一种光刻投影系统，包括：构成为提供辐射束的照明系统；构成为支撑图案化器件的支架，该图案化器件构成为将图案赋予到光束的截面中；构成为保持基板（Ｗ）的基板台（ＷＴ），构成为将图案化的辐射投影到基板（Ｗ）的目标部分上的投影系统；多个水平传感器...

本发明提供一种用于降低图案中假象的可见性的光刻设备。该设备包括照明系统、构图装置、投影系统以及调制装置。该照明系统提供辐射光束。该构图装置使光束图案化。该投影系统将光束投影到衬底的目标部分上。该调制装置调制光束，以便使用调制方案赋予图案。

用于检测关于曝光部分或曝光束的参数的系统和方法。该系统包括衬底台和测量台。设置该衬底台以定位衬底以接收来自光刻系统曝光部分的曝光束。测量台具有设置成检测曝光系统或曝光束的参数的传感器系统。在一个示例中，该系统位于光刻系统内，其进一步包括...

一种光刻投影装置，包括：.用于提供辐射投影光束的辐射系统；.具有掩模架用于保持掩模的掩模台；.具有基底架用于保持基底的基底台；.用于将掩模的辐射部分成像在基底的靶部分上的投影系统。由此：ａ）用介入空间将投影系统与基底台分隔开，该介入空间...

多层的光谱纯滤光片提高了极远紫外（ＥＵＶ）辐射束的光谱纯度并且还收集由辐射源发射的碎片。

一种在衬底上形成图案的装置和方法。其包括投影系统，图案形成装置，低通滤光器，和数据操作处理装置。投影系统将辐射光束以子辐射光束阵列投射到衬底上。图案形成装置调制子辐射光束以在衬底上基本上产生被请求的剂量图案。低通滤光器对从被请求的剂量图...

一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提...

用于湿浸式光刻装置的液体供给系统可以在投影系统的最后一个元件和基底之间提供层流的浸液。控制系统可使溢出的概率最小化，并且引出装置包括配置成使振动最小化的出口阵列。

一种光刻设备，包括：照明器，用于调节辐射束；以及支撑装置，用于保持图形化装置。图形化装置用于根据希望的图形将辐射束图形化。该光刻设备还包括：基板台，用于保持基板；以及投影系统，用于将图形化的辐射束投射到基板的目标部分上以在基板上形成图形...

一种光刻投影装置，使用一定体积的第二液体将第一液体限制在投影系统和基底之间的空间中。在一个实施例中，第一液体与第二液体基本上是不可混合的，并且第一液体可以是环烷，例如环辛烷、萘烷、双环已烷、外型四氢双环戊二烯以及环己胺，其它高指数碳氢化...

一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和／或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。

一种浸没式光刻装置，设有至少部分地限定用于容纳位于投影系统和基底之间的液体的空间的液体限制结构。为了减小基底边缘在成像时的交叉，在基本平行于基底的平面内所述空间的截面面积应制成尽可能小。最小的理论尺寸是投影系统成像的目标部分的尺寸。在一...

一种用于高ＮＡ光刻装置中的基底高度处的传感器，其具有覆盖传感元件的透明板，和用于对辐射耦合到该传感元件进行改进的装置，包括菲涅耳透镜、全息光学元件、反转的温斯顿锥体、球面透镜和表面粗糙。

一种光刻设备，包括：　　　　支撑结构，用于支撑构图器件，该构图器件能够将在其截面上的图案赋予辐射束，以形成所构图的辐射束；　　　　测量系统，用于在设备的测量站中测量衬底参数；　　　　投射系统，用于在设备的曝光站中，将该所构图的辐射束投射...

本发明涉及用于保持基板和浸没光刻装置的热平衡的方法和装置，其通过含有与基板的位置、速度和加速度相关的信息的时间表，和对应时间表内的信息而起减少局部蒸发和／或增加局部冷凝作用的蒸发控制器或冷凝控制器来实现。基板表面的水分的蒸发使其冷却，而...

一种光刻装置，包括：构造成支撑构图部件的支撑结构和构造成保持基底的基底台中的至少一个，该构图部件能够将图案赋予辐射光束的截面以形成带图案的辐射光束；其中支撑结构和基底台中的至少一个包括接触表面，构图部件和基底分别与该接触表面接触，该接触...

本发明包括光刻装置和使用构图部件的器件制造方法，该光刻装置和器件制造方法增加了被同时编程的单独可控元件的数量，以便增大单独可控元件阵列的更新速度。减小了阵列所需的高速模拟输入的数量。减小了阵列的复杂程度，并增大了阵列的最大更新速度。此外...

一种光刻装置，包括具有用于产生辐射光束的辐射源的辐射系统和布置在辐射光束的路径中的污染物收集器。所述污染物收集器包括多个限定通道的薄片或板，所述通道布置成大体上平行于所述辐射光束的传播方向。所述薄片或板相对辐射光束的光轴大体上径向地定向...

具有数据通路的光刻装置，该数据通路将所要求剂量的图案表示转换成控制数据序列，该控制数据序列适合于控制单独可控元件阵列，其中数据通路包括多个数据操作设备和计算负荷控制器，该计算负荷控制器用于平衡数据操作设备之间的计算负荷。一种使用光刻装置...

构造成可干燥浸入式光刻装置中的表面的气刀被优化设计，以便通过保证在被干燥的表面上的液体膜中建立压力剃度来去除液体。