公开了系统和方法，所述系统和方法用于检验所制造的光刻掩模；从掩模检验数据中提取物理掩模数据；基于在所述物理掩模数据和掩模布局数据之间的差别确定系统的掩模误差数据；基于所述系统的掩模误差数据生成系统的掩模误差参数；形成具有系统的掩模误差参...

一种辐射源生成用于光刻设备的极紫外辐射，作为设置有低压氢气环境的腔。痕量的保护性化合物，例如H2O，H2O2，O2，NH3或NOx，被提供至所述腔，以辅助保持在腔中的金属，例如钛部件上的保护性氧化物膜。

本发明公开了一种气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法。所述气体歧管用以在光刻设备的光学部件的两个平行板之间引导气流，所述气体歧管包括：入口，用以提供气流至气体歧管；格构件，包括用以使所述气流均匀化的多个通孔；位于所述格构...

本发明公开了一种光刻设备、控制光刻设备的方法以及器件制造方法。浸没式光刻设备，包括：投影系统，配置成将图案化的辐射束引导到衬底上；和液体处理系统，配置成将浸没液体供给并限制至投影系统和衬底之间、或投影系统和衬底台之间或投影系统与衬底和衬...

本发明公开了一种计算衬底的模型参数的方法、光刻设备和用于控制光刻设备的光刻过程的设备。具体地，本发明涉及估计光刻设备的模型参数和控制光刻设备的光刻过程。使用光刻设备跨经晶片执行曝光。测量一组预定的晶片测量部位。标记的预定的和测量的部位被...

本发明公开了一种器件制造方法，以一定回填压强向物品支架供给回填气体，在所述物品被支撑过程中提高物品及物品支架之间的热接触；以及采用回填气体压强从物品支架上卸载基底和构图部件中的至少一个；在投射之前提供回填气体压强，以在物品和物品支架之间...

本发明公开一种电磁致动器、平台设备以及光刻设备。所述电磁致动器包括：第一磁性构件和第二磁性构件，所述第一磁性构件和第二磁性构件相对于彼此是可移位的并且布置成提供磁路；和线圈，配置成在使用中接收电流以产生通过所述磁路的磁通量，由此在第一磁...

本发明公开了一种光刻设备和光刻投影方法。该光刻设备包括：照射系统；支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，第一和第二图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予辐射束图案以形成图案化辐射束；衬底台；和投影系统，...

本发明公开了一种衬底保持器、光刻设备、器件制造方法和制造衬底保持器的方法。用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。该平坦化层提供平滑表面，用于形成薄膜叠层以形成电子部件。该薄膜叠层包括可选的隔离层、用于形成电极、传感器、加...

本发明公开了一种测量方法、测量设备、光刻设备以及器件制造方法。设备(AS)测量光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。测量光学系统包括用于使用辐射斑(206)照射标记的照射子系统(504)和用于检测被所述标记衍射的辐射的检查子系统(58...

本发明涉及一种光刻设备及器件制造方法，其中，在浸没光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙尺寸或区域和/或覆盖间隙来减少或防止浸没液体中的气泡形成。

本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系...

一种多层反射镜(100)配置用于反射极紫外(EUV)辐射、同时吸收第二辐射，所述第二辐射的波长基本上长于EUV辐射的波长。所述反射镜包括：叠置在基底(104)上的多个层对(110、112)。每个层对包括第一层(112)和第二层(110)...

在光刻设备中，使用场反射镜设置照射模式，场反射镜包括多个可移动琢面以引导辐射至光瞳琢面反射镜上的可选定位置。在一场琢面反射镜有缺陷且不能被设置到期望位置的情形中，可移动琢面反射镜中的另一个被设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分...

本发明公开了一种照射系统、光刻设备和器件制造方法。所述照射系统包括配置成朝向光瞳面引导辐射的可控反射镜阵列和配置成朝向所述可控反射镜阵列引导辐射子束的透镜阵列，其中所述透镜阵列的第一透镜和所述可控反射镜阵列中的可控反射镜形成了具有第一光...

沉积物去除、光学元件保护方法、器件制造法和光刻设备本发明提供了一种去除包括光学元件的设备的光学元件上沉积物的方法，该方法包括在该设备的至少一部分内提供含有H2的气体；从含H2气体中的H2产生氢自由基；以及使具有沉积物的光学元件与至少部分...

本发明公开了一种辐射检测器、一种制造辐射检测器的方法和一种包括辐射检测器的光刻设备。在一个实施例中，提供一种包括至少一个检测器的组件。所述至少一个检测器中的每个检测器包括：衬底，具有第一导电类型的掺杂区域；位于所述衬底上的第二导电类型的...

本发明公开了一种用于光刻设备的反射光学部件及一种器件制造方法，所述反射光学部件配置成反射EUV辐射。反射光学部件具有反射层，反射层具有不同的第一和第二金属的双金属盖层，不同的第一和第二金属被选择成确保盖层的外表面基本上不与硫反应或或不吸...

本发明涉及一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：用于容纳物体W的载物台WT；用于移动所述载物台的致动器；和用于将所述物体W转移至所述载物台WT或从所述载物台WT转移物体W的输送装置HW。所述光刻设备设置有与所述致动器和/或所述输...

本发明涉及从设计选择图案子组的方法、执行源和掩模优化的方法以及用于执行从设计选择图案子组的方法的计算机程序产品图案子组。根据具体方面，本发明允许覆盖全部设计的同时，通过智能地从设计中选择图案子组降低计算成本，其中设计或设计的修正被配置成...