【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光刻设备的定位系统相关申请的交叉引用本申请要求于2018年3月9日提交的EP申请18160934.8的优先权，其全部内容通过引用合并于此。
本专利技术涉及一种定位系统、一种包括这样的定位系统的光刻设备、一种用于包括这样的定位系统的光刻设备的投影系统、一种用于包括这样的定位系统的光刻设备的台架设备、一种包括这样的定位系统的电子束检查设备、以及一种定位结构的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将期望图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将图案形成装置(patterningdevice)(备选地称为掩模或掩模版)用于生成要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯的一部分)上。图案的转印通常是通过成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行的。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描仪，在步进器中通过一次将整个图...
【技术保护点】
1.一种用于定位结构的定位系统，所述定位系统包括致动器和控制单元，所述控制单元用于响应于由所述控制单元接收的位置设定点来控制所述致动器，所述致动器包括：/n磁体组件，包括被配置为提供磁通量的磁体，以及/n线圈组件，其中所述线圈组件和所述磁体组件相对于彼此可移动，所述线圈组件包括线圈，所述线圈的致动通过驱动电流在所述磁体组件与所述线圈组件之间提供力来进行，/n其中所述磁体组件包括另外的电导体，所述另外的电导体包括非铁磁导电材料，其中所述另外的电导体磁耦合到所述线圈组件的所述线圈，并且形成短路路径，所述短路路径用于由于所述线圈中的致动器电流而在所述另外的电导体中感应出的感应电流。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180309 EP 18160934.81.一种用于定位结构的定位系统，所述定位系统包括致动器和控制单元，所述控制单元用于响应于由所述控制单元接收的位置设定点来控制所述致动器，所述致动器包括：
磁体组件，包括被配置为提供磁通量的磁体，以及
线圈组件，其中所述线圈组件和所述磁体组件相对于彼此可移动，所述线圈组件包括线圈，所述线圈的致动通过驱动电流在所述磁体组件与所述线圈组件之间提供力来进行，
其中所述磁体组件包括另外的电导体，所述另外的电导体包括非铁磁导电材料，其中所述另外的电导体磁耦合到所述线圈组件的所述线圈，并且形成短路路径，所述短路路径用于由于所述线圈中的致动器电流而在所述另外的电导体中感应出的感应电流。
2.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述另外的电导体的电导率超过所述磁体的电导率。
3.根据权利要求1或2所述的定位系统，其中所述另外的电导体面对所述线圈组件。
4.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，其中由所述另外的电导体形成的所述短路路径与所述线圈的绕组同轴。
5.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，其中所述另外的电导体形成短路环。
6.根据权利要求5所述的定位系统，其中所述线圈组件和所述磁体组件各自具有环形横截面，由所述另外的电导体形成的所述短路环与所述线圈组件和所述磁体组件的环形横截面同轴。
7.根据权利要求6所述的定位系统，其中所述另外的电导体被布置在所述磁体的面对所述线圈组件的表面处。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的定位系统，其中所述磁体组件还包括背铁，所述背铁包括铁磁材料，所述背铁用于引导所述磁体的所述磁通量，其中所述背铁从所述磁体沿着所述线圈组件的一侧延伸，所述另外的电导体被布置在所述背铁的面对所述线圈组件的表面处。
9.根据权利要求1至4所述的定位系统，其中所述致动器形成线性致动器，以用于在沿着平面的方向上的致动，所述磁体组件和所述线圈组件面对所述平面，所述另外的电导体在所述磁体组件上形成沿着所述平面延伸的平面层。
10.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，其中所述致动器包括定子和相对于所述定子可移动的动子，所述定子包括所述磁体组件，并且所述动子包括所述线圈组件。
11....
【专利技术属性】
技术研发人员：M·H·基曼，J·韦瑟林，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，卡尔蔡思SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL
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