用于光刻设备的光学元件支座制造技术

一种被配置用于将光学元件（１）安装在用于光刻设备的模块（７０，１７０）中的支座。所述支座包括：多个弹性构件（１２），被构造且布置以沿圆周支撑所述光学元件（１）。每一弹性构件（２）包括多个弹性子部（４′，４″，４″′），所述弹性子部被配置以围绕光学元件（１）的周长与所述光学元件（１）接合。每一弹性子部被配置成独立于另一弹性子部屈曲。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请涉及用于光刻设备的光学元件支座。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例 如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在所述情形中，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行 的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。已广泛地承认光刻术是IC和其它的器件和/或结构制造中的关键步骤之一。然 而，随着使用光刻术制造的特征的尺寸不断变小，光刻术成为了使微型的IC或其它器件和 /或结构能够被制造的更为关键的因素。通过如等式(1)中所示出的分辨率的瑞利准则来给出图案印刷的极限的理论估 计权利要求1.一种被配置将光学元件安装在用于光刻设备的模块中的支座，所述支座包括 多个弹性构件，被构造和布置以沿圆周支撑所述光学元件，其中每一弹性构件包括多个弹性子部，所述弹性子部被配置以围绕光学元件的周长与 所述光学元本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种被配置将光学元件安装在用于光刻设备的模块中的支座，所述支座包括：　　多个弹性构件，被构造和布置以沿圆周支撑所述光学元件，　　其中每一弹性构件包括多个弹性子部，所述弹性子部被配置以围绕光学元件的周长与所述光学元件接合，每一弹性子部被配置成独立于另一弹性子部屈曲。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·G·泰根波什克，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL