光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

一种光刻投影装置，其中液体供给系统向投影系统（ＰＬ）的最后元件和基底Ｗ间的空隙（２）提供液体。该液体供给系统包括密封构件（４）。采用从密封构件入口（６）到密封构件出口（８）的液流形成液体密封。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻装置和一种器件制造方法。
技术介绍
光刻装置是一种将所需图案应用于基底的靶部上的装置。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，如掩模的构图装置可用于产生对应于IC一个单独层的电路图案，该图案可以成像在已涂敷辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一个或者几个部分的管芯(die))。一般地，单一基将包含相继曝光的相邻靶部的整个网格。已知的光刻装置包括所谓步进器，其中通过将全部图案一次曝光在靶部上而辐射每一靶部，还包括所谓扫描装置，其中通过投影光束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案，同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射每一靶部已经提出了在光刻投影装置中将基底浸没在一种具有相对高折射率的液体中，比如水，以使其填充投影系统最后元件和基底之间的空间。这样做的目的是由于曝光射线在液体中具有更短的波长，从而能够对更小的特征成像。(也可以将液体的作用看作提高系统的有效NA和增加焦深)。但是，包括水和悬浮其中的固体粒子(例如石英)的其他浸液也可以采用。然而，将基底或基底和基底台浸入液体槽中(参见例如US 4,509,85本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统； 用于在所述投影系统最后元件和所述基底之间的空隙提供液体的液体供给系统，其特征在于所述液体供给系统包括：沿所述投影系统的最后元件与所述基底之间的空隙的边界的至少一部分延伸的密封构件；和用液流在所述密封构件和基底表面间形 成密封的液体密封部件。

【技术特征摘要】
EP 2003-6-27 03254078.31.一种光刻装置，包括用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；用于在所述投影系统最后元件和所述基底之间的空隙提供液体的液体供给系统，其特征在于所述液体供给系统包括沿所述投影系统的最后元件与所述基底之间的空隙的边界的至少一部分延伸的密封构件；和用液流在所述密封构件和基底表面间形成密封的液体密封部件。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述液体密封部件是用于在所述基底表面上方至少部分支撑所述密封构件的流体静力或流体动力轴承。3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述密封构件还包括共用的液体出口，该液体出口用于排除来自所述空隙和所述液体密封部件的液体。4.根据权利要求3所述的装置，其中所述共用出口位于所述密封构件面对所述基底的表面上，并定位于所述空隙和所述液体密封部件之间。5.根据权利要求3或4所述的装置，其中所述共用出口在与所述基底基本平行的平面中具有的横截面积比液体入口的横截面积更大。6.一种光刻投影装置，包括用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；用于在所述投影系统最后元件和所述基底之间的空隙提供液体的液体供给系统，其特征在于所述液体供给系统包括沿所述投影系统的最后元件与所述基底之间的空隙的边界的至少一部分延伸的密封构件；其中所述密封构件包括位于所述密封构件面向所述基底的表面的液体入口7.根据权利要求6所述的装置，其中所述密封构件在所述基底表面上方的高度在所述空隙和所述液体入口间的区域的值大于其他区域的值。8.根据权利要求7所述的装置，其中所述液体供给系统还包括气体密封部件，其定位于所述液体入口的径向外侧，以用于在所述密封构件和所述基底表面间形成气体密封。9.根据权利要求6至8任一所述的装置，其中所述密封构件还包括分别定位于所述液体入口径向外侧的中间气体入口和液体出口，其二者都位于所述密封构件面向所述基底的所述表面上。10.根据权利要求9所述的装置，其中所述密封构件在所述基底表面上方的高度在所述中间气...

【专利技术属性】
技术研发人员：HHM科西，SNL唐德斯，CA胡根达姆，AY科勒斯辰科，ER鲁普斯特拉，H范桑坦，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]