本发明公开了一种浸没光刻设备以及光刻投影设备，该光刻设备的一个入口设置成提供清洁流体到位于衬底台上的对象物体，例如衬底，和衬底台之间的空间上。

本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上...

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。并且，公开了一种流体温度控制和传感器校准。在一实施例中，流体温度控制单元包括：加热器，所述加热器配置用以加热在第一流体路径内的第一流体；第一温度传感器，配置用以测量在所述第一流体路径内的所述第...

一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

光刻装置和器件制造方法。一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

本发明公开了在多头对准系统中的对准头的位置校准。具体地，公开了一种校准方法，当在晶片中或晶片上形成电路的光刻过程中执行时其用于在例如用于晶片表面上的标记的测量的多头对准系统中用主对准头对辅对准头进行位置校准。对至少一个辅对准头实施多个偏...

公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考...

一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提...

本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。所述光刻装置包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。

本发明公开了一种光刻设备和一种测量两相流中的流量的方法。光刻设备包括管道，用于其中通过两相流。提供流分离装置以将所述两相流分离成气流和液流。流量计测量在所述气流或所述液流中的流体流量。

本发明公开了一种用于光刻设备的衬底台、光刻设备、使用衬底台的方法和器件制造方法。所述光刻设备包括盖，所述盖被设置用于浸没式光刻设备中的衬底台，所述盖至少覆盖衬底和衬底被容纳所在的衬底台中的凹陷之间的间隙。

本发明公开了一种浸没光刻设备、控制所述设备的方法以及使用光刻设备制造器件的方法。所述浸没光刻设备包括：衬底台，被配置以支撑衬底；投影系统，被配置以将图案化的辐射束投影到衬底上；液体处理系统，被配置以将浸没液体供给和限制到投影系统与衬底、...

本发明公开了一种线圈、定位装置、致动器以及光刻设备。所述定位装置包括具有定子和平移动子的平面电机，所述定子和所述平移动子中的一个包括周期性的磁铁结构，所述定子和所述平移动子中的另一个包括适合于携带电流的至少一个线圈，其中所述线圈包括片状...

本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法，尤其公开了一种用于确定编码器类型的位置测量系统的网格板中的缺陷的方法，所述方法包括：提供编码器类型的位置测量系统用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述编码器类型的位置测量系统包括网格板和编码...

本发明公开了一种传感器、一种台和一种光刻设备。用于浸没系统的传感器包括：感测装置、透明层以及不透明的图案形成层。感测装置配置成感测辐射束的特性。透明层配置成允许辐射束通过其中。透明层覆盖所述感测装置。不透明的图案形成层配置成将图案赋予所...

本发明提供一种光刻方法和布置。所述光刻方法包括：使第一材料层在辐射束下曝光以便在第一层中形成第一图案特征，第一图案特征具有侧壁；并且控制所述辐射束的聚焦特性以控制所述侧壁的侧壁角度；在第一图案特征上形成第二材料层以在第一图案的侧壁上形成...

本发明公开了一种用于在双重图案化光刻工艺中提供抗蚀剂对准标记的设备和方法。在所述方法中，包括至少一个对准标记的第一抗蚀剂层形成在衬底上。在对第一抗蚀剂层进行显影之后，第二抗蚀剂层沉积到第一抗蚀剂层上，从而产生平坦的顶表面（即没有拓扑）。...

本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备以及器件制造方法。所述流体处理结构具有用作根据气体拖曳原理操作的弯液面钉扎系统的多个开口和位于弯液面钉扎系统外面的气刀，以破碎遗留下的任何液体薄膜。气刀和弯液面钉扎系统之间的间隔是从１ｍｍ至５ｍｍ的...

一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所...

本发明涉及用于保持基板和浸没光刻装置的热平衡的方法和装置，其通过含有与基板的位置、速度和加速度相关的信息的时间表，和对应时间表内的信息而起减少局部蒸发和／或增加局部冷凝作用的蒸发控制器或冷凝控制器来实现。基板表面的水分的蒸发使其冷却，而...