样品检查中的图像对比度增强制造技术

本文中公开了一种方法，包括：在第一时间段期间，将第一数量的电荷沉积到样品的区域中；在第二时间段期间，将第二数量的电荷沉积到该区域中；在扫描带电粒子的束在样品上生成的探针斑点的同时，从探针斑点中记录表示带电粒子的束与样品的相互作用的信号；其中第一时间段期间的平均沉积速率和第二时间段期间的平均沉积速率不同。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】样品检查中的图像对比度增强相关申请的交叉引用本申请要求于2017年9月29日提交的美国申请62/566,195的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本公开涉及用于检查(例如，观察、测量和成像)诸如设备制造(诸如集成电路(IC)的制造)过程中使用的晶片和掩模之类的样品的方法和装置。
技术介绍
设备制造过程可以包括：将期望图案施加到衬底上。图案化设备(其可替代地称为掩模或掩模版)可以用于生成期望图案。该图案可以传递到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或几个管芯的一部分)上。图案通常经由成像传递到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。单个衬底可以包含连续图案化的相邻目标部分的网络。光刻装置可以用于该传递。一种类型的光刻装置称为步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分。另一类型的光刻装置称为扫描仪，其中通过在给定方向上通过辐射束扫描图案，同时平行于或反平行于该方向扫描衬底，来照射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案化设备传递到衬底。为了监测设备制造过程的一个或多个步本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方法，包括：/n在第一时间段期间，将第一数量的电荷沉积到样品的区域中；/n在第二时间段期间，将第二数量的电荷沉积到所述区域中；以及/n在扫描带电粒子的束在所述样品上生成的探针斑点时，从所述探针斑点中记录表示所述带电粒子的束和所述样品的相互作用的信号，/n其中所述第一时间段期间的平均沉积速率和所述第二时间段期间的平均沉积速率不同。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 US 62/566,1951.一种方法，包括：
在第一时间段期间，将第一数量的电荷沉积到样品的区域中；
在第二时间段期间，将第二数量的电荷沉积到所述区域中；以及
在扫描带电粒子的束在所述样品上生成的探针斑点时，从所述探针斑点中记录表示所述带电粒子的束和所述样品的相互作用的信号，
其中所述第一时间段期间的平均沉积速率和所述第二时间段期间的平均沉积速率不同。


2.根据权利要求1所述的方法，还包括：重复在所述第一时间段期间将所述第一数量的电荷沉积到所述区域中、以及在所述第二时间段期间将所述第二数量的电荷沉积到所述区域中。


3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一数量或所述第二数量为零。


4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一数量和所述第二数量不同。


5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一时间段的长度和所述第二时间段的长度不同。


6.根据权利要求1所述的方法，其中所述区域具有化学特性或物理特性的不均匀空间分布。


7.根据权利要求6所述的方法，其中所述化学特性或物理特性选自由组成、掺杂水平、电阻、电容、电感、厚度、结晶度、以及介电常数组成的组。


8.根据权利要求1所述的方法，其中使用所述带电粒子的束来进行沉积所述第一数量的电荷或沉积所述第二数量的电荷。


9.根据权利要求1所述的方法，其中使用包括电荷的另一束、而非使用所述带电粒子的束来进行沉...

【专利技术属性】
技术研发人员：王義向，张楠，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL