一种光刻设备（１），所述光刻设备（１）包括磁体（１００），所述磁体（１００）被包含在保护性外罩（１１０）内，所述保护性外罩（１１０）被布置以保护磁体（１００）不与包含Ｈ２或包含Ｈ原子的气体接触。外罩（１１０）还可以包含氢气吸气剂（１２０...

提供一种用于热调节光学元件的方法，所述方法包括：用辐射照射光学元件的步骤；不用辐射照射所述光学元件的步骤；在所述光学元件和保持在调节流体储存器内的调节流体之间实现热流动；和提供所述调节流体的流体流动，以提供热调节后的流体至所述储存器。所...

本发明公开了一种用于调整光刻过程的系统和方法。提供目标扫描器的模型，相对于一系列的可调整的参数限定目标扫描器的灵敏度。微分模型表示目标扫描器相对于参考物的偏差。可以基于参考扫描器的设置和微分模型调整目标扫描器。相关的扫描器族的性能可以相...

光刻模拟使用了微分模型。微分模型描述了关于可调整的和不可调整的扫描器设定的两个扫描器的成像特性上的差别。用于两个扫描器中的一个的模型通过使用另一个扫描器的模型和微分模型来获得。类似地，灵敏度模型表示了关于不同的扫描器设定的一个扫描器的成...

一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在２－８ｎｍ范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Ｃｒ和Ｓｃ层，Ｃｒ和Ｃ层，Ｃ和Ｂ４Ｃ层，Ｕ和Ｂ４Ｃ层，Ｔｈ和Ｂ４Ｃ层，Ｃ和Ｂ９Ｃ层，Ｌａ和Ｂ９Ｃ层，Ｕ和Ｂ９Ｃ层，Ｔｈ和Ｂ９Ｃ层，Ｌａ和Ｂ层，Ｃ...

一种辐射系统被配置以产生辐射束。所述辐射系统包括腔，所述腔包括：辐射源，被配置以产生辐射；辐射束发射孔阑；和辐射收集器，被配置以收集由所述源产生的辐射，且将所收集的辐射传递至所述辐射束发射孔阑。所述辐射收集器包括被配置以改善经由所述孔阑...

本发明涉及检测位于图案中的目标。本发明通过从所述周围图案滤出傅里叶变换而在光瞳平面中操作。具体地，所述方法包括在反射的辐射数据上进行傅里叶变换以形成傅里叶变换数据；移除傅里叶变换数据中对应于所述目标的部分，以形成简化的傅里叶变换数据；对...

一种碎片防止系统被构造和布置以防止从辐射源（７）发射出的碎片与来自辐射源的辐射一起传播进入到光刻设备中或在光刻设备内传播。碎片防止系统包括围绕旋转轴线（３）可旋转的第一翼片阱（２）和至少部分地包围第一翼片阱的第二翼片阱（４）。第二翼片阱...

一种碎片防止系统，其构造并布置成防止从辐射源（２）发射的碎片与来自辐射源（２）的辐射一起传播进入光刻设备或在光刻设备内部传播。碎片防止系统包括：孔（３），其限定来自所述辐射源（２）的所述辐射的最大发射角（α）；和第一碎片阻挡件（４、４’...

本发明公开了配置以产生用于光刻设备的辐射的源。所述源包括阳极和阴极。阴极和阳极被配置以在阳极和阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电，以便产生等离子体，阴极和阳极彼此相对地定位，使得在使用中在阳极和阴极之间延伸的电流线大致弯曲，以便产生大...

本发明涉及用于空间图案探测的图像，所述空间图案包括光刻设备中用于曝光衬底的辐射束的横截面上的辐射强度的空间差异。图像传感器包括布置用以形成空间图案的探测图像的透镜（５）和布置成测量在所述探测图像中多个位置上的辐射强度的图像探测器（６）。

本发明涉及一种夹持装置，其配置用以将物体（２０，１２０）夹持在支撑件（１，１０１）上。夹持装置包括：第一装置，其配置用以采用第一力驱使物体和支撑件彼此离开；和第二装置，其配置用以采用第二力驱使物体和支撑件朝向彼此。第一装置和第二装置配置...

本发明涉及一种在光刻设备中将第一物体装载到第二物体上的方法。所述方法包括动作：ａ）将第一物体装载到第二物体上，ｂ）等待一段时间，和ｃ）执行弛豫动作。第一物体可以是衬底，第二物体可以是衬底台。第一物体也可以是衬底台，第二物体是支撑衬底台的...

本发明提供一种用于测量光刻设备中的像差的系统和方法。辐射束采用单独可控元件的阵列（ＰＤ）进行调制，并且所调制的束采用投影系统（ＰＳ）进行投影。在单独可控元件的阵列（ＰＤ）上设置图案以调制辐射束，并且所述图案包括由多个特征形成的重复的结构...

一种污染防止系统，其构造并布置用以防止材料与辐射一起传播进入光刻设备。污染防止系统包括可旋转的承载件（ｃａｒｒｉｅｒ），其设置有多个基本上沿径向向外延伸的叶片。叶片构造并布置成吸收或偏转所述材料。所述系统还包括固定的轴，和构造并布置成围...

一种照射系统（ＩＬ），包括外壳（２）和位于外壳（２）内的光学系统。光学系统包括至少一个光学元件（４、６）。光学元件被构造和布置以用从中间焦点（ＩＦ）发散的辐射束（Ｂ）照射图案形成装置（ＭＡ）。中间焦点（ＩＦ）位于与所述照射系统（ＩＬ）的...

本发明公开了一种用于产生电磁辐射的辐射源（５０），包括阳极（１）、阴极（２）和放电空间（４）。所述阳极（１）和所述阴极（２）配置用以在放电空间（４）中的物质（Ｐ）内产生放电（１６）以形成等离子体（１６），以便产生电磁辐射。所述辐射源（５...

本发明涉及一种污染物阻止系统（７１），其包括借助于合适的轴承（７３，７４）进行驱动的可旋转的通道阻挡件（７２）。根据本发明的污染物阻止系统（７１）布置有基本上设置在所述轴承（７３）附近的冷却系统（７５）。冷却系统（７５）可以包括管道（７...

一种将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法。该方法包括步骤：引导相干辐射束到该物体，相对于物体在入射平面内或外在一定角度上扫描辐射束，以及将被物体散射的辐射成像到探测装置上。

本发明涉及一种器件制造方法，包括用由安装在可位移的掩模版台上的掩模版形成的图案化辐射束曝光衬底，其中所述方法包括步骤：确定用于相对于所述掩模版台逼近掩模版表面的高度和倾斜形状的非线性函数；在衬底曝光过程中，根据非线性函数控制所述掩模版台...