本发明公开了一种检验方法和设备、一种光刻设备、一种光刻单元以及一种器件制造方法。在用于确定光刻工艺中目标图案的结构参数的方法中，计算来自参考图案的一系列校准光谱。对每一个计算得到的光谱进行光谱分析，得出光谱分量和相关的权重，将它们存储在...

本发明涉及光刻设备，它包括：辐射系统，用以提供投影辐射线束；投影系统，用以把投影线束投影在衬底的目标部分上；运动物体；位移装置，用以使运动物体在第一方向和不同于第一方向的第二方向上相对于投影系统运动；和测量装置，用以测量运动物体在基本上...

本发明涉及光刻设备，它包括：辐射系统，用以提供投影辐射线束；投影系统，用以把投影线束投影在衬底的目标部分上；运动物体；位移装置，用以使运动物体在第一方向和不同于第一方向的第二方向上相对于投影系统运动；和测量装置，用以测量运动物体在基本上...

本发明公开了一种光刻设备以及器件制造方法，尤其涉及一种用于控制物体的位置或位置相关量的控制系统，该系统包括：构造为测量该物体的位置或位置相关量的测量系统；构造为基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号的控制器；以及构造为基于该控制信号驱...

本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器（例如预对准单元）传送至第二衬底保持器（例如光刻设备中的衬底台）的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量...

本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。

本发明公开了一种浸没式光刻设备以及一种器件制造方法。所述浸没式光刻设备包括流体限制系统，所述流体限制系统配置用于将流体限制到在投影系统和衬底之间的空隙。流体限制系统包括用于供给流体的流体入口，所述流体入口连接到入口端口和出口端口。所述浸...

本发明涉及对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法。一种包括空间相干的辐射源的对准传感器，该辐射源可以为角度分解的散射仪提供辐射束。通过检测在相对于散射仪的衬底扫描过程中的散射仪波谱的差拍来执行对准操作。

一种光刻装置，包括：构造用于保持基底的两个基底台；用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投射系统；用于在投射期间向所述投射系统的最终元件和所述基底之间提供液体的液体供给系统；和所述光刻装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台...

本发明涉及一种放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备。该放置衬底的方法用于将衬底在放置表面上设置有多个节块的衬底保持器的表面上。在该方法中，首先，计算出衬底放置数据，该衬底放置数据能使衬底放置在相对于衬底保持器表面上所述多个节...

通过在基底上同时投射两个或者多个带有图案的投射光束，其中每个光束具有不同的图案和不同的强度，从而形成灰度级。

本发明提供一种平版印刷装置，尤其是使用空间光调制器（５）的平版印刷装置，其中投射系统（ＰＬ）包括一个装置（１０）用于将图案光束（４）分离成图案光束部分（１２，１５）并将其投射到基片（２７）的各个靶部（２５，２６）上。

本发明通过向包封着组件的第一隔室１０的内部提供第一净化气流１１，１２，和向隔室１０的外表面提供第二净化气流１６，１７，提供一种阻止污染物侵入到组件中的装置。

一种光刻装置投射，其设有对准传感器，该传感器包括电子束源１０，用于提供一入射到基底Ｗ的对准标记１４上的电子束１２；背散射电子检测器１６，用于检测从对准标记１４背散射出来的电子。对准传感器独立于投射系统和投射辐射，并且为一种离轴对准传感器。

本发明涉及一种用来测量光刻投射装置的投射系统中光学元件位置的位移测量系统。该位移测量系统利用干涉测量原理，包括使用安装在光学元件上的第一衍射光栅和安装在基准框架上的第二衍射光栅。

在使用镜的照明系统中，场小平面镜的小平面将多个源图像聚焦在光瞳小平面镜的对应小平面上来实现积分器的功能。提供一种小平面掩模装置来有选择地遮蔽光瞳小平面镜的小平面。该小平面掩模装置具有可选择插入投射束内来提供中间照明设定的栅格。该栅格具有...

提供一种制造器件的方法，用于进行逐场多次曝光。这样，能够照射基片的每一靶部（或场）而保持高覆盖层精度。可选择地，当每一靶部以相同方式曝光时，在基片上可得到图案尺寸的高再现性。另外，提供用于支撑多个掩膜的掩膜台，在掩膜台上掩膜以基本上垂直...

一种平版印刷投射装置包括： －一个用于提供辐射投射光束的辐射系统； －一个用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置根据理想的图案产生图案投射光束； －用于支撑基片的基片台； －用于将图案的光束投射到基片的...

用低ＣＴＥ材料制造光刻装置中的光学元件，所述材料在所述元件的制造温度和其平均工作温度的之间的温度处具有ＣＴＥ过零值。

一种对装置中的可移动部件（ＭＴ，ＭＡ；ＷＴ，Ｗ），以改善对部件上的偏离部件的质量中心的点（Ｃｓ）的位置和速度的控制。确定给该部件的质量中心提供该部件上的点需要的加速度所需要的作用力。该沿着给定方向的作用力按照与点在正交方向的速度和关于和...