量测方法和相关装置制造方法及图纸

公开了一种用于确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法和相关装置，特征被包括在包括噪声的图像(诸如扫描电子显微镜图像)内。该方法包括从图像确定参考信号；以及确定相对于上述参考信号的边缘位置。通过在与估计边缘位置的初始轮廓平行的方向上应用图像至一维低通滤波器，可以从图像确定参考信号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】量测方法和相关装置相关申请的交叉引用本申请要求于2018年3月23日提交的欧洲专利申请18163680.4的优先权，其全部内容通过引用合并于此。
本专利技术涉及在光刻过程中将图案应用到衬底上的方法和装置及其测量。
技术介绍
光刻设备是一种将期望图案应用到衬底上、通常是应用到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将图案化装置(其替代地称为掩模或掩模版)用于生成要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干管芯的一部分)上。图案的转印通常是经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行的。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案来照射每个目标部分，同时同步地平行或反平行于该方向扫描衬底。也可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案化装置转印到衬本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法，所述特征被包括在包括噪声的图像内；所述方法包括：/n从所述图像确定参考信号；以及/n相对于所述参考信号确定所述边缘位置。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180323 EP 18163680.41.一种确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法，所述特征被包括在包括噪声的图像内；所述方法包括：
从所述图像确定参考信号；以及
相对于所述参考信号确定所述边缘位置。


2.根据权利要求1所述的方法，其中已经使用扫描电子显微镜量测获取所述图像。


3.根据权利要求1所述的方法，其中所述从所述图像确定参考信号包括：
在与初始轮廓平行的方向上应用一维低通滤波器于所述图像，以获取包括所述参考信号的经滤波的图像。


4.根据权利要求3所述的方法，包括步骤：估计所述初始轮廓使得所述初始轮廓包括正被确定的边缘的初始估计。


5.根据权利要求3所述的方法，其中所述一维低通滤波器包括一维高斯模糊。


6.根据权利要求3所述的方法，其中在应用所述一维低通滤波器之前，所述方法包括：变换包括所述边缘的所述图像的至少一部分，以在包括被定义为平行于所述初始轮廓的第一维度和被定义为垂直于所述初始轮廓的第二维度的变换空间中获取经变换的图像。


7.根据权利要求6所述的方法，包括：将所述经滤波的图像和所述经变换的图像中的一者与所述经滤波的图像和所述经变换的图像中的另一者匹配以确定经匹配的轮廓，所述经匹配的轮廓包括所述边缘位置的经匹配的估计...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·J·胡伊斯曼，R·C·玛斯，H·A·迪伦，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL