光刻设备内的收集器装置的对准制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光刻设备（２），包括：辐射源（ＳＯ），配置成提供辐射（２００）；辐射收集器（ＣＯ），配置成收集来自辐射源（ＳＯ）的辐射（２００）；照射系统（ＩＬ）和探测器（３００）。探测器（３００）设置成与照射系统（ＩＬ）的相对于其对准所述收集器（ＣＯ）的部分具有固定的位置关系。此外，收集器（ＣＯ）的区域（３１０）可以配置成引导从辐射源（ＳＯ）发射并穿过所述区域（３１０）朝向探测器（３００）的辐射（２００）的一部分。所述探测器（３００）布置成探测所述辐射（２００）的一部分的改变。这种改变表示所述收集器（ＣＯ）相对于所述照射系统（ＩＬ）的相对于其对准所述收集器（ＣＯ）的部分的位置或取向的改变。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体涉及光刻工具领域，更具体地，涉及光刻设备内的收集器装置的对准。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例 如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 所述图案的转移通常是通过将图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层 上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所 谓的“步进机”，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一 个目标部分；以及所谓的“扫描器”，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方 向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目 标部分。也可以通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移 到衬底上。为了能够将更小的结构投影到衬底上，已经提出使用具有例如在大约13-14nm范 围内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻设备的布置，所述布置包括：　　辐射源，用于提供辐射；　　辐射收集器，用于收集来自辐射源的辐射；　　照射系统，配置用以调节由所述收集器收集的辐射并提供辐射束；　　其中所述布置还包括：　　探测器，所述探测器设置成与照射系统的相对于其将对准收集器的部分具有固定的位置关系，和　　收集器的区域，配置成引导从辐射源发射并穿过所述区域朝向探测器的辐射的一部分，　　所述探测器布置成探测所述辐射的所述一部分的特性的改变，这种改变表示所述收集器相对于所述照射系统的相对于其将对准所述收集器的所述部分的位置或取向的改变。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·克拉森，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL