本发明提供用于把来自照明系统的辐射分配到两个或更多图形化工具的辐射分配系统，每个图形化工具用于图形化辐射束，该辐射束随后被投影到衬底上。

本发明涉及一种光刻装置，包括：构造成可调节辐射光束的照明系统；构造成可支撑图案形成装置的支撑物，该图案形成装置能够对辐射光束的横截面施加图案以形成图案化的辐射光束；构造成可固定衬底的衬底台；以及投影系统，其构造成可将图案化的辐射光束投射...

一种单个可控元件阵列，包括由多行反射器组成的多个控制区。以相同的方式激励交替行的反射器，以便控制区用作光栅，以提供可以用作衍射光学元件的控制元件。

一种用于浸入式光刻投影装置中的液体去除系统中的多孔件，其可整平不均匀的流动。可在多孔件的沸腾点之下在多孔件上保持压力差，使得可得到单相液流。或者，可采用多孔件来减少两相流动中的不均匀性。

一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所...

一种通过下述步骤确定振动相关信息的方法：在投影平面的图像位置中投影空间图像；将所述空间图像的强度映射成图像图，所述图像图布置成包括采样位置坐标和在每个采样位置处的采样强度的值；测量通过狭缝图形接收的空间图像的强度，其中所述方法还包括：从...

在扫描浸式光刻装置中，浸液被提供到投影系统和基底之间的空间的一侧上，并从另一侧排出，使得液体的流动基本上与扫描方向垂直。

为了使平版印刷设备的图案支架或衬底台能够具有高加速度和高移动速度，该图案支架和衬底台之一由一个用于相当大的位移的驱动器支承，而省去一个用于精确安置的驱动器。该图案支架和衬底台中的另一个由一个驱动器组件支承，该组件包括一个用于精确安置的驱...

通过适当地选择照射配置、掩模透射和掩模偏置，可以利用足够的曝光宽容度来将接触孔的复杂图案成像，以便以最小半节距ｋ↓［１］＝０．４０或０．４０以下进行制造。在一个实施例中，提出了利用光刻设备将掩模图案的图像转移到衬底上的方法。所述方法包括...

一种光刻设备包括构成为支撑基底的基底支撑件，和构造为将带图案的辐射束投射到基底的靶部分上的投影系统。该基底支撑件布置为沿着基底的随后定靶的靶部分的预定的轨迹移动基底。该基底支撑件包括输送管构造，用于给基底提供热稳定性。该输送管构造布置为...

一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供...

本发明涉及一种设置成可支承设有至少一个衬底标记的衬底的衬底台。该至少一个衬底标记具有可利用对准系统来测得的位置。衬底台设有光学系统，该光学系统具有不等于１的放大系数，以用于提供将通过该对准系统来测量的该至少一个衬底标记的图像。

公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴...

公开了一种光刻设备、器件制造方法、以及用于光刻设备的投影元件。该光刻设备含有：用于提供脉冲辐射束的辐射系统、用于给该辐射束赋予一图形以形成图形化的辐射束的构图装置、以及具有用于将该图形化的辐射束投影到衬底目标部分的投影元件的投影系统。该...

本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括构造成支撑基底的基底台，配置成把带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统和其上安装有至少一部分投影系统的框架。一流体供给装置布置成在基底和投影系统的下游端之间提供流体。该装置还包括致动器，致动器...

一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

一种用于确定衬底的中心与夹盘中的凹腔的中心之间的偏移的方法，包括：为凹腔提供测试衬底，其中该测试衬底的尺寸小于凹腔的尺寸；在测试衬底处于凹腔中时测量测试衬底的对准标记的位置；以及从对准标记的位置中确定衬底中心与凹腔中心之间的偏移。

披露了一种用于在光刻设备中移动分划板的分划板交换单元。分划板的表面由通过气体可渗透的薄膜框架接附到其上的薄膜保护。分划板交换单元包括分划板准备腔、布置为使得薄膜框架的多个暴露的气体可渗透的部分面向分划板准备腔内部的分划板运送单元，以及净...

提供了一种系统和方法，在投影系统内包含不同的可移动透镜，这些透镜可置于辐射束路径内以改变该投影系统的放大倍数。通过改变该投影系统的放大倍数，可以调整每像素曝光的衬底面积，并优化该系统的产量。

通过投影辐射束来照射在投影系统（ＰＬ）和辐射传感器（ＤＳ）之间的检偏片（ＡＰ）。该检偏片包含２个交叉区域，其中每一个传输具有不同偏振方向的辐射。构图该投影辐射束而不影响该束的偏振。通过构图投影辐射束，使得一个区域接收比另一区域更多的辐射...