光刻设备以及装置制造方法制造方法及图纸

技术编号:3192430 阅读:154 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种用于降低图案中假象的可见性的光刻设备。该设备包括照明系统、构图装置、投影系统以及调制装置。该照明系统提供辐射光束。该构图装置使光束图案化。该投影系统将光束投影到衬底的目标部分上。该调制装置调制光束,以便使用调制方案赋予图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
光刻设备是一种将所需的图案施加到衬底的目标部分上的机器。例如,光刻设备可用于制造集成电路(IC)、平板显示器以及其它包括精细结构的装置。在通常的光刻设备中,被称为掩模或分划板的构图装置可用于产生对应于IC(或其它装置)的单层的电路图案,可将该图案转印到具有一辐射敏感材料层的衬底(例如硅晶片或玻璃板)上的目标部分(例如包括一个或几个芯片部分)。除了掩模,构图装置可包括产生电路图案的单独可控元件阵列。通常,单个衬底包含连续曝光的邻近目标部分的网络。已知的光刻设备包含步进机,其中通过将整个图案一次曝光到目标部分上而辐射各个目标部分;和扫描仪,其中通过光束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案同时在平行或反平行该方向上同步扫描衬底,来辐射各个目标部分。曝光或闪光的顺序形成印刷的图案。当考虑到无掩模光刻时,每次闪光由投影到诸如晶片衬底的感光表面上的间隔光调制器(SLM)阵列的图像引起。这导致在该表面一定曝光区域内对来自光源的辐射剂量或数量的应用。当由来自光源的光的闪光来照射衬底表面时,就建立了曝光区域。当图案延伸到单个SLM的曝光界限之外时,就将曝光沿邻近界限本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备,包括:提供辐射光束的照明系统;使所述光束图案化的构图装置;将所述光束投影到衬底的目标部分上的投影系统;以及调制所述光束以便用调制方案赋予图案的调制装置。

【技术特征摘要】
US 2004-12-2 11/0016461.一种光刻设备,包括提供辐射光束的照明系统;使所述光束图案化的构图装置;将所述光束投影到衬底的目标部分上的投影系统;以及调制所述光束以便用调制方案赋予图案的调制装置。2.根据权利要求1的设备,其中所述调制装置是照明系统的一部分。3.根据权利要求1的设备,其中所述构图装置包括单独可控元件阵列。4.根据权利要求3的设备,其中所述调制装置被设置成将所述调制方案应用于单独可控元件阵列。5.根据权利要求1的设备,其中所述调制装置包括单独可控元件阵列。6.根据权利要求1的设备,其中将所述调制装置设置在照明系统和衬底之间的辐射光束的光路中。7.根据权利要求6的设备,其中将所述调制装置设置在照明系统和构图装置之间。8.根据权利要求6的设备,其中将调制装置设置在构图装置和衬底之间。9.根据权利要求1的设备,其中调制装置将预定调制方案应用于辐射光束。10.根据权利要求1的设备,其中所述调制装置将随机调制方案应用于辐射光束。11.根据权利要求1的设备,其中所述调制装置调制辐射光束的振幅。12.根据权利要求1的设备,其中所述调制装置调制辐射光束的脉冲频率。13.根据权利要求1的设备,还包括根据辐射光束的图案选择调制方案的控制器。14.根据权利要求1的设备,其中所述调制装置被设置成调制辐射光束的部分横截面。15.根据权利要求14的设备,其中所述调制装置被设置成仅调制辐射光束的外围。16.一种装置制造方法,包括使辐射光束图案化;将图案化辐射光束投影到衬底的目标部分上;以及调制辐射光束。17.根据权利要求16的方法,其中利用单独可控元件阵列赋予光束...

【专利技术属性】
技术研发人员:RH穆尼格施米德J洛夫
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]

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