包括旋转污染物陷阱的设备和方法技术

本发明专利技术涉及一种包括可旋转污染物陷阱的设备和方法，其配置在辐射束的路径上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源发射的污染物。污染物陷阱设备包括：具有多个限定通道的通道形成元件的转子，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，所述转子包括可充电材料并且配置成由于所述辐射源的运行而会被充电；和构造成相对于转子承载结构可旋转地保持所述转子的轴承，其中所述设备构造成(i)控制所述转子的放电或改变所述转子的放电方向，或(ii)抑制所述转子的放电，或(iii)包括(i)和(ii)两者。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种包括可旋转污染物陷阱的设备和方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案成像到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。一种包括减少碎片系统的设备可以设置有可旋转结构(称为旋转污染物陷阱)以捕获从EUV(极紫外)辐射源发出的碎片。例如，源发射微米尺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯，瓦蒂姆·耶乌金耶维奇·班尼恩，阿诺德·康纳立斯·瓦森克，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：