本发明涉及一种用于将图案从图案形成装置转移至衬底上的光刻设备和阻尼方法。本发明的光刻设备包括：支撑框架，其由基座经由振动隔离系统支撑；投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上，其中所述投影系统包括由支撑框架弹簧支撑的第一框架；和...

本发明公开了一种板弹簧、平台系统以及光刻设备。一种板弹簧，安装在两个物体之间，板弹簧配置成在两个正交方向上具有高的刚性且在其他自由度上具有相对低的刚性，其中所述板弹簧具有基本上板形主体，所述板弹簧包括第一安装位置，其位于板形主体的中心或...

一种气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法，所述气体歧管用于在光刻设备的光学部件的两个板之间引导气流，所述气体歧管具有进口、在所述进口的下游的扩散器、在所述进口的下游的流整直器、在所述流整直器的下游的收缩器和在所述收缩器的...

一种用于光刻设备的流体处理结构，该流体处理结构在从配置成包括浸没流体的空间至流体处理结构外部的区域的边界处具有：一个或更多的弯液面钉扎特征，用于阻止浸没流体从空间在径向向外的方向上通过；气体供给开口，位于一个或更多的弯液面钉扎特征的径向...

本发明涉及一种包括可旋转污染物陷阱的设备和方法，其配置在辐射束的路径上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源发射的污染物。污染物陷阱设备包括：具有多个限定通道的通道形成元件的转子，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，...

一种方法用以确定在衬底上的光刻工艺中使用的光刻设备的聚焦。光刻工艺用以在衬底上形成至少两个周期结构。每个结构具有至少一个特征，所述至少一个特征具有以衬底上的光刻设备的聚焦的不同函数变化的、在相对的侧壁角之间的不对称度。测量通过引导辐射束...

一种确定衬底上重叠误差的方法，其中衍射图案的第一级的不对称度被模型化为谐波的加权和。第一级谐波和更高级谐波都是不可忽略的，并且计算两者的权重。使用最小均方方法使用叠印图案组中的三组或更多组计算权重。

本发明涉及源偏振的优化。本发明公开了一种光刻模拟过程，其中通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些表征在源点处的偏振状态。基于所计算的代价函数相对于一个或更多个变量...

一种使用EUV光刻设备将图案化的束投影到衬底上的方法，所述光刻设备具有包括多个反射镜(12-16)的投影系统(PS)。所述方法包括以下步骤。使用投影系统(PS)将图案化的束投影到衬底(W)上，同时沿基本上垂直衬底(W)表面的方向移动投影...

检测器包括闪烁材料层、设置在闪烁材料上的间隔材料层以及设置在间隔材料上的光谱纯度滤光片层。检测方法包括步骤：引导EUV辐射通过光谱纯度滤光片层、通过设置在光谱纯度滤光片层下面的间隔材料层以及至闪烁材料层上，然后，使用检测由闪烁材料发射的...

本发明公开了一种调节台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备。还公开了一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法。所述方法包括步骤：将台的移动方案分解为多个分立移动；通过确定浸没流体供给系统...

本发明公开了一种浸没类型的光刻设备。在所述设备中，多个加热和/或冷却装置被提供在投影系统的最终元件的邻近处，例如液体处理系统的阻挡构件上。所述加热和/或冷却装置可被用于例如控制在投影系统的最终元件中的温度梯度以控制其中的像差。

一种电连接器，适于例如在低压强环境中连接高电压承载电缆，电连接器包括：具有导电表面的壳体和多个电缆插入部分，每一个电缆插入部分包括：导电体，配置用以连接至电缆；和绝缘套管，围绕所述导电体，其中所述壳体围绕所述多个电缆插入部分。

本发明公开了一种光刻设备、一种器件制造方法以及一种用于将图案应用至衬底的方法，其中光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中测量子系统包括朝向衬底引导的靠近图案形成子系统的图案化区域的一个或(优选地)更多的对准和水平传感器。...

本发明公开了一种自参考干涉仪、对准系统和光刻设备。自参考干涉仪包括光学系统以将对准束分开来产生参考束和变换束。光学系统包括分束器以组合参考束和变换束，使得在参考束中的衍射级在空间上与变换束中的它们的各自的相反的衍射级重叠。检测器系统接收...

描述了一种检测器模块(20)，其包括：至少一个检测器(30)，用于感测光子辐射；电子电路(40)，耦接至所述至少一个检测器(30)；和具有第一和第二主体(60，70)的壳体(50)，每一主体具有底部部分(62，72)和从所述底部部分(6...

提供了一种浸没液体，包括：具有相对较高蒸汽压力的离子形成成分，例如酸或基剂。还提供了使用该浸没液体的光刻方法和光刻系统。

本发明公开了一种平台设备、光刻设备和定位物体台的方法。所述平台设备包括：测量系统，配置成测量物体台的依赖位置的信号，所述测量系统包括可安装到物体台上的至少一个传感器和可安装到基本上静止的框架上的传感器目标物体，和安装装置，配置成将传感器...

本发明公开了一种流体处理结构、一种用于浸没式光刻设备的模块、一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述流体处理结构在从配置用于包含浸没流体的空间至所述流体处理结构外部区域的边界处相继设有：弯液面钉扎特征，用以阻止浸没流体沿离开所述空间的径向...

本发明公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备具有：第一出口，其用于将具有第一流动特性的被热调节的流体提供至传感器束路径的至少一部分；和第二出口，其与第一出口相关联，并且用以在来自第一出口的被热调节的流体附近提供具有第二流动...