【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻装置、包括照明系统的装置、包括投影系统的装置、用于光刻装置的光学元件以及器件制造方法。
技术介绍
光刻装置是可在衬底、通常是衬底的目标部分上施加所需图案的机器。光刻装置例如可用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可采用图案形成装置来产生将形成于IC的单个层上的电路图案，该图案形成装置也称为掩模或分划板。该图案可被转移到衬底(如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或多个管芯)上。图案的转移通常借助于成像到设于衬底上的一层辐射敏感材料(抗蚀剂)上来实现。通常来说，单个衬底包含被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次性地曝光在目标部分上来照射各目标部分，还包括所谓的扫描器，其中通过沿给定方向(“扫描”方向)由辐射光束来扫描图案并以平行于或反向平行于此方向的方向同步地扫描衬底来照射各目标部分。还可以通过将图案压印在衬底上来将图案从图案形成装置转移到衬底上。为了成像甚至更小的特征，已经提出了使用波长处于5到20纳米范围内的EUV辐射来代替UV作为曝光辐射，UV常用于当前的商用光刻装置中，其波长...
【技术保护点】
一种光刻装置，包括： 构造成可调节辐射光束的照明系统； 构造成可支撑图案形成装置的支撑物，所述图案形成装置能够对辐射光束的横截面施加图案以形成图案化的辐射光束； 构造成可固定衬底的衬底台；和 投影系统，其构造成可将所述图案化辐射光束投射到所述衬底的目标部分上， 其中，所述装置中的在使用期间会经历热负载的至少一个部件设有整体式安装的加热元件，其设置成可将所述部件保持在大致恒定的温度下。
【技术特征摘要】
US 2004-8-4 10/9107921.一种光刻装置，包括构造成可调节辐射光束的照明系统；构造成可支撑图案形成装置的支撑物，所述图案形成装置能够对辐射光束的横截面施加图案以形成图案化的辐射光束；构造成可固定衬底的衬底台；和投影系统，其构造成可将所述图案化辐射光束投射到所述衬底的目标部分上，其中，所述装置中的在使用期间会经历热负载的至少一个部件设有整体式安装的加热元件，其设置成可将所述部件保持在大致恒定的温度下。2.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述部件包括电加热元件和至少一个温度传感器，所述加热元件设置成可响应于所述至少一个温度传感器所检测到的温度来将所述部件保持在大致恒定的预定温度下。3.根据权利要求2所述的光刻装置，其特征在于，所述装置包括加热元件控制机构，其用于响应于所述至少一个温度传感器测得的温度来控制所述加热元件。4.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述至少一个温度传感器设置在所述加热元件的热中心处。5.根据权利要求3所述的光刻装置，其特征在于，所述加热元件控制机构控制电源提供给所述加热元件的电压。6.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述大致恒定的温度是所述光刻装置的平均工作温度。7.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述加热元件为所述部件提供直接式加热。8.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述部件设有多个整体式安装的加热元件和多个温度传感器，其中各温度传感器设置在所述多个加热元件之一的附近，使得所述多个加热元件可响应于设置在相应加热元件附近的多个温度传感器所检测到的相应温度而被相互间独立地控制。9.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述部件是设置在所述照明系统和投影系统中的至少一个中的光学元件。10.根据权利要求9所述的光刻装置，其特征在于，所述光学元件设置在所述照明系统和投影系统中的至少一个中的框架上。11.根据权利要求10所述的光刻装置，其特征在于，多个光学元件以间隔开的关系设置在所述框架中，所述多个光学元件设有至少一个加热元件，为各个相应光学元件所设置的加热元件的数量根据各光学元件所承受到的热负载来确定。12.根据权利要求11所述的光刻装置，其特征在于，所述辐射光束和图案化辐射光束中的至少一个以预定顺序入射在所述多个光学元件上，所述辐射光束和图案化辐射光束中的...
【专利技术属性】
技术研发人员：WJ博西，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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