一种用于测量基片上的显微结构的参数的度量装置，该装置包括设置成可产生测量光束的超连续光谱光源、设置成可将该测量光束导引到该基片上的光学系统以及用于探测被该结构反射和／或衍射的辐射的传感器。

器件制造法使用的一个或多个聚焦设置的确定可通过印制多个具有不同聚焦设置的目标标记，并使用散射计，如离线的散射计，测量作为聚焦指示的目标标记的性质。

一种光刻装置，其包括照明系统，该照明系统具有多个光学元件，其能够调节辐射光束从而在横截面中包括线偏振辐射的第一部分以及非偏振或圆偏振辐射的第二部分。该装置进一步包括构造为支承构图部件的支架，构图部件能够给照明辐射光束的横截面赋予图案以形...

一种产生光刻图案形成装置的方法，利用光刻投影装置把在图案形成装置中的图案转移到衬底，包括：定义形成在图案形成装置中的图案的特征，该特征具有选定的尺寸和定向以便在衬底上建立所需图像；调整特征的尺寸以补偿所需图像的位移误差和尺寸误差，该位移...

为了提高光刻装置的生产率，描述了一种用于保持两个构图部件的工作台装置。这些构图部件设置为图案沿扫描方向的间距对应于图案沿扫描方向的长度。通过这样做，可以通过用第一图案将第一管芯曝光、越过邻近第一管芯的第二管芯，并利用第二图案将邻近第二管...

本发明涉及一种选择栅格模型以在光刻设备中针对栅格变形来修正工艺配方的方法。首先，提供一组栅格模型。随后，通过对多个衬底上的多个对准标记执行对准测量来获得对准数据。对于每个栅格模型，检查对准数据是否适于求解该栅格模型。如果是的话，则栅格模...

一种通过在一高数值孔径透镜的光瞳面中测量一角分解光谱从而确定基底特性的设备与方法，所述角分解光谱是由反射离开所述基底的辐射形成的。所述特性可依角度和波长而变化，并可包括横向磁和横向电偏振光的强度及其相对相位差。

公开了一种用于改善的潜像叠对量测的装置和方法。在一个实施例中，采用散射计和过度曝光的叠对目标物来得到更稳健的重叠性测量。叠对量测和曝光可并行地进行。

本发明涉及一种光刻装置，其包括用于保持基底的基底台，用于将带图案的光束投影到基底靶部的投影系统；和配置成至少在三个自由度上测量所述基底台的位置的位移测量系统。所述位移测量系统包括配置成在第一方向测量基底台的位置的第一ｘ－传感器和配置成在...

一种在制造ＣＣＤ或ＣＭＯＳ图像传感器中使用的方法，其中覆盖有彩色辐射敏感材料层的基底具有投影到其上的带图案辐射光束。该带图案的辐射图案包括用于在产品管芯区域中形成器件特征的图案和用于在其它区域中形成对准标记特征的图案。这可以避免在位于彩...

在校准沉浸光刻设备的重叠性能时，使用正常且相反的曲折路径进行曝光得到两组重叠数据。然后使用这两组重叠数据消除由于晶片冷却造成的影响。

公开了一种设置成可将图案从图案形成结构转移到衬底上的光刻装置，其包括构造成可固定衬底的衬底固定装置和构造成在将衬底转移到衬底固定装置上之前、期间或这两者时可调节衬底的温度到大致上与衬底固定装置的温度相匹配的衬底温度调节装置。此外提供了一...

一种光刻装置，包括配置成向所述装置的内部空间供给第一气流的至少一个第一气体喷头和配置成向所述装置的内部空间供给第二气流的至少一个第二气体喷头，其中所述气体喷头配置成将第一气流和第二气流至少部分地朝向彼此引导。还提供一种方法，其用于调节器...

提供一种单曝光方法和双曝光方法，以减少掩模误差因子并提高光刻印刷步骤分辨率。本发明包括使用正色调抗蚀剂，将具有稠密线和间隙的需要图案分解为印刷在交错位置的半稠密间隙的两个子图案。每次曝光都在对两个半稠密间隙的相应掩模图案施加相对间隙宽度...

光刻设备包含调制辐射束的独立可控元件阵列、存储了由调制射束将要在衬底上形成的所需剂量的图案的压缩表示的压缩图案存储器和至少部分地对压缩表示进行解压缩的辞典解压缩器。辞典解压缩器包含外部辞典存储器、第一辞典解码器和第二辞典解码器，所述第一...

通过使用非平面的校正表面减小聚焦元件阵列的像场上的焦平面误差，所述校正表面成形为使得聚焦元件的焦点比当校正表面为平面时更接近单平面。例如，当在光刻系统的投影系统中使用聚焦元件阵列时可以使用这种布置。

一种用于补偿作用在光刻装置上的热效应的系统和方法。所述系统包括构图部件、投影系统、基底位置控制器和基于基底位置的膨胀补偿器。所述构图部件可调制辐射光束。所述投影系统将调制的辐射光束投影到基底靶部上。所述基底位置控制器使基底相对投影系统顺...

一种光刻装置，包括：　　　　构造成保持基底的基底台；和　　　　通过至少一个安装件安装在所述基底台上的物件，　　　　其中所述安装件连接在所述物件和所述基底台之间，并且包括弹性材料，从而允许所述物件相对所述基底台移动。

这里给出了一种用于在光刻系统中提高图像分辨率的双曝露方法。本发明包括：把要印刷在衬底上的所希望的图案分解成至少两个能够被光刻系统光学地分辨的组成子图案，利用在目标层之上的第一正性抗蚀剂层和相对薄的第二正性抗蚀剂层涂覆衬底，该目标层要用所...

一种在光学装置中调节至少一个光路的气体喷头，其中所述气体喷头包括具有喷头出口侧以向光路供给气体的气体分配室，所述气体分配室配置成将气体分配到光路，其中所述气体分配室包括大体上尖锐的锥形尖端。