控制系统和方法技术方案

一种用于控制激光器的控制系统，包括：用于感测物理值的传感器，物理值指示由激光器发出的激光束的特性；开关；第一控制器和第二控制器。每个控制器被配置为：从传感器接收又一传感器值；基于接收到的又一传感器值调整接收到的设定点值以给出输出值；并且使激光器根据该输出值进行操作。开关被配置为在控制器之间切换，使得输出值以循环的方式从每个控制器被提供。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】控制系统和方法相关申请的交叉引用本申请要求于2018年3月12日提交的EP申请18161160.9的优先权，该申请通过引用整体并入本文。
本专利技术涉及一种用于控制辐射源的控制系统和方法，并且具有应用到用于光刻装置的辐射源的特别但非排他地应用。
技术介绍
光刻装置是将期望图案施加到衬底的目标部分上的机器。例如，光刻装置可以用于制造集成电路(IC)。在该情况下，图案化装置(备选地称为掩模或掩模版)可以被用来生成与IC的单个层相对应的电路图案，并且该图案可以被成像在具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分上(例如，包括一个或多个裸片的一部分)。通常，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上经由波束扫描图案来照射每个目标部分，同时同步扫描与该方向平行或反平行的衬底)。计算机存储器的存储器单元的发展导致了“3D”堆叠存储器的创建，该堆叠存储器以多个楼层的形式来布置而不是被布置为单层。3D存储器的使用意味着抗蚀剂变得明显更厚。例如，单层存储器(也被称为“2D”存储器)的厚度可以为大约200nm，然而3D存储器可以为几微米厚。这种厚的抗蚀剂可能需要在抗蚀剂的整个厚度上以高剂量进行曝光。然而，增加的抗蚀剂厚度可能会导致在抗蚀剂的整个厚度上聚焦不良的问题。另外，这种高的形貌结构会导致明显的晶片弯曲，从而导致更进一步的聚焦问题。当前的解决方案试图通过瞄准厚抗蚀剂的中间附近的位置来优化聚焦。针对3D，“弯曲”晶片，也可以利用对晶片台高度和倾斜度进行较大调整来实现聚焦。然而，这可能会导致晶片中的局部应力以及晶片台的对准的问题。期望消除或减轻现有技术中的、无论是在本文中还是在其他地方标识的一个或多个问题。
技术实现思路
根据本专利技术的第一方面，提供一种用于控制激光器的控制系统，该控制系统包括：用于感测物理值的传感器，该物理值指示由激光器发出的激光束的特性；开关；第一控制器和第二控制器。每个控制器被配置为：接收设定点值；从传感器接收又一传感器值；基于接收到的又一传感器值调整接收到的设定点值以给出输出值；以及使激光器根据输出值进行操作。来自第一控制器的输出值不同于来自第二控制器的输出值，并且开关被配置为在控制器之间进行切换，使得输出值以循环方式从每个控制器被提供。控制器被配置为彼此通信，并且由第二控制器对设定点值进行的至少一个调整至少部分地通过由第一控制器对设定点值进行的至少一个调整而被确定。通过这种方式，有利地提供了对辐射源的改进控制。另外，通过启用控制系统的控制器之间的通信，由控制系统导致的对激光器的操作的调整可以被设置以便最小化对激光器的有害应力。控制器之间的通信可以以技术人员已知的各种方式来实现。激光器可以是脉冲激光器，并且开关可以被配置为以脉冲到脉冲为基础在控制器之间进行切换。备选地，取决于要求，开关可以根据不同的切换方案在控制器之间进行切换。激光器可以被配置为提供多于一种类型的输出，例如，不同波长的激光束。在激光器被配置为提供多于一种类型的输出的情况下，控制系统的每个控制器可以被配置为控制相应类型的输出，例如，每个控制器控制具有相应波长的激光束。通过这种方式，可以利用单个控制系统更准确地控制提供多于一种类型的输出(诸如，不同波长的激光束)的激光器。有利地，每个控制器可以包括限制器，该限制器被配置为根据预定限制来调整输出值。通过这种方式，限制可以被设置以便避免对激光器施加过大应力的连续调整。此外，每个控制器的限制器可以被配置为彼此通信。例如，限制器可以被配置为传送由每个限制器执行的条件重置的实例。每个控制器可以包括调谐单元，该调谐单元被配置为基于接收到的又一传感器值来调整设定点值以给出输出值。取决于要求，调谐单元可以包括PID模块、PIID模块、PII模块、PDD模块或其他架构体系。输出值可以被配置为控制激光器的能量剂量。备选地或附加地，输出值可以被配置为控制由激光器发出的波长。根据本专利技术的第二方面，提供一种包括根据第一方面的控制系统的辐射源，其中控制系统被配置为对辐射源的激光器进行控制。根据本专利技术的第三方面，提供一种光刻系统，该光刻系统包括根据第二方面的辐射源和光刻装置，该光刻装置包括：用于调节由辐射源发出的辐射束的照明系统、用于支撑图案化装置的支撑结构、用于向辐射束的横截面赋予图案的图案化装置、用于保持衬底的衬底台以及用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统。