光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻装置和制造器件的方法。
技术介绍
光刻装置是一种将期望图案投影到基底上，通常是投影到基底靶部上的装置。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，还可以称作掩模或中间掩模版的构图部件可以产生形成在IC的一个单独层中的电路图案。该图案可以传送到基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一个或者多个管芯)。典型地图案的传送是成像在设于基底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般地，单一的晶片包含相邻靶部的网格，该相邻靶部被逐个相继构图。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将全部图案一次曝光在靶部上而辐射每一靶部，和所谓的扫描装置，其中通过在辐射光束下沿给定的方向(“扫描”方向)扫描图案、并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射每一靶部。还可以通过把图案压印在基底上将图案从构图部件输送给基底。已经有人建议将光刻投影装置中的基底浸没在具有相对高的折射率的液体例如水中，从而填充投影系统的最后一个元件和基底之间的空间。由于曝光辐射在液体中具有更短的波长，因此能够对更小的特征成像。(液体的作用也可以认为是增加了系统的有效NA以及增大了焦深。)还建议使用其它的浸液，包括具有固体微粒(例如石英)悬浮于其中的水。然而，将基底或基底和基底台浸没在液体池中(参见例如US4,509,852，此处将其全文引入作为参考)意味着在扫描曝光过程必须加速大量的液体。这就需要附加的或更大功率的电动机，并且在液体中的紊流可能导致不期望的和不可预见的影响。提出的一种用于液体供给系统的解决方案是仅仅将液体提供到基底的局部区域上以及投影系统的最后一个元件和基底(该基底通常具有比投影系统的最后一个元件更大的表面区域)之间。在PCT专利申请WO99/49504中公开了一种为此布置而提出的方式，该文件在此以全文引入并作为参考。如图2和3所示，优选地沿基底相对于最后一个元件移动的方向，通过至少一个入口IN将液体提供到基底上，并且在液体已经经过投影系统下方之后通过至少一个出口OUT除去液体。也就是说，当沿a-X方向在元件的下面扫描基底时，液体在元件的+X侧被提供并在-X侧被接收。图2示出了示意性的布置，其中通过入口IN提供液体，并通过一个与低压源连接的出口OUT在元件的另一侧被接收。在图2中沿基底相对于最后一个元件移动的方向提供液体，尽管可以不必这样。围绕最后一个元件设置的入口和出口的各种定位和数量是可能的，图3示出了一个实例，其中在围绕最后一个元件的矩形图案中在任何一侧设置了四组入口和出口。当然湿浸式装置中的处理液体会产生具体的困难。特别地，基底台的灵敏部件必须是防止浸液侵入的。
技术实现思路
因此，有利的是例如在基底台的不同部件之间密封。特别地，期望的是具有不会在基底台的部件之间传递作用力的密封，所述密封在基底台的部件之间延伸。根据本专利技术的一个方面，提供一种光刻投影装置，其包括配置成保持基底的基底台；附设有柔性凸出部的第一基底台部分；以及具有夹紧装置的第二基底台部分，该夹紧装置配置成吸引和保持凸出部的自由端以便在第一部分和第二部分之间形成密封。根据本专利技术的一个方面，提供一种光刻投影装置，其包括配置成保持基底的基底台；以及在一端与基底台固定并且在另一端由基底台上的夹具可拆卸地保持在当位置的密封凸出部。根据本专利技术的一个方面，提供一种光刻装置，其包括配置成保持基底的基底台；位于基底台上的传感器；位于传感器和基底台之间的密封结构，该密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。根据本专利技术的一个方面，提供一种器件制造方法，其包括使用位于基底台第一部分上的夹紧装置夹紧柔性凸出部的一端，以便在基底台的第一部分和第二部分之间形成密封；以及将带图案的辐射光束投影到保持在基底台上的基底。根据本专利技术的一个方面，提供一种器件制造方法，其包括 将投影光束投影到传感器上，其中密封结构位于传感器和配置成保持基底的基底台之间，该密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。附图说明现在参考随附的示意性视图仅仅作为实例描述本专利技术的实施例，其中对应的参考标记表示对应的部件，其中图1表示根据本专利技术一个实施例的光刻装置；图2和3表示在光刻投影装置中使用的液体供给系统；图4表示在光刻投影装置中使用的另一种液体供给系统；图5表示在光刻投影装置中使用的另一种液体供给系统；图6以截面的形式表示根据本专利技术的一个实施例的基底台；图7以截面的形式表示根据本专利技术的一个实施例在盖板和基底台的基底支座之间的密封；图7A以截面的形式表示根据本专利技术的一个实施例在盖板和基底台的基底支座之间的另一种密封；图7B以截面的形式表示根据本专利技术的一个实施例在盖板和基底台的基底支座之间的另一种密封；图8以平面的形式表示从上面观看的基底台；以及图9以截面的形式示出了在基底台本体和图8的基底台传感器之间形成的密封。具体实施例方式图1示意性地表示根据本专利技术一个实施例的光刻装置。该装置包括照射系统(照射器)IL，配置成调节辐射光束B(例如UV辐射或DUV辐射)。支撑结构(例如掩模台)MT，构造成保持构图部件(例如掩模)MA，并与配置成根据某些参数将构图部件精确定位的第一定位装置PM连接；基底台(晶片台)WT，构造成保持基底W(例如涂敷抗蚀剂的晶片)，并与配置成根据某些参数将构图部件精确定位的第二定位装置PW连接；投影系统(例如折射投影透镜系统)PS，配置成将构图部件MA赋予给辐射光束B的图案投影到基底W的靶部C(例如包括一个或多个管芯)上。照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如包括用于引导、整形或者控制辐射的折射光学部件、反射光学部件、磁性光学部件、电磁光学部件、静电光学部件或其它类型的光学部件，或者其任意组合。支撑结构以一种方式保持构图部件，该方式取决于构图部件的定向、光刻装置的设计以及其它条件，例如构图部件是否保持在真空环境中。支撑结构可以使用机械、真空、静电或其它夹紧技术来保持构图部件。支撑结构可以是框架或者工作台，例如所述结构根据需要可以是固定的或者是可移动的。支撑结构可以确保构图部件例如相对于投影系统位于所需的位置。这里任何术语“中间掩模版”或者“掩模”的使用可以认为与更普通的术语“构图部件”同义。这里使用的术语“构图部件”应广义地解释为能够给辐射光束在其截面赋予图案从而在基底的靶部中形成图案的任何装置。应该注意，赋予给辐射光束的图案可以不与基底靶部中的所需图案精确一致，例如如果该图案包括相移特征或所谓的辅助特征。一般地，赋予给辐射光束的图案与在靶部中形成的器件如集成电路的特殊功能层相对应。构图部件可以是透射的或者反射的。构图部件的示例包括掩模，可编程反射镜阵列，以及可编程LCD板。掩模在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。可编程反射镜阵列的一个示例采用了微小反射镜的矩阵排列，每个反射镜能够独立地倾斜，从而沿不同的方向反射入射的辐射光束。倾斜的反射镜可以在由反射镜矩阵反射的辐射光束中赋予图案。这里使用的术语“投影系统”应广义地解释为包含各种类型的投影系统，包括折射光学系统，反射光学系统、反折射光学系统、磁性光学系统、电磁光学系统和静电光学系统，或其任何组合，只要适合于所用的曝光辐射，或者适合于其他方面，如浸液的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影装置，包括：配置成保持基底的基底台；附设有柔性凸出部的第一基底台部分；以及具有夹紧装置的第二基底台部分，该夹紧装置配置成吸引和保持凸出部的自由端，以便在第一部分和第二部分之间形成密封。

【技术特征摘要】
US 2004-12-8 11/0065501.一种光刻投影装置，包括配置成保持基底的基底台；附设有柔性凸出部的第一基底台部分；以及具有夹紧装置的第二基底台部分，该夹紧装置配置成吸引和保持凸出部的自由端，以便在第一部分和第二部分之间形成密封。2.如权利要求1所述的光刻装置，其中夹紧装置包括低压入口。3.如权利要求1所述的光刻装置，其中柔性凸出部包括接近自由端基本上为非柔性的部分。4.如权利要求3所述的光刻装置，其中基本上非柔性的部分由基本上抵抗所述装置的辐射损害的材料制成。5.如权利要求1所述的光刻装置，其中柔性凸出部固定在第一部分上。6.如权利要求1所述的光刻装置，其中第一部分是配置成覆盖基底台顶面的一部分的盖板。7.如权利要求1所述的光刻装置，其中第二部分是配置成支撑基底台上的基底的基底支座。8.如权利要求1所述的光刻装置，其中柔性凸出部围绕第二部分，第一部分包括小孔，通过该孔可达到第二部分。9.如权利要求1所述的光刻装置，其中柔性凸出部由基本上抵抗所述装置的辐射损害的材料制成。10.如权利要求1所述的光刻装置，其中第一部分包括第一部分凸出部、且柔性凸出部和第一部分凸出部布置成使得在使用中第一部分凸出部基本上保护柔性凸出部免受装置辐射。11.如权利要求1所述的光刻装置，还包括配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；以及配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统。12.一种光刻投影装置，包括配置成保持基底的基底台；以及在一端与基底台连接并且在另一端由基底台上的夹具可拆卸地保持在适当位置的密封凸出部。13.如权利要求12所述的光刻装置，其中夹具包括低压入口。14.如权利要求12所述的光刻装置，其中密封凸出部是柔性的，该密封凸出部包括接近密封凸出部的另一端的基本上非柔性的部分。15.如权利要求12所述的光刻装置，还包括配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；以及配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统。16.一种光刻装置，包括配置成保持基底的基底台；位于基底台上的传感器；位于传感器和基底台之间的密封结构，该密封结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：PRM亨努斯，JJSM梅坦斯，PJCH斯穆德斯，P斯米特斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]