本发明公开了一种光刻设备和一种表面清洁方法。在所述光刻设备中，液体限制结构包括至少两个开口，用于供给和抽取液体至所述结构下面的间隙。开口之间的流动方向可以切换。液体可以被供给至适于双重流动的开口的径向外侧的间隙。用以分别供给液体至液体限...

本发明公开了一种光刻设备和一种光刻设备清洗方法，尤其公开了一种具有被配置为清洗表面的兆声换能器的浸没式光刻投射设备和一种利用兆声波清洗浸没式光刻投射设备的表面的方法。

本发明公开了一种照射系统和一种光刻设备。所述照射系统包括：偏振构件，和独立可控反射元件的阵列，所述偏振构件包括第一和第二偏振修改器，每一偏振修改器连接至致动器，所述致动器配置成将各个偏振修改器移动成与辐射束至少部分相交，使得所述偏振修改...

本发明公开了一种光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法。提供一种气体幕帘以将光刻设备的构件与被污染气体分开。气体幕帘通过开口供给。开口位于与构件的表面接触的保护环境的边界处。气体幕帘可以将构件与设备的移动部分分开。

本发明公开了一种光刻设备及光刻方法。所述光刻设备，包括：照射系统，用于提供辐射束；支撑结构，用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；衬底台，用于保持衬底；投影系统，用于将图案化的辐射束投影到衬底的目...

本发明公开了一种衬底台的盖、光刻设备的衬底台、光刻设备和器件制造方法，尤其提供了一种用于浸没光刻设备中的衬底台的盖，该盖至少覆盖衬底与其中容纳了衬底的衬底台中的凹陷之间的间隙。

本发明公开了一种光刻设备、光刻设备中的盖和设计光刻设备中的盖的方法。所述光刻设备具有：流体处理结构，所述流体处理结构配置成将浸没流体包含在靠近衬底台和/或位于所述衬底台的凹陷中的所述衬底的上表面的空间中；盖，所述盖包括平坦主体，所述平坦...

本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。

本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。本发明还提供一种水平传感器，配置用于测量衬底的高度水平，所述水平传感器包括：投影单元，用于将测量束投影到衬底上；检测单元，用于接收在所述衬底上反射之后的所述测量束；处理单元，用于基于由所述检测...

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。并且披露了一种配置用于测量布置在测量位置中的衬底的水平高度的水平传感器。所述水平传感器包括：投影单元，用以将多个测量束投影到衬底上的多个测量位置上；检测单元，用以接收在衬底上反射之后的测量束；...

本发明公开了一种光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法。一种用于光刻设备的液体处理结构包括：液滴控制器，配置成允许浸没液体的液滴从所述结构损失且防止所述液滴与所限制的浸没液体的弯液面碰撞。液滴控制器可以包括气刀，所述气刀布置成交叠以阻挡进...

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。本发明还提供一种配置成确定衬底的水平高度的水平传感器，包括：投影单元，用以将具有基本上周期性的光强度的测量束投影到衬底上；和检测单元，布置用以接收在衬底上被反射之后的测量束，所述检测单元包括：...

公开了一种光刻投影装置，其中在基底交换过程中利用遮蔽构件来遮挡该液体供给系统，从而在基底交换过程中确保液体与投影系统的一元件保持接触。该遮蔽构件与支撑投影系统的计量框架连接。通过这种方式，遮蔽构件的位置总是已知的。

装载锁定装置，包括该装置的光刻设备及制造基底的方法用于光刻设备的装载锁定装置，被设置用来把类似于基底（Ｗ）的物体转移到光刻设备和从光刻设备中转移出来。装载锁定装置的外壁（３８；４０）限定装载锁定装置容积的至少一部分，以便当物体在所述装载...

公开了一种用于对显微结构的电磁散射性质建模的方法和设备以及用于重构显微结构的方法和设备。通过数值求解矢量场Ｆ的体积积分方程式实现计算结构的电磁散射性质的体积积分方法的收敛性改善。矢量场Ｆ可以通过基的变化与电场Ｅ相关，并且可以在材料边界处...

本发明公开了一种压印光刻方法和设备，所述方法包括：使得压印模板与设置在衬底上的压印介质形成接触，且将光化辐射引导至所述压印介质处，所述光化辐射被定向成使得它非垂直地入射到所述压印模板的图案化表面上。

本发明公开了一种压印光刻，具体公开了一种使用具有无机释放层和可压印介质层的衬底形成压印模具的方法。所述方法包括：使用主压印模具将图案压印到可压印介质中，使可压印介质固化，和蚀刻可压印介质和无机释放层以在无机释放层中形成图案。

本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构被设置用于光刻设备，所述流体处理结构在包含浸没流体的空间与在所述流体处理结构外部的部位之间的边界上具有：布置在第一线中的多个开口、具有在第二线中的孔的第一气刀装置、在...

本发明公开了一种致动器、定位系统和光刻设备。该致动器用于施加力和扭矩到物体上，包括：第一部分，其相对于致动器的第二部分沿至少第一自由度是可移动的，所述物体安装到所述第一部分，其中所述部分中的一个设置第一电线圈，所述第一电线圈布置成与另一...