在用于光刻装置的反射镜上预定金属顶层（８）的应用，用于光刻装置的反射镜，以及具有这样反射镜或者设置了具有这样应用的顶层的反射镜的光刻装置。该装置具有提供所需波长例如ＥＵＶ辐射的源（ＳＯ）。该源（ＳＯ）产生不希望有的金属颗粒流，它们在反射...

将液体供给到投影系统的最后元件和基底之间的空间。朝真空室的气流可防止湿气逸出到投影装置的其它装置。这保护了光刻装置的复杂装置免受湿气的损坏。

本发明涉及一种光刻装置，包括用于提供辐射投射光束的照射系统、用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于赋予投射光束带图案的横截面、不漏颗粒的储存容器，其限定用于储存构图结构的储存空间，其中将储存容器设置成与输送容器耦合，以使输送容器通...

在使用１５７毫微米辐射的光刻装置中，在已经使用了低流量净化模式之后，在低强度下激发投影光束，并监测衬底表面处的强度。当衬底表面处的强度表示光束路径上的传输回到正常水平时，就确定可以安全地重新开始曝光。

一种单独可控元件阵列包括多个元件，每个元件由堆叠的多个介电材料层组成，至少其中的一层是电光材料，使得其对于在给定方向上被平面偏振的辐射的折射率可以通过施加电压来改变，从而改变在该层和相邻层之间的边界的反射／透射特性。

一种光刻装置，其包括：照射系统，用于提供辐射投影光束；物品支撑件，用于支撑要放置在所述物品支撑件上处于所述辐射投影光束的光路中的平坦物品，该物品支撑件包括多个支撑凸起，所述多个支撑凸起限定了一个支撑区域，用于提供平坦的支撑平面；和布置在...

提供的光刻装置包括用于保持基底Ｗ的基底台ＷＴ，用于将带图案的光束投射至基底Ｗ的目标部分之上的投影系统ＰＬ，以及用于提供参考表面的隔离参考框架ＭＦ，相对于该参考框架测量基底Ｗ，其中，参考框架ＭＦ包括具有高热膨胀系数的材料。

间接检测辐射通量，也即不是检测基本辐射通量自己本身而是检测二次辐射通量。该二次辐射通量由基本辐射通量通过转换成为二次辐射通量。本发明中的测量系统，可以由经荧光层发射的辐射产生的测量信号得出以下量值：ＥＵＶ辐射的强度，光学组件的光学层的污...

多个对准标记以相对于基底的晶轴成一定角范围印制在基底上的抗蚀剂中。利用各向异性刻蚀方法将这些标记刻蚀在基底中，标记使刻蚀之后它们的视位置取决于它们相对于晶轴的取向。测量这些标记的视位置，并根据视位置获得晶轴取向。

本发明提供一种光刻装置，包括用于提供辐射投射光束的照射系统（ＩＬ），用于支撑构图部件（Ｍ）的支撑结构（ＭＴ），所述构图部件用于给投射光束的截面赋予图案，用于保持基底（Ｗ）的基底台（ＷＴ），用于将带图案的光束投射到基底（Ｗ）的目标部分上的...

本发明披露一种光刻装置。该光刻装置包括提供辐射光束的照射系统和支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置配置成在横截面内给辐射光束赋予图案。该装置还包括支撑基底的基底支座，和投影图案光束到基底上靶区的投影系统。该照射系统包括生成远紫外线辐...

一种光刻装置，包括提供辐射光束的照射系统；物品支架，用于把将设于所述辐射光束光路中的平面物品支撑于其上；设置于所述物品支架中的回填气体输送装置，用于在所述物品被支撑于所述物品支架时，向所述物品的背面输送回填气体；以及夹持装置，用于在投射...

一种光刻装置，其包括用于将辐射光束投射到基底上的照射系统。该光刻装置还包括用于支撑基底和构图部件中的至少一个的吸盘组件，该构图部件用于将图案赋予给辐射光束的截面。一传热系统可在第一表面和第二表面之间操作。该传热系统能够在第一表面和第二表...

一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器（１３）中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会...

一种具有用于提供辐射的投影光束的辐射系统的光刻投影设备。这投影设备包括微粒供应装置（２２），其用于将吸气剂微粒供应到所述的辐射投影光束中，以便作为所述的投影光束中的污染物微粒吸气剂，其中所述的吸气剂微粒具有至少１ｎｍ的直径，优选在１００...

一种光学衰减器器件，其操作成使用至少一个光学衰减器元件去除具有比平均强度更高的部分辐射光束。该器件可以在辐射系统和／或光刻装置尤其是扫描光刻装置中应用，其中在光束的中心部分例如垂直于扫描方向提供一些光学衰减器元件。

一种光刻装置，包括设置在投影系统的中间焦点处或其附近的辐射衰减器或可变孔径系统，如遮光叶片。除了辐射衰减器或可变孔径系统之外，测量系统可以设置在中间焦点处。通过将这些系统的一个或多个放置于投影系统的中间焦点处而不是放置于照射系统的中间掩...

一种光刻设备，包括提供辐射的投射光束（ＰＢ）的照明系统（ＩＬ）、支持构图装置（ＭＡ）的支撑结构（ＭＴ），该构图装置（ＭＡ）用于使投射光束（ＰＢ）在其横截面上构成图案。所述设备进一步包括支持衬底（Ｗ）的衬底台（ＷＴ）、将受到构图的光束投射...

一种光学元件，包括具有至少一个其上布置了一材料层的表面的基板，选择该材料层使之对具有预定波长λ的辐射至少部分透射。该材料表面包括直径在１－５００ｎｍ范围内的颗粒，并且该层材料具有１０－２０００ｎｍ范围内的层厚。不希望有的辐射，例如ＵＶ和...

本发明公开了一种具有改善的聚焦控制系统的光刻装置。该光刻装置包括：设置成提供辐射束的照明系统；设置成支持图形化装置的第一支持结构，该图形化装置向辐射束截面传递预期图形；包含用于支撑衬底的衬底支架的第二支持结构；设置成把图形化的辐射束投影...