一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所...

提供了一种压印光刻方法和设备。所述方法包括进行第一压印和进行第二压印，所述第一压印包括：对于设置有在第一配置中的可压印介质的多个液滴的衬底的区域，使用压印模板将图案压印在所述可压印介质中，在图案的压印期间在可压印介质的所述液滴、压印模板...

本发明提供一种光学位置确定设备及方法。具体地，提供一种光刻设备，包括：框架；支撑衬底的衬底平台，该衬底在其表面上设有对准标记；驱动装置，所述驱动装置沿第一方向移动衬底平台；以及多个对准标记探测器，所述多个对准标记探测器耦合到该框架并能够...

一种光刻装置，其包括：照射系统，用于提供辐射投影光束；物品支撑件，用于支撑要放置在所述物品支撑件上处于所述辐射投影光束的光路中的平坦物品，该物品支撑件包括多个支撑凸起，所述多个支撑凸起限定了一个支撑区域，用于提供平坦的支撑平面；和布置在...

提供了一种光刻设备，包括：照明系统，所述照明系统调整辐射束；构图阵列，所述构图阵列包括单独可控元件以构图；以及投影系统，所述投影系统将该构图辐射束投射在衬底的目标部分上，其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列，其中包括多个构图阵列和...

本发明提供一种光刻设备和一种器件制造方法。光刻设备具有：配置用于调节辐射束的照射系统；构造用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；构造用于保持衬底的衬底台，配置用于将所...

公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该...

本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。其中供液系统可在投影系统的最后一个元件和基底之间提供浸液。提供一个主动干燥站，用于在浸没基底之后从基底Ｗ或其它物体主动去除浸液。

本发明公开了一种浸没类型的光刻设备。在所述设备中，多个加热和／或冷却装置被提供在投影系统的最终元件的邻近处，例如液体处理系统的阻挡构件上。所述加热和／或冷却装置可被用于例如控制在投影系统的最终元件中的温度梯度以控制其中的像差。

本发明公开了一种光刻设备以及一种用于浸没式光刻设备的衬底平台，所述浸没式光刻设备被设置以将图案化的辐射束从图案形成装置投影到衬底上，所述衬底平台被构建以保持所述衬底并且包括用于感测所述图案化的辐射束的至少一个传感器，所述传感器包括具有面...

本发明公开一种光刻设备和一种器件制造方法，其中，所述光刻设备包括相位调节器，用以在衬底上曝光图案期间调节穿过相位调节器的光学元件的光学波的相位。在实施例中，光学元件是光刻设备的投影系统中的热可控的光学元件。在使用时，以包括离轴辐射束的照...

本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括相位调整器以在衬底上曝光图案期间调整横穿相位调整器的光学元件的光波的相位。所述光学元件可以是光刻设备的投影系统中的热量可控的光学元件。在使用时，用包括离轴辐射束的照射模式照射所述图...

本发明公开了一种光刻设备、复合材料以及制造方法，所述光刻设备包括：照射系统，构建用于调节辐射束；支撑件，构造用于支撑图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以便形成图案化的辐射束。所述光刻设备进一步包括：衬底...

本发明公开一种确定衬底中的缺陷的方法和在光刻工艺中曝光衬底的设备。该方法包括：用传感器扫描衬底的扫描范围，该传感器将辐射束投影到衬底上；沿扫描范围测量从不同的衬底区域反射的辐射的强度的一部份；确定经过所扫描范围的被测量部份的变化量；由该...

本发明公开一种浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法。在所述浸没式光刻设备中，液体去除装置布置成：例如在曝光期间，通过沿一条线布置且与该线形成角度的多个细长的狭槽从衬底去除液体。液体去除装置用作浸没罩（ｈｏｏｄ）中的弯液面...

本发明公开一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法，其中实施测量以提高弯液面发生破裂的速度。测量包括流体处理结构中的多个流体抽取开口的形状和多个流体供给开口的形状和密度。

一种光刻投影装置，其中液体供给系统向投影系统（ＰＬ）的最后元件和基底Ｗ间的空隙（２）提供液体。该液体供给系统包括密封构件（４）。采用从密封构件入口（６）到密封构件出口（８）的液流形成液体密封。

本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。本发明还公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统，其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封，使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。

本发明涉及一种确定曝光设置的方法、光刻曝光设备、计算机程序和数据载体。一种在光刻曝光过程中确定衬底上目标区域的曝光设置的方法，包括通过沿相对于校准区域位置的第二和第三方向在多个校准位置处确定沿第一方向的校准区域的位置，提供校准数据。该方...

本发明提供一种构造成控制可移动物体的位置的位置控制系统，包括：构造成确定位于可移动物体上的传感器或传感器目标的位置的位置测量系统，构造成通过基于被测量位置对比设定点位置和位置反馈信号来提供误差信号的比较器，用以基于所述误差信号提供控制信...