公开了一种可自组装的聚合物，所述可自组装的聚合物具有第一和第二分子构型，其中对于可自组装的聚合物，第一分子构型与第二分子构型相比具有更高的Flory?Huggins参数，并且通过施加刺激因素，所述可自组装的聚合物可从第一分子构型形成为第...

衍射模型和散射仪用于重构衬底上的显微结构(30)的模型。限定多个备选结构，每个通过多个参数(p1、p2等)表示。通过模拟所述备选结构中的每一个的照射来计算多个模型衍射信号。通过将一个或更多个所述模型衍射信号与由结构(30)检测的信号拟合...

提供一种多层反射镜(80)，包括第一材料层(84)和硅层(82)。第一材料层和硅层形成叠层。硅层的暴露区域包括布置用以改善硅的暴露区域的鲁棒性的改性部。

本发明提供了一种用于从EUV辐射束的路径去除污染物粒子的系统，其中提供至少第一AC电压至位于EUV辐射束的路径的相对侧上的一对电极作为电压机制的第一阶段，和提供DC电压至电极作为电压机制的第二阶段。

本发明公开了流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。用于光刻设备的流体处理结构在配置成将浸没流体限制于流体处理结构外部的区域的空间边界处具有：弯液面钉扎特征，用于抑制浸没流体沿径向向外的方向从所述空间通过；气体供给开口，所述气体供给开口至...

公开了包括用于将束投影到衬底的目标部分上的光学装置列的光刻设备，该光学装置列具有配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还包括相对于衬底移动光学装置列或其至少一部分的致动器以及在光学装置列的移动部分和衬底的目标部分之间和/或在...

本发明公开了一种辐射源及其控制方法、光刻设备以及器件制造方法。所述光刻设备包括：照射器，用于接收来自辐射源设备的EUV辐射束，并且用于调节所述束以照射诸如掩模板等图案形成装置的目标区域。掩模板形成图案化的辐射束。投影系统通过EUV光刻术...

本发明公开了一种光刻设备(1)，包括：投影系统(7)，其配置成将所述图案化的辐射束(9)投影到衬底的目标部分上；真空室(8)，在使用期间所述图案化的辐射束(9)被投影通过真空室；和净化系统(13、16、17)，其配置成在所述室(8)内提...

本发明公开了一种用于光刻设备的流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外方向离开所述空间；线性阵列形式的多...

本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间；线性阵列形式的多个气体供给开口，其至...

本发明公开了用于对波前像差具有定制的响应的图案设计的方法和系统。本发明涉及用于设计量测器图案的方法和系统，其对参数变化尤其灵敏，因此在对用于成像具有多个特征的目标设计的光刻过程的校准中对随机的和重复的测量误差是鲁棒性的。所述方法可以包括...

一种光谱纯度滤光片，包括：材料体，多个孔延伸通过所述材料体。孔布置成抑制具有第一波长的辐射并允许具有第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔。第二波长辐射比第一波长辐射短。所述材料体由具有对于第一波长的辐射基本上大于或等于70％的体反射...

一种方法和设备，用于将衬底(W)装载到衬底台(WT)上然后移动衬底台使得，在衬底的参照系中，衬底台以至少为重力加速度的10％的加速度向下加速，由此减小衬底和衬底台之间的摩擦使得衬底的变形可以至少部分地从衬底消除。

一种收集器反射镜组件(302)包括：包括反射表面(304)的收集器反射镜(co’)和具有边缘(308)的孔(306)。所述孔延伸通过反射表面。所述组件还包括管状主体(310)，所述管状主体(310)具有内表面(312)和外表面(314)...

一种反射器，包括配置成反射第一波长的辐射的多层反射镜结构，和一个或更多个附加层。多层反射镜结构和一个或更多个附加层在第二波长条件下的吸收率和折射系数以及多层反射镜结构和一个或更多个附加层的厚度配置成使得从反射器的表面反射的第二波长的辐射...

本发明涉及光刻设备，所述光刻设备包括光学装置列，该光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置和配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备可以设置有致动器，以相对于衬底移动光学装...

本发明公开了一种光刻设备(1)，包括：投影系统(7)，其配置成将所述图案化的辐射束(9)投影到衬底的目标部分上；真空室(8)，在使用期间所述图案化的辐射束(9)被投影通过真空室；和净化系统(13、16、17)，其配置成在所述室(8)内提...

一种具有多个声波发射器的波前修正设备，声波发射器配置成发射至少部分地行进跨过辐射束管道的声波。声波发射器可以配置成建立至少部分地延伸跨过辐射束管道的驻声波。可以在光刻设备中设置波前修正设备，可以使用波前修正设备修正被光刻设备使用以将图案...

本发明公开了用以确保源和图像稳定性的系统和方法，其中光刻设备特性的直接测量和晶片量测被结合以通过使用模拟模型来实现光刻设备/过程的时间漂移的减小。模拟模型可以具有子部分。例如，子模型可以表示第一组光学条件，另一子模型可以表示第二组光学条...

本发明涉及光刻设备和掩模优化过程与多重图案化过程的集成。本发明涉及光刻设备和过程，尤其涉及用于印刷超过光刻设备的分辨率极限的目标图案的多重图案化光刻术。公开了一种将经由光刻过程被成像到衬底上的图案分割成多个子图案的方法，其中所述方法包括...