光刻设备具有用来移动带有标记（Ｍ３）的对象的执行器，所述标记具有多个排列成行和列的结构（１９）。对准装置包括光源、光学系统和检测器。光源和光学系统产生在与列平行的第一方向延伸的第一斑点部分（２４ｘ）和在与行平行的第二方向延伸的第二斑点部...

一种系统和方法用于引导辐射束以非垂直地照射用于构图该辐射束的单独可控元件的构图阵列。这些单独可控元件可以改变该辐射束的远心。可以通过凹面镜或使用在这些单独可控元件的物场中放置的折叠式反射镜来将该辐射束投射到这些单独可控元件上。可替换地，...

一种光刻设备包括投射系统和单独可控单元阵列，所述投射系统配置成将辐射束以子辐射束阵列的形式投射到衬底上；所述单独可控单元阵列配置成调制子辐射束。所述设备还包括包含至少一个数据变换装置的数据路径，所述数据变换装置配置成至少部分将确定所需图...

公开了一种浸入式光刻装置中的最后元件，其在最靠近衬底的表面上具有粘合在该表面上的层，还包括由与上述层相同的材料所形成的边缘阻碍物，其从该层中远离衬底地延伸出来，以便将最后元件相对于液体隔离开。在一个实施例中，该最后元件通过层和／或边缘阻...

公开了一种光刻装置，其具有可变形透镜元件，图案化的辐射光束可设置成在到达衬底之前通过该可变形透镜元件，并且具有可变形透镜促动器，该可变形透镜促动器设置成可传递基本上平行于投影系统光轴的作用力以及独立地位于该可变形透镜元件的多个子区域处并...

光刻设备使用偏振光改善成像特性，例如曝光宽容度，同时保持和延长光刻设备中照射系统的寿命。

本发明涉及用于光刻设备中确定衬底表面高度的水平传感器。该水平传感器包括发射器和接收器，其中该发射器布置成发射被导向衬底表面预定位置的信号，使得该信号被衬底至少部分反射以形成反射信号。接收器布置成接收至少部分反射信号，水平传感器布置成基于...

光刻装置包括第一可移动元件（例如浸入供液系统），其在操作中与第二可移动元件（例如衬底台）的表面接触。另外，该光刻装置包括用于控制第二可移动元件的位置量的第二元件控制器（例如衬底台控制器）。由例如第一和第二可移动元件相对于彼此的移动所引起...

一种设有辐射源、构图结构、投影系统、基板和用于将气体从投影系统和基板之间的区域排出的气体冲洗系统的曝光装置。

一种光刻照射装置和方法，包括：从多个对应的辐射源接收多个源辐射光束；使多个源辐射光束沿公共光束路径偏转，由此生成了辐射投影光束；为辐射投影光束赋予截面图案；和将构图的辐射投影光束投影到基板的目标部分上。

公开了一种包括用于支撑基底的支撑台的设备。该支撑台包括在使用中用于支撑基底的多个接触基底的支撑突起。支撑台包括多个传热突起，当基底由支撑突起支撑时，该传热突起在使用中朝基底延伸但是不接触基底。用于和基底进行热交换的含有气体的换热间隙在传...

一种用于测量由基板提供的信息的方法，该基板包括由光刻设备产生的特征，该方法包括：　　　　将光束投影到设置在基板上的特征上方和／或附近的标记器上；以及　　　　由传感器检测所述标记器提供的信息；　　　　其中涂层设置在基板上，使得涂层位于光束...

一种光刻装置包括：构造为使辐射束达到要求的和用来将残骸粒子从辐射源所发出的辐射中过滤出去的过滤系统，其中该过滤系统包括多个用来捕获残骸粒子的薄片，其中多个薄片中的至少一个薄片包括至少两个部分，这两个部分具有相互不同的取向，并且沿着基本上...

一种光刻装置，包括：构造成形成射线的投射光束的辐射系统；滤波系统，设置成在使用中将残余粒子过滤在由辐射源放射的射线的预定截面之外，其中滤波系统包括用于俘获残余粒子的至少第一组金属薄片和第二组金属薄片；以及构造成将射线的透射光束投射到衬底...

提供了一种用于修正沉浸光刻装置的曝光参数的方法。在该方法中，使用投射穿过在沉浸光刻装置的投影系统与衬底台之间的液体的测量光束来测量曝光参数，并根据物理特性的变化来确定偏移以至少部分地修正测量的曝光参数，所述物理特性影响用测量光束所做的测...

本发明公开了一种浸没光刻装置，在所述装置中，一个或多个液体分流器设置在液体限制结构所包围的间隙中。液体分流器的功能是阻止一个或多个浸没液体回流区的形成，回流区可以导致在所述间隙中的浸没液体的折射率改变，进而造成成像错误。

衬底处理设备，包括光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统，用于在投影束的截面赋予图案的单独可控元件阵列，用于把已构图束投影到衬底目标部分的投影系统。该处理设备也包括设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置，和设置成从...

围绕充满液体的空间的密封元件，具有在其下表面对相对低的压力源和相对高的压力源开口的凹槽，通过该凹槽液体和／或气体从所述密封元件和所述基底之间排出。

本发明涉及一种在采用封闭面来限制液体供给系统中的液体时减少光刻装置中的浸液污染的方法。为了避免或降低由封闭面与液体供给系统碰撞而造成的颗粒污染，封闭面保持在与液体供给系统相距一定距离的地方，使得封闭面与液体供给系统之间没有碰撞，但是液体...

公开了用于减小光刻装置的液体供给系统中的压力梯度的各种类型的压力调节器件，液体供给系统具有构造成可在光刻装置的投影系统与衬底台之间至少部分地限制液体的液体限制结构。高的压力梯度会引起液体供给系统和／或液体限制结构中的颗粒污染。例如可以利...