使用图像平面检测技术测量关注的参数的方法和设备技术

本文描述了检查设备、方法和与之相关联的系统。在非限制性实施例中，检查设备包括光学系统和成像系统。光学系统可被配置成输出入射到包括一个或更多个特征的目标上的照射束，并且当入射到目标上时被偏振以具有第一偏振。成像系统可被配置成获得表示由一个或更多个特征散射的至少照射束的部分的强度数据，其中照射束的部分具有与第一偏振正交的第二偏振；基于强度数据生成表示每个特征的图像的图像数据；并且基于具有第二偏振的照射束的部分的量来确定与特征相关联的关注的参数的测量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用图像平面检测技术测量关注的参数的方法和设备相关申请的交叉引用本申请要求于2018年2月14日提交的欧洲申请18156625.8的优先权，其全部内容通过引用合并于此。
本专利技术涉及用于例如能够在通过光刻技术制造器件中使用的量测的方法和设备，以及涉及使用光刻技术制造器件的方法。本专利技术具体涉及使用图像平面检测技术测量关注的参数的方法和设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所需的图案应用到衬底上(通常到衬底的目标部分上)的机器。例如，光刻设备可用于集成电路(IC)的制造。在该实例中，可使用替代地被称为掩模或掩模版的图案形成装置来形成待形成于IC的单个层上的电路图案。此图案可以转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分，一个或若干个管芯)。所述图案的转移通常是经由成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(例如，抗蚀剂)的层上。一般地，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。在光刻过程中，经常需要对所创建的结构进行测量，诸如用于过程控制和验证。用于进行这些测量的各种工具是已知的，包括通常用以测量临界尺寸(“本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种检查设备，包括：/n光学系统，其配置成输出照射束，所述照射束入射到包括一个或更多个特征的目标上，所述照射束配置成当入射到所述目标上时包括第一偏振；和/n成像系统，所述成像系统配置成：/n获得表示由所述一个或更多个特征散射的至少所述照射束的部分的强度数据，其中所述照射束的部分包括与所述第一偏振正交的第二偏振，/n基于所述强度数据，生成表示所述一个或更多个特征的每个特征的图像的图像数据，和/n基于具有所述第二偏振的所述照射束的部分的量，来确定与所述一个或更多个特征相关联的关注的参数的测量。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180214 EP 18156625.81.一种检查设备，包括：
光学系统，其配置成输出照射束，所述照射束入射到包括一个或更多个特征的目标上，所述照射束配置成当入射到所述目标上时包括第一偏振；和
成像系统，所述成像系统配置成：
获得表示由所述一个或更多个特征散射的至少所述照射束的部分的强度数据，其中所述照射束的部分包括与所述第一偏振正交的第二偏振，
基于所述强度数据，生成表示所述一个或更多个特征的每个特征的图像的图像数据，和
基于具有所述第二偏振的所述照射束的部分的量，来确定与所述一个或更多个特征相关联的关注的参数的测量。


2.根据权利要求1所述的检查设备，还包括：
第一滤光器部件，配置和布置成使得照射束传递经过所述第一滤光器部件、并且被引导至所述目标，所述第一滤光器部件使得所述照射束在入射到所述目标之前被偏振具有第一偏振；和
所述第二滤光器部件，配置和布置成与所述第一滤光器部件正交，使得所述第二滤光器部件接收所述照射束的部分，所述第二滤光器部件使得照射束的部分被偏振具有第二偏振。


3.根据权利要求2所述的检查设备，其中：
所述第一滤光器部件包括第一部段、第二部段、第三部段和第四部段，所述第一部段配置成使光偏振以具有第一偏振，所述第二部段配置成使光偏振以具有第二偏振，所述第三部段配置成使光偏振以具有第二偏振，所述第四部段配置成使光偏振以具有第一偏振；
所述第二滤光器部件包括第五部段、第六部段、第七部段和第八部段，所述第五部段配置成使光偏振以具有第二偏振、所述第六部段配置成使光偏振以具有第一偏振、所述第七部段配置成将光偏振至具有第一偏振，所述第八部段配置成使光偏振以具有第二偏振；且
所述第一滤光器部件和所述第二滤光器部件被取向为使得与传递经过所述第一部段的照射束相关联的辐射将传递经过所述第八部段，与传递经过第二部段的照射束相关的辐射将传递经过第七部段，与传递经过第三部段的照射束相关的辐射将传递经过第六部段，以及与传递经过第四部段的照射束相关的辐射将传递经过第五部段。


4.根据权利要求3所述的检查设备，其中所述第一滤光器部件和所述第二滤光器部件包括以下之一：s和p偏振滤光器、H和V偏振滤光器、左圆和右圆偏振滤光器、以及左椭圆和右椭圆偏振滤光器。


5.根据权利要求2所述的检查设备，其中所述第二滤光器部件至少包括第一部段和第二部段，所述检查设备还包括：
楔形元件，所述楔形元件与所述第二滤光器部件对准，并且还配置成：
将传递经过所述第二滤光器部件的第一部段的照射束的部分的第一粒子以相对于第一粒子在楔形元件上的入射角偏移第一角度，以及
将传递经过所述第二滤光器部件的第二部段的照射束的部分的第二粒子以相对于第二粒子在楔形元件上的入射角偏移第二角度，其中，由所述图像数据表示的所述图像包括代表被偏移所述第一角度的所述第一粒子的第一斑、以及代表被偏移所述第二角度的所述第二粒子的第二斑。


6.根据权利要求5所述的检查装置，其中由所述图像数据表示的图像包括图像内的四个斑，每个斑彼此偏移并且代表：
传递经过第一部段、第二部段、第三部段和第四部段中的每一个、并且从所述一个或更多个特征散射离开的照射束；和
传递经过第五部段、第六部段、第七部段和第八部段中的对应一个的所述照射束的部分。


7.根据权利要求1所述的检查设备，还包括：
具有第一偏振配置的第一滤光器部件；和
具有第二偏振配置的第二滤光器部件，其中所述第二偏振配置与所述第一偏振配置正交。


8.根据权利要求7所述的检查设备，其中：
所述第一滤光器部件包括第一半部和第二半部，与所述第一半部相比，所述第二半部相对于所述第一滤光器部件的中心是点对称的；并且
所述第二滤光器部件包括第三半部和第四半部，与所述第三半部相比，所述第四半部相对于...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·潘迪，周子理，G·范德祖，A·登博夫，M·G·M·M·范克莱杰，A·E·A·库伦，H·A·J·克拉默，P·C·欣南，M·H·M·范威特，A·蔡亚马斯，王淑锦，B·O·法格金杰·奥尔，A·弗玛，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL