限制用于构图基板的程控构图构件的比例，以使得要曝光在基板上的重复图案的尺寸是要由带图案的光束曝光在基板上的图案尺寸的整数倍。

一种光刻投射装置，包括以二维阵列方式产生多个源象的微透镜阵列，具有多个对源象起光阀作用的可寻址元件的可编程构图装置，和用于将源象阵列投射到基底上的投射子系统。由此获得更大的工作距离。

光刻装置，其中在基底的曝光期间检查基底上的对准标记、以便优化曝光条件。

一种光刻投影装置，其中液体供给系统将液体保持在投影系统的最后元件和光刻投影装置的衬底之间的空间内。位于可夹持衬底的衬底台上的传感器可在浸入到浸渍液体中时（即在与衬底成像的相同条件下）被成像。通过保证传感器的吸收元件的主要外表面由一种或较...

本发明涉及一种光刻投影装置，该装置包括用于提供辐射投射光束的辐射系统，用于根据所需图案对投射光束进行构图的构图装置（１），以产生带图案的光束，用于支撑构图装置（１）的支撑结构，该支撑结构包括中间掩模版台，以及用于将带图案的光束投射到基底...

本发明涉及一种光刻投影装置（１）。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束ＰＢ照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统ＰＬ构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分...

一种光刻装置，它包括：　　　　－照明系统，构造成调整辐射光束；　　　　－支承结构，构造成支承构图装置，该构图装置能够把图案赋予辐射光束的横截面，以形成图案化的辐射光束；　　　　－基底台，构造成保持基底；　　　　－投影系统，构造成将图案化...

一种光刻投影装置，其中液体供给系统向投影系统（ＰＬ）的最后元件和基底Ｗ间的空隙（２）提供液体。该液体供给系统包括密封构件（４）。采用从密封构件入口（６）到密封构件出口（８）的液流形成液体密封。

本发明涉及具有反射表面的反射镜，反射表面包含一个或多个突起，突起材料选自Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｂｒ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｐａ、Ｕ的至少之一，或者反射表面包含一个或多个第一材料的第一突...

在光刻投影中用于将标记结构成像在基底上的掩模图案，该标记结构在使用中布置成用于确定光学对准或重叠，该掩模图案包括组成部分以限定标记结构，该组成部分被分成多个分段元件（ＥＬ；ＭＬ），每个分段元件大体上具有器件特征的尺寸，该掩模图案包括用于...

本申请公开了设置构图装置保险机构的光刻装置。在一个实施例中，该装置包括用以提供辐射光束的照明系统，用以支撑赋予该辐射光束以带图案的截面的构图装置的支撑结构，用以保持具有一些靶部的基底的基底支架，用以将图案化的光束投射到该基底靶部上的投射...

一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；基底保持器包括多个突起，该突起限定了一种突起结构，这种结构用于为支撑基本上平的基底而提供基本上平的支架...

一种校准方法包括：利用可独立控制元件阵列生成图案；为基底台提供辐射传感器；发射辐射从而在基底台处生成该图案的图像；使所生成的图案和基底台中的至少一个相对于彼此移动，从而使该图像相对于传感器移动；利用该传感器检测辐射强度；并且根据测得的强...

一种包括照射系统的光刻装置，所述照射系统提供辐射的投射光束，所述光束包括具有第一波长的第一辐射分量和具有第二波长的第二辐射分量，用以再现掩模上形成的特征。根据本发明的光刻装置包括具有可调节滤波装置的照射系统，该装置用于过滤所述辐射光束，...

在一种光刻投射装置中，液体供给系统在投射系统的最后元件和带有液体封闭系统的基底之间的空间保持液体。该液体供给系统还包括用于净化浸液的脱矿物质单元、蒸馏单元和ＵＶ照射源。为了抑制生命体生长，化学药品可以加到浸液中，并且液体供给系统的部件可...

光刻装置包括用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影光学组件（ＰＬ），所述组件包括多个可移动的光学元件（Ｍ１－Ｍ６）和用于感测各个光学元件（Ｍ１）的位置和／或定向的多个传感器单元（２５），所述可移动光学元件（Ｍ１－Ｍ６）以彼此隔开...

公开了一种把掩模（ＭＡ）图案的图像曝光到涂有抗蚀剂层的衬底（Ｗ）的方法，其中，在开始曝光后及曝光完成前，控制器（１００）通过在曝光时改变衬底承载台位置（ＷＴ）而在抗蚀剂层的图像中引入受控数量的对比度损失。对比度损失影响光刻投影设备分辨率...

一种包含可移动物体的光刻设备。这些可移动物体的位置可以用位置控制系统来控制。位置控制系统包含位置控制器（６）、表示为物体滤波器（Ｈｏ）的物体、位置反馈电路（２２）、以及加速控制系统（３４）。加速控制系统（３４）包含减法器（８）以及第一电...

将一个或多个程控构图装置通过高度调整结构装配到装配板上，所述高度调整结构能使构图装置的有源表面的平面度得到控制。所述高度调整结构可以包括压电制动器或螺杆阵列。或者是，构图装置的背侧被打磨成光学平坦面，并通过晶体粘结而结合到刚性装配体的光...

一种包括用于将形成了图案的光束投影到衬底的目标部分上的投影光学组件（ＰＬ）的光刻装置。投影光学组件包括具有预定功能的第一元件（４），其相对于第二元件（２）固定地定位，其中元件（４，２）以间隔开的关系设置在支撑框架（６）上，支撑框架（６）...