【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻投射装置，包括-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；-用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统。
技术介绍
这里使用的术语“构图部件”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的部件，其中所述图案与要在基底的靶部上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在靶部中形成的器件的特殊功能层相应，如集成电路或者其它器件(如下文)。这种构图部件的示例包括■掩模。掩模的概念在光刻中是公知的。它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性的被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射光束中的理想位置，并且如果需要该台会相对光束移动。■程控反射镜阵列。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻投射装置，包括-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；-用于至少部分地将所述投射系统的末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统，特征在于所述液体供给系统包括-在沿所述投射系统末端元件和所述基底台之间的所述间隙的边缘的至少一部分延伸的密封构件；-用于在所述密封构件和所述基底表面之间形成气密封的气密封装置。2.根据权利要求1的装置，其中所述气密封装置是用来在所述基底上支撑所述密封构件的气体轴承。3.根据权利要求1或2的装置，其中所述气密封装置包括在所述密封构件与所述基底相对的一个面中形成的气体入口和第一气体出口，用于向所述气体入口供给有压强气体的装置以及用于从所述第一气体出口抽取气体的真空装置。4.根据权利要求3的装置，还包括位于所述第一气体出口和所述气体入口之间并连接到气体源的附加入口。5.根据权利要求4的装置，其中所述附加入口包括在所述密封构件面对所述基底的表面中的连续环形凹槽。6.根据权利要求5的装置，其中所述凹槽径向最里面的角具有半径。7.根据权利要求3-6中的任一装置，其中所述第一气体出口包括在所述密封构件面对所述基底的表面中的连续环形凹槽。8.根据权利要求3-7中的任一装置，其中所述第一气体出口和/或所述气体入口包括分别在所述供给装置和所述真空装置之间的腔，以及在所述表面上的所述入口或出口的开口，在所述表面上，腔提供比所述开口更低的流动限制。9.根据权利要求3-8中的任一装置，其中所述气体入口包括在所述密封构件面对所述基底的表面中的一连串离散开口。10.根据权利要求3-9中的任一装置，其中多孔构件设置在所述气体入口之上，用于均匀地分配在所述气体入口区域上的气流。11.根据权利要求3-10中的任一装置，其中所述密封构件还包括在所述密封构件与所述基底相对的所述面上形成的第二气体出口，所述第一和第二气体出口形成在所述气体入口的相对两侧上。12.根据权利要求3-11中的任一装置，还包括用于改变相对于所述面的其余部分所述第一气体出口和所述气体入口之间的所述面的一部分的高度的装置。13.根据权利要求3-12中的任一装置，还包括用于改变相对于所述面的其余部分所述第一气体出口和距离所述光轴最近的所述面的边缘之间的所述面的一部分的高度的装置。14.根据权利要求3-13中的任一装置，其中所述气密封装置包括形成在所述面上并位于比所述第一气体出口更靠近投射系统光轴处的通道。15.根据权利要求14的装置，其中所述通道是第二气体入口。16.根据权利要求15的装置，其中所述通道向所述间隙中液体高度之上的环境敞开。17.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·洛夫，A·T·A·M·德克森，C·A·胡根达姆，A·科勒斯伊辰科，E·R·鲁普斯特拉，T·M·默德曼，J·C·H·穆肯斯，R·A·S·里特塞马，K·西蒙，J·T·德斯米特，A·斯特拉艾杰，B·斯特里夫克，H·范桑坦，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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