一种光刻投影设备，其包括：　　　　用于提供辐射投影束的辐射系统；　　　　用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需的图案来对投影束构图；　　　　用于保持衬底的衬底台；　　　　用于将构图的束投影到衬底的目标部分上的投影系统；以及　...

一种光刻投射装置，包括：　　　　用于提供辐射投射光束的辐射系统；　　　　用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；　　　　用于保持基底的基底台；　　　　用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。...

一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。 ...

一种光刻投射装置，包括：－用于提供辐射投射光束的辐射系统；－用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；－用于保持基底的基底台；－用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系 ...

一种光刻投射装置，包括：　　　　用于提供辐射脉冲投射光束的辐射系统；　　　　用于根据理想的图案对投射光束进行构图的程控构图部件；　　　　用于保持基底的基底台；　　　　用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；　　　　用于相对于投射...

一种光刻投射装置包括：　　　　－用于提供辐射投射光束的辐射系统；　　　　－用于根据理想的图案对投射光束进行构图的程控构图部件；　　　　－用于保持基底的基底台；　　　　－用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；　　　　特征在于所述...

一种制作光学元件的方法，包括步骤：　　　　（ａ）提供基片；　　　　（ｂ）在所述基片表面沉积包括交替的第一材料和第二材料层的多层叠层，其中所述两种材料可提供相对蚀刻选择性；　　　　（ｃ）在所述叠层的顶部形成抗蚀层；　　　　（ｄ）在所述抗蚀...

一种光刻投影设备，其包括：　　　　用于提供辐射投影束的辐射系统；　　　　用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图形来对投影束构图；　　　　用于保持衬底的衬底台；　　　　用于将构图的束投影到衬底的目标部分上的投影系统；　　　　...

一种光刻投射装置包括：　　　　一辐射系统，以提供辐射投射光束；　　　　一构图部件，用于根据需要的图案对该投射光束进行构图；　　　　一基底台，以支持一基底；及　　　　一投射系统，以将该带图案的光束投射到该基底的靶部上，　　　　一流体处理单...

一种光刻设备，包括：　　　　－辐射系统，它提供辐射的投影光束，所述辐射系统包括照明系统，所述照明系统限定在光瞳平面中光束的位置相关的强度分布；　　　　－支撑结构，它支撑构图装置，所述照明系统依据在所述光瞳平面中的所述位置相关的强度分布，...

用于调节载荷上的力的磁致动器（ＭＡＣ；ＲＭ），它包括第一致动部（ＭＡＣ１；Ｙ）与第二致动器（ＭＡＣ２；Ｌ０），此第一致动部包括第一磁性件（Ｍ１；Ｙ０）与第二磁性件（Ｍ２；Ｙ１，Ｙ２），此第二致动部（ＭＡＣ２，Ｌ０）包括第三磁性件（Ｍ３；...

一种光刻投影装置，包括　　　　－辐射系统，用来提供一次辐射的投影束；　　　　－支撑结构，用来支撑作图装置，该作图装置用来按所需图形对投影束作图；　　　　－衬底台，用来夹持衬底；　　　　－投影系统，用来将作图的束投射到衬底的目标部分上，　...

一种光刻投射设备，其包括：用于支承形成图案装置的支承结构，该形成图案装置用来按照所需图案为投射射束形成图案；用于保持基底的基底台；用于将形成图案射束投射在基底靶部的投射系统；其特征在于，该设备还包括： ...

一种方法，用于确定供光刻投影设备使用的图案形成装置的投影光束源强度分布和光学邻近修正规则，所述设备包括：　　　　－　　辐射系统，用于提供辐射投影光束；　　　　－　　支撑结构，用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于使所述投影光束具有与...

一种光刻投影装置，包括：　　　　－用于从所辐射源发出的辐射中形成辐射投影光束的辐射系统，　　　　　－构造成可固定图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置将被所述投影光束照射以使所述投影光束形成图案，　　　　－构造成可固定衬底的衬底台，　...

一种光刻装置，包括：　　　　－一辐射系统，用来提供辐射投影束；　　　　－一支撑结构，用来支撑作图装置，该作图装置用于按所需的图形对投影束作图；　　　　－一衬底台，用来保持衬底；　　　　－一投影系统，用来将已作图的束投影到衬底的目标部分上...

一种器件制造方法，包括步骤：　　　　提供基片，所述基片至少部分被光敏感材料层覆盖；　　　　利用辐射系统提供投影光束；　　　　提供至少一个形成图案机构，其包括器件图案；　　　　使用所述至少一个形成图案机构，使所述投影光束带有所述器件图案；...

一种器件制造方法，包括：　　　　－提供衬底；　　　　－采用照明系统来提供辐射投影光束，所述投影光束在物面内的横截面由光束掩蔽装置来限定；　　　　－在所述物面处采用图案形成装置来使所述投影光束的横截面具有一定的图案；和　　　　－在沿扫描方...

一种光刻投射装置，包括：　　　　－用于提供辐射投射光束的辐射系统；　　　　－用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据期望的图案对投射光束进行构图；　　　　－用于固定基底的基底台；　　　　－用于将图案光束投射到基底目标位置上的投射...

一种光刻装置，包括：　　　　－用于支撑构图部件（ＭＡ）的支撑结构（ＭＴ），该构图部件用于按照所需图案将投影光束图案化；　　　　－用于支撑其上具有对准结构（１０）的基底（Ｗ）的基底台（ＷＴ），该对准结构（１０）具有空间周期性光学性质；以及...