【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件。
技术介绍
这样一种组件从本领域中已知。已知组件的中间掩模版例如可以适合于且安排为供光刻工艺中使用，通过光刻装置实现，以制造器件。在已知的组件中，中间掩模版保持器用于利用夹紧装置保持中间掩模版。特别是，已知的中间掩模版保持器是一种用于储存和运输中间掩模版的储存箱。在一些情况下，在组件用于制造过程中以前，必须将中间掩模版相对于中间掩模版保持器精确对准。通常，这种对准由中间掩模版预对准器进行。已知组件的一个问题是当中间掩模版由中间掩模版保持器保持时，将中间掩模版相对于中间掩模版保持器保持在某个所需的，例如对准的位置是相对困难的。因此，在组件运输过程中，中间掩模版可能在振动和/或加速作用的影响下移位，导致中间掩模版未对准。此外，这种不希望的中间掩模版移动可能导致因中间掩模版和中间掩模版保持器之间的摩擦而引起的不希望的拉子产生。这些粒子损害利用中间掩模版的工艺，例如真空工艺和/或光刻工艺，其中这些工艺需要基本上无污染的工艺环境。在已知的中间掩模版保持器中，通过利用相对较大的夹紧或摩擦力来阻止中间掩模版的运动。但是，...
【技术保护点】
１．包括中间掩模版（ＭＡ）和中间掩模版保持器（２０１）的组件以及至少一个检测器（２５０）的系统，其中中间掩模版（ＭＡ）包括一个或多个标记（ＭＲＫ），其中中间掩模版保持器（２０１）和检测器（２５０）用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器（２５０）用于检测使中间掩模版（ＭＡ）相对于中间掩模版保持器（２０１）定位的所述中间掩模版标记（ＭＲＫ），其中该系统优选包括至少一个储存箱（２１０），用于至少在将中间掩模版（ＭＡ）相对于中间掩模版保持器（２０１）定位的过程中储存所述组件（ＭＡ，２０１）。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：G·J·希伦斯，B·L·W·M·范德文，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL
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