根据本专利技术的第四方面，提供一种用于使用第一控制器和第二控制器来控制激光器的参数的方法，该方法包括：在第一控制器和第二控制器之间循环，其中每个控制器执行以下步骤：a)接收参数的设定点值；b)从传感器接收又一传感器值；c)基于接收到的又一传感器值来调整接收到的设定点值以给出输出值；d)使激光器根据输出值进行操作；其中控制器彼此通信，并且其中由第二控制器对设定点值进行的至少一个调整至少部分地通过由第一控制器对设定点值进行的至少一个调整而被确定。要了解，术语‘第一’和‘第二’的使用没有时间限制。特别地，第二控制器可以在第一控制器之前控制激光器，反之亦然。根据本专利技术的第五方面，提供一种包括计算机可读指令的计算机程序，该计算机可读指令被配置为使计算机执行根据第四方面的方法。根据本专利技术的第六方面，提供了一种计算机可读介质，该计算机可读介质承载根据第五方面的计算机程序。根据本专利技术的第七方面，提供了一种用于辐射源的计算机装置，该计算机装置包括：存储处理器可读指令的存储器；以及处理器，该处理器被布置为读取和执行所述存储器中所存储的指令，其中所述处理器可读指令包括被布置为控制计算机执行根据第四方面的方法的指令。附图说明现在将参照所附示意图，仅通过示例的方式来描述本专利技术的实施例，其中对应的附图标记指示对应的零件，并且其中：图1描绘了根据本文描述的示例布置的光刻装置；图2描绘了用于控制辐射源的控制系统的示例；图3a至3c描绘了针对用于控制辐射源的控制系统的调谐单元的示例配置；图4描绘了用于控制辐射源的方法的示例的流程图；以及图5描绘了用于控制辐射源的方法的另一示例的流程图。具体实施方式尽管在本文中可以具体参考光刻设备在IC的制造中的使用，但是应当理解，本文中描述的光刻设备可以具有其他应用，诸如集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头等的制造。本领域技术人员将理解，在这种备选应用的上下文中，本文中对术语“晶片”或“裸片”的任何使用可以分别被认为是与更通用的术语“衬底”或“目标部分”的同义词。本文中指代的衬底可以在曝光之前或之后例如在轨道(通常将抗蚀剂层施加到衬底上并且显影曝光的抗蚀剂的工具)或量测或检查工具中进行处理。在适用的情况下，本文中的公开内容可以应用于这种和其他衬底处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于控制激光器的控制系统，所述控制系统包括：/n用于感测物理值的传感器，所述物理值指示由所述激光器发出的激光束的特性；/n开关；/n第一控制器和第二控制器，其中每个控制器被配置为：/n接收设定点值；/n从所述传感器接收又一传感器值；/n基于所接收到的又一传感器值调整所接收到的设定点值以给出输出值；/n使所述激光器根据所述输出值进行操作；/n其中：/n来自所述第一控制器的输出值不同于来自所述第二控制器的输出值；/n所述开关被配置为在所述控制器之间进行切换，使得输出值以循环方式从每个控制器被提供；/n所述控制器被配置为彼此通信；并且/n由所述第二控制器对所述设定点值进行的至少一个调整至少部分地通过由所述第一控制器对所述设定点值进行的至少一个调整而被确定。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180312 EP 18161160.91.一种用于控制激光器的控制系统，所述控制系统包括：
用于感测物理值的传感器，所述物理值指示由所述激光器发出的激光束的特性；
开关；
第一控制器和第二控制器，其中每个控制器被配置为：
接收设定点值；
从所述传感器接收又一传感器值；
基于所接收到的又一传感器值调整所接收到的设定点值以给出输出值；
使所述激光器根据所述输出值进行操作；
其中：
来自所述第一控制器的输出值不同于来自所述第二控制器的输出值；
所述开关被配置为在所述控制器之间进行切换，使得输出值以循环方式从每个控制器被提供；
所述控制器被配置为彼此通信；并且
由所述第二控制器对所述设定点值进行的至少一个调整至少部分地通过由所述第一控制器对所述设定点值进行的至少一个调整而被确定。


2.根据权利要求1所述的控制系统，其中所述激光器是脉冲激光器，并且所述开关被配置为以脉冲到脉冲为基础，在所述控制器之间进行切换。


3.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统，其中所述激光器被配置为提供多于一种类型的输出。


4.根据权利要求3所述的控制系统，其中每个控制器被配置为控制来自所述激光器的相应类型的输出。


5.根据任一前述权利要求所述的控制系统，其中每个控制器包括限制器，所述限制器被配置为根据预定限制来调整所述输出值。


6.根据权利要求5所述的控制系统，其中每个控制器的所述限制器被配置为彼此通信。


7.根据任一前述权利要求所述的控制系统，其中每个控制器包括调谐单元，所述调谐单元被配置为基于所接收到的又一传感器值调整所述设定点值以给出所述输出值。


8.根据任一前述权利要求所述的控制系统，其中所述输出值被配置为控制所...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·P·戈德弗里德，F·埃弗茨，W·P·E·M·奥普特·鲁特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL