本发明提出光刻装置及设备制造方法。采用一传感器４检测自一反射器３所辐射的发光射线５，发光射线５是由入射至所述反射器３的一表面３ａ上的所述辐射光束２所引起的状态改变的结果。特定波长的发光射线５的强度可用于确定辐射光束２的强度。

本发明提出光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件。在密封有基片平台ＷＴ的壳体１０与用于制备基片的处理单元１１之间传递基片，在一个基本不含杂质的环境中进行，这样基片上的抗蚀剂在杂质中暴露的最少，其中处理单元用于使基片曝光并在曝光后对基...

一种光刻装置，包括：　　　　－用于提供辐射投影光束的照明系统；　　　　－用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于使所述投影光束的横截面形成一定的图案；　　　　－用于固定衬底的衬底台，衬底固定器包括多个从一个表面上直立出来并具...

一种器件制造方法，包括步骤：　　　　提供具有第一和第二表面的第一衬底；　　　　蚀刻所述衬底的所述第一表面到第一深度，产生至少一个对准标记，所述对准标记包括标准对准图案的镜像；　　　　将所述第一衬底的所述第一表面粘结在第二衬底上；　　　　...

一种光刻装置，包括：　　　　用于提供辐射投射光束的照明系统，该照明系统限定光瞳平面内辐射光束的光强分布，该照明系统包括用于将投射光束以与由该光学元件确定的与方向相关的光强分布在一定方向范围内偏转；　　　　用于支撑构图部件的支撑结构，所述...

一种杂质屏蔽，用于使来自辐射源的辐射通过，并捕获来自所述辐射源的碎片，所述的杂质屏蔽包括从主轴沿径向延伸的许多薄片，每一所述的薄片被定位在包含所述主轴的各自的平面内，其特征在于，该杂质屏蔽包括内环和外环，每一所述的薄片被可滑动地定位在所...

一种盒，它能封闭掩模（ＭＡ），其特征在于：该盒（７０）对于至少一个预定波长至少是部分透明的，它是被按这样的方式构成的，使得可以利用所述波长的光从掩模（ＭＡ）的盒（７０）外面得到象。

一种光刻投射装置，包括：　　　　－用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；　　　　－用于保持基底的基底台，所述基底包括具有空间周期性变化光学特性的对准结构；　　　　－光学对准系统，设置为　　　　－利...

一种光刻投影装置，包括：　　　　辐射系统，包括辐射源和用于提供辐射投影光束的照明系统；　　　　用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；　　　　用于保持基底的基底台；　　　　用于将带图案的光束投影到基...

一种光刻投影装置，包括：　　　　辐射系统，可提供投影光束；　　　　支承结构，用来支承图案形成机构，所述图案形成机构根据希望的图案使所述投影光束具有所需要的图案；　　　　基片台，用来固定基片；和　　　　投影系统，可将带图案的光束投射到基片...

本发明包括一种用于电容性地检测支撑结构上的物体２１的检测组件２０，包括至少一个设置在支撑结构２３附近的电极２５和至少一个连接到至少一个电极２５的电缆２９，所述至少一个电缆２９具有第一导线２８和第二导线２６，所述第一导线２８连接到串联连接...

一种用于光刻投射装置的水平传感器，该水平传感器包括一个光源、一个第一反射器、一个第二反射器以及一个检测器，该第一反射器定位成使来自光源的光导向晶片表面，该第二反射器定位成将从晶片表面反射的光导向检测器，其中对第一和第二反射器进行选择，从...

一种用于光刻装置的构图装置，例如掩模，包括坯料层、在坯料层表面上的不透明材料层的带图案层；和覆盖所述表面的全氟聚醚液体薄膜。一种构图装置的制造方法包括提供具有坯料层和在坯料层表面上的带有图案的不透明材料层的构图装置；在所述表面涂覆覆盖该...

公开了一种光刻装置（１），其包括可夹紧物体（Ｗ；ＭＡ；５）的支撑结构（ＭＴ；ＷＴ）。支撑结构（ＭＴ；ＷＴ）和夹紧于其上的物体（Ｗ；ＭＡ；５）形成了隔腔。供给装置（１１）与隔腔相连并为隔腔提供流体。供给装置（１１）包括仪表（１５），其可测...

一种器件制造方法，所说的方法包括如下步骤：　　　　一使用一个辐射系统提供一个辐射束；　　　　一向由辐射敏感材料构成的基板投射辐射束；　　　　一规定一条包含位置和／或取向的轨迹，它是基板相对于辐射束遵循的时间的函数，其中所说的轨迹是用于连...

一种光刻投影装置，包括：　　　　光网平台单元，包括用来支承形成图案机构的支承结构，和短行程单元，用来细调所述支承结构的位置；所述形成图案机构可根据要求的图案使所述投影光束形成图案；　　　　基片台，用来固定基片；和　　　　投影系统，用来将...

一种光刻投影装置，包括：辐射系统，用于产生辐射的投射光束；支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想的图案而对投射光束构图；基底台，用于固定基底；投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上，以及偏轴对准系统，包括辐射源，该辐...

一种光刻投影装置，配有一种用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束的器件。该器件包括第一和第二光楔，其中第二光楔和第一光楔具有相对于彼此的相对位置。至少一部分计量光束沿入射光轴在第一光楔的第一主要表面处进入该器件，穿过第一和第二光楔，并在...

本发明涉及一种包括气体冲洗系统的光刻投射装置，其中该气体冲洗系统和基底为在气体冲洗系统和基底间的径向气流限定一间隙，并且其中气体冲洗系统还包括一些用于产生径向气流的额外出口，并且其中所用的气体冲洗系统产生径向气流，使得在所述间隙任意位置...

本发明涉及一种用于光刻投影设备中的洛伦兹致动器。本发明通过采用由高热导性材料制成的分隔层分隔开的多个线圈而对现有技术的洛伦兹致动器的热性能予以改善，所述分隔层与冷却元件很好地热接触。以这种方式，热量从线圈中心附近的热点区域迅速流到冷却元...