效率的光栅效率映射，其中n±m是偶数。


8.根据权利要求7所述的二维衍射光栅，其中，所述通孔为从正方形形成的大致八边形，所述正方形相对于所述通孔的所述正方形阵列的轴线呈45°定向，并且所述正方形具有与相邻通孔的所述中心之间的距离相匹配的对角线尺寸，所述正方形的四个角中的每个角都被截断，以形成所述基底的在每对相邻通孔之间的大致矩形的连接部分。


9.根据权利要求8所述的二维衍射光栅，其中，所述基底的在每对相邻通孔之间的所述大致矩形的连接部分的宽度为相邻通孔的所述中心之间的距离的大约10％。


10.根据权利要求1至4中任一项所述的二维衍射光栅，其中，所述二维衍射光栅的几何形状被布置为产生抑制一个或更多个衍射阶的光栅效率的光栅效率映射，所述一个或更多个衍射阶是第(n，m)衍射阶，其中n±m是偶数。


11.根据权利要求10所述的二维衍射光栅，其中，所述二维衍射光栅的几何形状被布置为抑制(±2，0)和(0，±2)衍射阶。


12.根据权利要求11所述的二维衍射光栅，其中，所述正方形阵列中的所述通孔是圆形的，并且其中，所述圆形的孔的半径与相邻孔的所述中心之间的距离的比率大约为0.3。


13.根据权利要求10所述的二维衍射光栅，其中，所述二维衍射光栅的几何形状被布置为抑制(±1，±1)衍射阶。


14.根据权利要求13所述的二维衍射光栅，其中，所述正方形阵列中的所述通孔是圆形的，并且其中，所述圆形的孔的半径与相邻孔的所述中心之间的距离的比率大约为0.43。


15.一种设计用于相位步进测量系统的二维衍射光栅的方法，所述相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射，所述方法包括：
选择所述二维衍射光栅的通用几何形状，所述通用几何形状具有至少一个参数；
选择所述至少一个参数的、产生所述二维衍射光栅的光栅效率映射的值，以便控制对相位步进信号的谐波作出的贡献。

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【专利技术属性】
技术研发人员：P·C·德赫罗特，J·J·M·巴塞曼斯，D·Y·C·琼，Y·乔杜里，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL