一种光刻设备，包括：源，配置成使用等离子体生成包括想要的辐射和不想要的辐射的辐射束；照射系统，配置成在光刻设备操作期间调节辐射束并且接收氢气；和支撑结构，构造成保持图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形...

一种光刻设备（１），包括：辐射源（ＳＯ），被配置成产生极紫外辐射，所述辐射源（ＳＯ）包括：腔（２１０），在所述腔中产生等离子体（２２５）；收集器反射镜（２７０），被配置以反射由所述等离子体（２２５）发射的辐射；和碎片减缓系统（２３０），...

本发明的实施例涉及一种反射镜（３０）。反射镜包括镜面反射表面和具有外表面的形成轮廓的涂覆层（３２ａ），其中一个或多个楔形元件由相对于镜面反射表面的外表面形成，和其中一个或多个楔形元件具有在大约１０－２００ｍｒａｄ范围内的楔角（θ）。形成...

一种光刻设备（１），包括：源模块（ＳＯ），所述源模块包括收集器（ＣＯ）和辐射源（１０５），所述收集器（ＣＯ）被配置成收集来自所述辐射源（１０５）的辐射；照射器（ＩＬ），被配置成调节由所述收集器（ＣＯ）收集的辐射，且提供辐射束；和检测器（...

本发明公开了一种光谱纯度滤光片，配置用以透射极紫外（ＥＵＶ）辐射并偏转或吸收非极紫外伴随辐射。在一个实施例中，光谱纯度滤光片包括对极紫外辐射具有高的透射率的材料的主体和在所述主体的辐射入射侧面上对非极紫外伴随辐射具有高的反射性的材料的层...

一种被配置用于将光学元件（１）安装在用于光刻设备的模块（７０，１７０）中的支座。所述支座包括：多个弹性构件（１２），被构造且布置以沿圆周支撑所述光学元件（１）。每一弹性构件（２）包括多个弹性子部（４′，４″，４″′），所述弹性子部被配置...

本发明公开了一种光刻设备（２），包括：辐射源（ＳＯ），配置成提供辐射（２００）；辐射收集器（ＣＯ），配置成收集来自辐射源（ＳＯ）的辐射（２００）；照射系统（ＩＬ）和探测器（３００）。探测器（３００）设置成与照射系统（ＩＬ）的相对于其对准...

本发明公开了一种光刻设备，包括光学元件，所述光学元件包括定向的碳纳米管薄层。所述光学元件具有大约２０－５００ｎｍ范围的元件厚度，并且在用ＥＵＶ辐射垂直照射的条件下对波长范围为大约１－２０ｎｍ的ＥＵＶ辐射具有至少２０％的透射率。定向的碳纳...

一种用在光刻设备中的源模块（１０）被构造以产生极紫外（ＥＵＶ）和伴随辐射，且包括被配置以与ＥＵＶ辐射的源协作的缓冲气体。所述缓冲气体对于所述ＥＵＶ辐射具有至少５０％的透射率，对于所述伴随辐射具有至少７０％的吸收率。

一种用于去除在设备的无盖层多层反射镜上的沉积物的方法。所述方法包括：在所述设备的至少一部分内提供气体的步骤，所述气体包括Ｈ２、Ｄ２和ＨＤ中的一种或多种以及选自碳氢化合物和／或硅烷化合物的一种或多种附加的化合物；从所述气体产生氢和／或氘自...

重叠测量设备具有偏振光源，用于用偏振光束照射样品，和光学系统，用以捕获由样品散射的光。光学系统包括偏振器，用于传送与偏振光束的偏振方向正交的正交偏振分量。检测器测量正交偏振分量的强度。连接至检测器的处理单元布置成使用从正交偏振分量得出的...

物体支撑结构构造成支撑物体。物体支撑结构包括回填结构，构造成供给热缓冲流体至物体支撑结构并从物体支撑结构抽取热缓冲流体。回填结构连接至抽取管道，其构造并布置成从回填结构抽取至少气相的热缓冲流体。回填结构连接至供给管道，构造并布置成供给液...

提供一种光刻设备的照射系统，所述照射系统具有多个反射元件，反射元件布置成接收来自辐射源的辐射，反射元件在不同取向之间是可移动的。在不同的取向中，反射元件引导辐射朝向照射系统的光瞳平面内的反射部件处的不同部位，由此形成不同的照射模式。每个...

一种多层反射镜（７）构造并布置成反射具有在２－８ｎｍ范围内的波长的辐射。多层反射镜具有交替的层（４，６），所述交替的层包括第一层和第二层，第一层和第二层选自由下列项构成的组：Ｕ和Ｂ４Ｃ层、Ｔｈ和Ｂ４Ｃ层、Ｌａ和Ｂ９Ｃ层、Ｌａ和Ｂ４Ｃ层、...

本发明公开了一种光刻设备、计算机程序产品以及器件制造方法。所述方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。所述方法还涉及所述图案形成装置和所述衬底的对准，并包括将辐射束照射到所述图案形成装置上的对准结构上以便获得最终的空间图像；根据扫描方...

本发明提供了一种位置控制系统、光刻设备以及控制可移动物体的位置的方法。位置控制系统用于控制可移动物体的位置，包括：位置测量系统，配置成确定可移动物体的实际位置相关量；设定点产生器，用以提供可移动物体的位置相关的设定点信号；比较器，用以基...

本发明涉及一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态中时，中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方...

光刻装置和器件制造方法，例如为了在不同基底的曝光之间方便地移动基底，使用致动的封闭板提供基底，基底台或上述两者作为限制液体的光刻装置中的空间边界的一部分，而不会例如破坏限制液体的密封。

本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。

本发明公开了一种位置传感器和光刻设备。所述位置传感器配置成测量目标的位置数据。位置传感器包括：辐射源，配置成提供辐射束；第一光栅，配置成将辐射束衍射成在第一衍射方向上的至少第一级衍射束；和第二光栅，布置在第一级衍射束的光学路径上，第二光...