源偏振的优化制造技术

本发明专利技术涉及源偏振的优化。本发明专利技术公开了一种光刻模拟过程，其中通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些表征在源点处的偏振状态。基于所计算的代价函数相对于一个或更多个变量参数的梯度，迭代地重新配置照射源中的预选组源点和设计布局的表示中的一个或两个，直到获得期望的光刻响应为止，其中代价函数包括使用所述预选组源点投影的设计布局的表示的空间图像强度。还描述了用于执行源偏振变化的物理硬件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备和一种用于光刻设备中的照射系统。
技术介绍
光刻设备将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单个的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。光刻设备通常包括照射系统，下文中称为照射器。照射器接收来自源(例如激光器)的辐射，并且产生照射束用于照射图案形成装置。在通常的照射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：陈洛祁，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：