本发明公开了一种极紫外光刻设备，所述极紫外光刻设备包括极紫外辐射源、光学元件（５０）和清洁装置（９５）。所述清洁装置（９５）包括氢根源（１０３）以及与所述氢根源（１０３）连通的流管（１０４）。清洁装置（９５）配置用于提供氢根流（９６），...

公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括具有设置在垂直于辐射束的平面上的光学元件阵列。每个光学元件包括用于改变辐射束的光路长度的电加热器件。通过选择性地启动所述电加热器件，可以实现依赖于位置的光路长度的改变，以便对于由辐射引起的光路长度的误...

一种利用静电力将下述器件保持到支承台上的吸盘： － 在制造器件时用光刻投影技术处理的基底；或 － 在光刻投影设备、诸如掩膜检验或清洁设备等掩膜处理设备，或掩膜制造设备中的光刻投射掩膜或掩膜坯料； 所述吸盘包括： ...

光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。所述装置具有用于支撑光刻装置中的对象如基底或构...

本发明公开了一种具有复合载体的洛仑兹致动器以及具有该致动器的光刻设备，该致动器被构成为在第一和第二部分之间产生偏移力，以相对彼此偏移第一和第二部分。该致动器包括：第一磁体子组件，其连接到第一和第二部分之中的一个；和导电元件，其连接到第一...

本发明提供一种传送结构，用于使基底和／或掩模在光刻装置中相对于彼此移动。传送结构包括具有梁和滑座的线性电动机。梁是中空的，其凹入内表面相对于传送方向横向。滑座在相对于传送方向横向的至少两个方向上被支撑而抵靠凹入内表面。优选地，电动机或电...

通过提供多个激光器并使每个激光器产生的辐射光束混合以形成单独的辐射投影光束，可以提高供无掩模光刻中使用的辐射系统的脉冲对脉冲剂量再现性。

一种光刻装置的对准系统，包括：　　　　对准辐射源；　　　　包括第一检测器通道和第二检测器通道的检测系统；　　　　与所述检测系统通信连接的定位单元，　　　　其中所述定位单元用于处理来自所述第一和第二检测器通道的信息，并将其结合来确定工件上...

一种系统和方法用来由至少部分相干的光束形成非相干光束，以使干涉或散斑图被基本消除。旋转光学元件引导部分相干的光束自角分布改变元件反射以此形成非相干光束。通过旋转光学元件的旋转，部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到角分布改变元件上。所...

在反射光刻投影设备中，由掩膜的图案表面的位置沿着光轴的变化引起的掩模的图案图像在扫描方向中的移位通过在扫描方向中移动掩模和／或衬底的相对位置来校正。图像旋转误差的校正也可以通过围绕光轴旋转掩模和／或衬底的相对位置来实现。当掩模安装到光刻...

为校准具有可编程的图形形成装置的光刻设备，使用了诸如ＣＣＤ的传感器、ＣＭＯＳ传感器或光电二极管阵列，该传感器具有检测器元件，该各检测器元件比与该可编程的图形形成装置的单个像素对应的点的尺寸更大。有选择地单独或成组激活各个像素。

本发明公开了一种用于光刻装置的真空腔的元件的制备方法。该方法包括首先在所述元件上涂覆非金属、非塑料材料，接着处理涂层以固化该涂层。优选的涂覆材料是氢化倍半硅氧烷（ＨＳＱ），可以用各种方法（喷射、涂刷、旋布）施加或用电子束加热，或用辐射。...

光刻投影装置包括曝光系统和测量系统。曝光系统将带图案的光束投射到第一基底的目标部分上，而测量系统将测量光束投射到第二基底的目标部分上。该装置的一个可移动部分的移动例如由于空气的流动而产生对该装置中另一个可移动部分的位置的干扰。这一误差可...

一种辐射系统，在收集器例如法线入射收集器和（等离子）光源之间设置有箔俘获，使得来自光源的辐射两次通过箔俘获。一次在照射到收集器之前，第二次在被收集器反射之后。这个结构在过去认为是不可能的。因为箔俘获包括与来自光源的辐射和被收集器反射的辐...

光刻投影装置包括：用于提供辐射投影光述的辐射系统；物体固定器，包括限定了突起结构的多个突起，以提供用于支撑设置在所述辐射投影光束的光束路径中的基本上平坦物体的支撑平坦平面，物体固定器包括用于产生静电夹持力的至少一个夹持电极，其用于相对于...

一种光刻装置，其包括：配置成可调节辐射光束的照射系统；构造成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件能够在辐射光束横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束；构造成保持基底的基底台；配置成将带图案的辐射光束投影到基底的目标部分的投影系统，以及在基底...

本发明公开一种使用浸液的光刻投影装置，所述浸液位于该投影系统的最后元件和基底Ｗ之间。公开多种用于保护该投影系统、基底台和液体保持系统的部件的方法。这些方法包括在该投影系统的最后元件（２０）上设置保护层，以及在该部件的上游设置牺牲保护体。...

一种光刻装置包括：受到热载荷的元件、用于补偿光刻装置中由热载荷造成的元件变形的热变形补偿装置，该热变形补偿装置包括：至少一个用于感测元件上至少一个位置处的温度传感器、用于计算元件由热载荷造成的作为在该位置处所感测到的温度函数的形变量的处...

一种光刻装置，其包括用于提供辐射投影光束的照射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于在投影光束横截面将图案赋予给投影光束；用于保持基底的基底台；以及用于将带图案的辐射光束投影到基底的目标部分的投影系统，根据本发明该装置还包括用...

本发明涉及一种给至少一个反射镜（Ｍ）提供动态保护层以防止所述至少一个反射镜（Ｍ）被离子蚀刻的方法，该方法包括：给容纳所述至少一个反射镜（Ｍ）的腔室（１０）提供气体物质，监视反射镜（Ｍ）的反射率。通过根据监视的反射镜（Ｍ）的反射率，控制反...