本发明公开了一种用以清洁设备的光学元件的方法，该设备构建成将辐射束投影到衬底的目标部分上，该设备包括按序列设置在辐射束路径上的多个光学元件，其中清洁方法包括：使用比该序列中一个或更多个第一光学元件的累积清洁时间段更短的累积清洁时间段清洁...

本发明公开一种光刻设备，其构造成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。该设备包括：第一辐射剂量探测器和第二辐射剂量探测器，每个探测器包括构造成接收辐射流和发射由于接收所述辐射流而产生的二次电子的二次电子发射表面，从辐射传播的方向看，所...

本发明公开一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置（１）。该装置包括光学传感器，该传感器包括传感器表面（３）和构造用于从传感器表面去除碎片（６）的去除机构（５）。因而，可以对光刻系统方便地实施剂量和／或污染物测量。

本发明提供一种污染物陷阱设备(10)，其配置在辐射束的路径(R) 上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源(50)发射的污染物。污染 物陷阱设备(10)包括：具有多个限定通道(ch)的通道形成元件(11) 的转子(10)，所述通道形成元...

一种辐射系统（３），其配置用以产生辐射束（Ｂ）。所述系统（３）包括室（３）。该室（３）包括：辐射源（５０），配置用以产生辐射（Ｂ）；和辐射收集器（７０），配置用以收集由所述源（５０）产生的辐射（Ｂ），以将收集的辐射传送到辐射束发射孔（６...

本发明涉及一种用于确定抑制系统的抑制因子的方法。所述抑制系统布置用以抑制污染物气体迁移出第一系统。所述抑制因子指示所述抑制系统的性能。所述方法包括：引入示踪气体到所述第一系统中；提供检测系统，其配置用以检测已经迁移出所述第一系统的示踪气...

本发明公开了一种光刻设备，该光刻设备具有支撑结构（ＭＴ）、投影系统（ＰＬ）和系统（ＡＥＳ），该系统被配置以补偿扰动因素。支撑结构（ＭＴ）被配置以支撑图案形成装置（ＭＡ），图案形成装置（ＭＡ）被配置以在其横截面中将图案赋予辐射束。投影系统...

一种光刻设备包括辐射源和具有构造成滞留金属污染物的第一表面（３０２）的物体（３０１）。这个表面具有吸杂装置的功能。第一表面配置成基本上在光刻处理过程中位于由辐射源产生的辐射束所穿过的区域的外部。在一种清洁方法中第一表面还用来滞留所生成的...

本发明提供一种方法，以相对于光刻设备的光学系统对准放电辐射源的放电轴线，所述方法包括在阳极和阴极之间的放电空间中的物质内产生放电以形成等离子体，以便产生电磁辐射。通过用能量束照射邻近所述放电空间的预定材料表面上的区域触发放电。响应于光刻...

公开了一种光刻光谱杂质滤光片，该光刻光谱杂质滤光片包括沿着光轴布置位于依次的位置上的第一和第二滤光片元件。第一滤光片元件具有沿第一方向布置的狭缝。第二滤光片元件具有沿横向于第一方向的第二方向布置的狭缝。光谱滤光片被配置以通过反射第一波长...

本发明涉及一种用于光刻设备中的静电夹持装置，其包括设置有突节的材料层，其中由绝缘体和／或电介质材料包围的电极设置在突节之间，以及本发明涉及一种制造这种静电夹持装置的方法。该静电夹持装置可以用于将物体夹持到光刻设备中的物体支撑结构。

公开了一种光刻设备，该光刻设备被布置以将图案从图案形成装置投影到衬底上。所述光刻设备包括照射系统（ＩＬ）和出口，该出口连接至抽吸系统（７８），抽吸系统（７８）用于从照射系统（ＩＬ）的内壁（６４）和外壁（６２）之间抽出气体，或如果存在辐射...

本发明公开了一种包括过滤器装置（１４９）的光刻设备（１）。过滤器装置（１４９）具有连接至保持器（２０１）的多个翼片（２００），所述保持器能够围绕旋转轴线（ＲＡ）旋转。所述翼片（２００）被布置基本上平行于所述旋转轴线（ＲＡ）。所述翼片（２...

一种用于产生极紫外辐射的模块（１）包括：供给装置，该供给装置被配置以将点燃材料的液滴供给到预定目标点燃位置上；激光器（６），该激光器被布置以聚焦到该预定目标点燃位置上并通过撞击位于预定目标点燃位置处的这样的液滴（４）来产生等离子体，以便...

一种辐射源，包括腔和用于产生等离子体的物质的供给装置，所述源具有相互作用点，在该相互作用点处，被引入到所述腔中的所述用于产生等离子体的物质可以与激光束相互作用，并且因此产生辐射发射等离子体，其中所述源进一步包括被布置以将缓冲气体传递到所...

本发明提供一种用于同步化多个串联耦合节点的方法。沿下游方向从第一节点到最后节点发送主触发通过多个串联耦合的局部节点，并且沿上游方向从最后节点到第一节点重新发送主触发通过多个串联耦合的节点。然后，基于主触发沿下游方向和上游方向的到达之间的...

一种光刻系统包括：被配置以产生辐射的源，该源包括阴极和阳极，阴极和阳极被配置以在位于放电空间中的燃料中产生放电，以便产生等离子体，所述放电空间包括在使用中被配置以调整等离子体的辐射发射的物质，以便控制等离子体限定的体积；图案支撑件，其被...

一种光刻设备，包括：照射系统，该照射系统被配置以调节辐射束；图案支撑件，该图案支撑件被配置以保持图案形成装置，所述图案形成装置被配置以对所述辐射束进行图案化，用于形成图案化的辐射束；衬底保持件，该衬底保持件被配置以保持衬底，所述衬底保持...

本发明公开了一种光刻设备和用于光刻设备的密封装置。所述光刻设备包括一设备，所述设备包括：第一体；第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密...

本发明公开了一种光刻方法和装置。所述光刻方法包括：控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间－温度特性的信号的步骤，参考...