光刻设备、收集器和器件制造方法技术

一种光刻设备，包括提供辐射的投射光束（ＰＢ）的照明系统（ＩＬ）、支持构图装置（ＭＡ）的支撑结构（ＭＴ），该构图装置（ＭＡ）用于使投射光束（ＰＢ）在其横截面上构成图案。所述设备进一步包括支持衬底（Ｗ）的衬底台（ＷＴ）、将受到构图的光束投射到衬底（Ｗ）的目标部分上的投射系统（ＰＬ），以及收集器（１；１０１；２０１），收集器（１；１０１；２０１）设置成将从第一辐射源（ＳＯ）接收的辐射（Ｒ）传输到照明系统（ＩＬ）。所述设备包括至少一个加热器（２；１０２；２０２），用于当收集器基本上没有从第一辐射源（ＳＯ）接收辐射时加热收集器（１；１０１；２０１）。该发明专利技术还提供一种器件制造方法以及由此制成的器件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备。本专利技术还涉及一种器件制造方法，以及由此制造的器件。
技术介绍
光刻设备是一种施加指定图案到衬底的目标部分的机器。例如，可在集成电路(IC)的制造中使用光刻设备。在该情况下，构图装置，例如掩模，可用于产生对应于IC单层的电路图案，并且该图案可在衬底(如，硅晶片)上的目标部分(如，组成一个或几个小片的部分)上形成图案，该衬底具有一层辐射敏感材料(保护层)。通常，单个衬底包含依次露出的相邻目标部分的网。已知的光刻设备包括所谓的步进器(stepper)，其中每个目标部分通过在目标部分一次性露出整个目标部分而进行辐射，以及所谓的扫描器，其中每个目标部分通过在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案通过发射光束同时在平行或不平行的方向上同步扫描衬底而进行辐射。已知的装置包括从辐射源收集辐射的收集器。设置收集器用于发送所收集的辐射给照明系统。设置照明系统用于提供辐射的发射光束，其用于施加指定的图案到衬底的目标部分。收集器包括例如合适的辐射反射镜架。这种收集器从欧洲专利申请EP1225481中知道，其在此结合作为参考。尤其是，设置收集器以聚焦从辐射源接收的输入辐射到小聚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：照明系统（ＩＬ），用于提供辐射的投射光束（ＰＢ）；支撑结构（ＭＴ），用于支撑构图装置（ＭＡ），该构图装置（ＭＡ）用于使投射光束（ＰＢ）在其横截面上具有图案；衬底台（ＷＴ），用于支承衬底（Ｗ）； 投射系统（ＰＬ），用于将带图案的光束投射到衬底（Ｗ）的目标部分上；以及收集器（１；１０１；２０１；３０１），被设置成用于将从第一辐射源（ＳＯ）接收的辐射（Ｒ）传输到照明系统（ＩＬ）上，其中所述设备包括至少一个加热器（２； １０２；２０２；３０２），以在收集器（１；１０１；２０１；３０１）基本上...

【技术特征摘要】
US 2004-1-16 10/7582701.一种光刻设备，包括照明系统(IL)，用于提供辐射的投射光束(PB)；支撑结构(MT)，用于支撑构图装置(MA)，该构图装置(MA)用于使投射光束(PB)在其横截面上具有图案；衬底台(WT)，用于支承衬底(W)；投射系统(PL)，用于将带图案的光束投射到衬底(W)的目标部分上；以及收集器(1；101；201；301)，被设置成用于将从第一辐射源(SO)接收的辐射(R)传输到照明系统(IL)上，其中所述设备包括至少一个加热器(2；102；202；302)，以在收集器(1；101；201；301)基本上没有从第一辐射源(SO)接收辐射时加热该收集器。2.根据权利要求1的设备，其中所述加热器包括至少一个第二辐射源(2；212)。3.根据前述任一权利要求的设备，其中所述加热器包括至少一个电加热器(102；202；302)。4.根据前述任一权利要求的设备，其中所述收集器(1)包括具有反射内表面(13)的多个反射元件(11；111；211)，例如镜壳，用于反射从第一辐射源(SO)接收的辐射(R)，优选向焦点(FP)反射。5.根据权利要求4的设备，其中所述加热器(2；102；202；302)设置成提供热给收集器(1；101；201；301)的所述反射元件(11；111；211)。6.根据权利要求4或5的设备，其中将至少多个辐射反射元件(211)连接到热传导元件(212，218)，其中加热器(202)至少设置成通过所述热传导元件(212，218)的热传递而加热所述反射元件(211)。7.根据前述任一权利要求的设备，其中所述加热器(2；102；202；302)至少包括或者连接到一个控制器(4)，例如计算机，用于控制所述加热器(2；102；202；302)。8.根据权利要求7的设备，其中控制器(4)设置成当第一辐射源(SO)不作用时启动加热器(2；102；202；302)。9.根据权利要求7或8的设备，其中所述控制器(4)设置成当检测到收集器(1)温度下降时启动加热器(2；102；202；302)。10.根据前述任一权利要求的设备，其中所述加热器(2；102；202；302)设置成维持收集器(1；101；201；301)的至少一部分(11；111；211；311)在某个基本恒定的运行温度。11.根据前述任一权利要求的设备，其中所述加热器(2；102；202；302)设置成维持收集器(1；101；201；301)的至少一部分(11；111；211；311)在某个基本平均运行温度的某个范围内。12.根据前述任一权利要求的设备，其中所述加热器(2；102；202；302)还设置成当收集器(1；101；201；301)从所述辐射源(SO)接收辐射(R)时加热收集器(1；101；201；301)的至少一部分(11；111；211；311)。13.根据前述任一权利要求的设备，包括一个或多个温度感应器(6)，用于测量收集器(1；101；201；301)的至少一部分(11；11...

【专利技术属性】
技术研发人员：JHJ穆尔斯，JCL弗兰肯，U米坎，HJ沃尔马，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]