用来提供穿过屏蔽的一开口的可控开孔使由装置一部分发出的辐射脉冲能够射向装置的另一部分，其中该屏蔽将装置隔成个两部分。该可控开孔关闭在辐射脉冲间的开口以将第一部分和第二部分间的气体流减至最小。

一种反射掩模具有低分辨率结构，该结构被应用于吸收区域来减弱镜面反射中的功率量。该结构可以形成相衬光栅或者漫射器。同样的技术也可应用于光刻设备中其它的吸收体。

为了在具有大的Ｚ间隔的层之间进行对准，例如在ＭＥＭＳ或ＭＯＥＭＳ制造过程中，使用可以利用垂直入射的辐射照射参考标记的对准系统。该对准系统具有照射系统，它在基底侧上是远心的。

一种光刻投射装置，其中导管向在真空室内的例如目标台、相关的电机或传感器等可移动部件提供有用物质。导管包括防止由于真空室的真空而发生导管渗气的柔性金属波纹管，该波纹管同时允许可移动部件至少在第一自由度移动。

一种对至少两个平版印刷投射设备的水平传感器进行校正，以校正机器到机器的水平传感器过程依赖性的方法，其包括：通过使用第一平版印刷投射设备，测量基准基片的第一组调平数据；通过使用所述第一设备，测量根据所选择过程而处理的基片的第二组调平数据；...

一种器件制造方法，包括以下步骤： －提供一基底，其至少被一层辐射敏感材料部分地覆盖； －用一辐射系统来提供一辐射射束； －采用构图装置来提供横截面上具有一定图案的射束； －将该图案化的辐射射束投射到辐射敏感材料层...

一种光刻投射装置，包括： 用于提供辐射投射光束的辐射系统； 用于支撑图案化装置的支撑结构，所述图案化装置用于根据所需的图案对投射光束进行图案化； 用于保持基底的第一基底保持器； 用于保持基底的第二基底保持器； ...

一种器件的制造方法，包括步骤： 提供被一层辐射敏感材料至少部分覆盖的一衬底； 使用一辐射系统来提供投射束； 使用图案化装置来使投射束在其横截面内具有一图案； 将形成图案的投射束投射在辐射敏感材料层的第一靶区和第二...

一种组装光学元件的套件，所述光学元件用于在平版印刷装置辐射系统的平面上实现所希望的入射光变化，所述套件包括： 许多预制的光组件，每个组件对入射光具有一种作用，所述光组件中至少有些所述光组件的所述作用不同于另一些所述光组件的所述作用...

一种光刻投射装置，其包括： 用于提供辐射投射光束的辐射系统，该辐射系统包括一脉冲辐射源； 用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于根据理想的图案使投射光束图案化； 用于保持基底的基底台； 用于将图案化...

一种光刻投射装置，包括： 用于提供辐射投射光束的辐射系统； 用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图； 用于保持基底的基底台； 用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投射系...

一种光投射处理设备，包括： 辐射系统，用于提供波长为２５０ｎｍ或以下的电磁射线的投射束； 支撑构件，用于支撑构图装置，该构图装置用于对投射束按规定图形构图； 衬底台，用于固定衬底； 投射系统，用于把已构图的射线束...

一种光刻投射设备，其包括： 用于供应辐射投射光束的辐射系统； 用于按照所需图案使得投射光束形成图案的程控形成图案装置； 用于保持基底的基底台；以及 用于在基底的靶部上投射形成图案的光束的投射系统。 其特征在...

一种光刻投射设备，包括： 辐射系统，用于提供波长等于或低于２５０ｎｍ的电磁射线的投射射束； 支撑构件，用于支撑构图装置，所述构图装置用于对投射射束按预定图形构图； 衬底台，用于固定衬底； 投射系统，用于把已构图的...

一种光刻投射装置，包括： －用于提供第一辐射投射光束的辐射系统； －用于根据所需图案对第一投射光束构图的程控构图部件； －用于保持第一基底的第一基底台； －用于把第一带图案的光束投射到第一基底的靶部上的第一投射系...

一种光刻投射装置，包括： －辐射系统，用于提供辐射的投射光束； －支撑结构，用于支撑构图部件，所述构图部件用于根据所需图案对投射光束进行构图； －基底台，用于保持基底； －投射系统，用于将带图案的光束投射到所述基...

一种光刻投射装置，包括： －辐射系统，用于提供辐射投射光束； －支撑结构，用于支撑构图部件，所述构图部件用于根据所需图案对投射光束进行构图； －基底台，用于保持基底； －投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶...

对准系统使用自参考干涉仪，产生两个重叠和相对旋转的对准标记图像。探测器检测图像的傅立叶变换产生干涉的光瞳平面的强度。从两个图像的衍射级相位的差异获得位置信息，所述差异表示在干涉级中强度的变化。通过测量衍射级两侧两个位置处的强度也能够测量...

一种光刻投射装置，其中在平衡质量ＢＭ与基底台ＷＴ之间产生反作用力。平衡质量ＢＭ弹性连接到底座ＢＦ上，并且平衡质量具有的弹簧本征频率在０．３至１０Ｈｚ之间。

一种基底固定件，包括：一个可由光刻装置接收、具有第一额定大小的板件，以及一个用于固定具有第二额定大小的基底的夹具。