一种压印光刻方法包括使用衬底或压印模具中的空隙空间。一旦可压印介质已经就位，在压印模具和衬底上的可压印的、可流动的介质之间捕获的气窝可能导致不规则。通常在可压印介质就位之前，通过气体流入或扩散到空隙空间，空隙空间允许气窝消散。作为压印模...

一种用于光刻设备的辐射斑测量系统，所述系统具有目标(40)，光刻设备的辐射系统可以将辐射斑投影在目标上用于测量过程，所述目标具有测量目标(42)。所述系统还包括用以检测来自多个斑之一的辐射的辐射检测器(41)和用以接收来自辐射检测器的信...

一种用于将物体(W)保持在支撑台(WT)上的静电夹具(10)，所述静电夹具包括：多层膜(200)，包括限定在导电层中(230)的电极，所述导电层定位在电绝缘层(210、220)之间。

本发明提供一种静电夹具设备(500)，构造用以支撑光刻设备的图案形成装置(505)，所述静电夹具设备包括支撑结构，所述图案形成装置被抵靠所述支撑结构支撑；用于在支撑结构和图案形成装置之间提供夹持力的夹持电极(525)；和电容传感器阵列(...

一种用于极紫外辐射的掠入射反射器(300)包括第一反射镜层(310)和在第一反射镜层下面的多层反射镜结构(320)。第一反射镜层至少部分地反射以在第一范围内的掠入射角入射到所述掠入射反射器上的极紫外辐射，所述第一反射镜层透射在入射角的第...

本发明公开了一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的...

本发明涉及一种衬底操纵装置、光刻系统和器件制造方法，尤其涉及一种用于将待曝光的衬底从轨道转移至光刻设备的衬底操纵装置。所述衬底操纵装置布置成确定开始衬底的转移过程的状况或时刻，所述状况或时刻基于光刻设备的预定的处理特性，用于保持衬底在衬...

本发明涉及一种辐射源及光刻设备。所述辐射源配置成生成极紫外辐射。所述辐射源包括等离子体形成部位，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束接触而形成等离子体所在的位置；出口，所述出口配置成允许气体出离辐射源；和污染物阱，所述污染物阱至少...

本发明公开一种用于先进光刻术的透镜加热感知的源掩模优化，具体地公开了一种用于改善通过使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上的光刻过程的计算机执行的方法，光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：计算作为光刻过程的特...

本发明公开了一种衬底拓扑可知的光刻模型化方法，具体公开了用于模拟由入射辐射导致在衬底上的抗蚀剂内形成的图像的方法，所述衬底具有在抗蚀剂层下面的第二特征和第一特征，所述方法包括步骤：在不使用入射辐射和第二特征的相互作用的情况下使用入射辐射...

本发明公开了一种用于模拟由入射辐射造成的形成在衬底上的抗蚀剂层中的辐射的三维空间强度分布的方法，所述方法包括步骤：计算抗蚀剂层中的前向传播辐射和抗蚀剂层中的后向传播辐射的非相干之和；计算抗蚀剂层中的前向传播辐射与抗蚀剂层中的后向传播辐射...

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法，具体地提供一种用于控制无掩模光刻设备的聚焦的系统，其中提供将可编程图案形成装置的图像投影到衬底上的投影系统。第一致动器系统配置成沿垂直于投影系统的光轴的方向移动投影系统的多个透镜中的至少一个。...

本发明涉及一种光刻掩模、光刻设备和方法。光刻掩模具有基底，所述基底对于特定波长的辐射是基本上透射性的，所述基底具有成图案形式的辐射吸收材料，所述图案配置成施加另一图案至所述特定波长的辐射束的横截面，其中所述吸收材料具有基本上等于所述特定...

本发明公开了用于测量通过光刻过程形成在衬底(W)上的目标结构(32-35)的方法。在所述目标内的光栅结构小于测量光学系统的视场和照射斑(31)。测量光学系统具有通向光瞳平面成像传感器(19)的第一分支和通向衬底平面成像传感器(23)的第...

本发明公开了一种泵系统、一种二氧化碳供给系统、一种抽取系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述抽取系统包括：泵，用于将气体沿着管道泵送至止回阀，所述止回阀配置成在上游压强高于一定的幅值时打开；压强传感器，用于生成指示在泵和止回阀之间的...

本发明公开了一种支撑件、光刻设备和器件制造方法。用于物体的支撑件具有配置成支撑所述物体的支撑表面；其中，所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，支撑表面的可移动部分适...

一种用于光刻过程中的掩模版组件，在光刻过程中第一像场和第二像场被投影到衬底上的第一目标部分和第二目标部分上，掩模版组件布置成保持具有第一像场的第一掩模版和具有第二像场的第二掩模版，使得第一像场和第二像场之间的距离对应第一目标部分和第二目...

本发明描述了一种用于减小由用于将设计布局成像到衬底上的光刻设备产生的闪烁效应的方法。通过将曝光场处的设计布局的密度分布图与点扩散函数(PSF)进行数学组合来模拟光刻系统的曝光场中的闪烁分布图，其中闪烁分布图上的系统特定的效应可以被包含到...

一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，用于放置衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底和热调节衬底；和转移系统，用于将热调节后的衬底转移至衬底台，其中至少在将热调节后的衬底从热调节单元转移至衬底台期间所述衬底台和热调...

一种光刻设备布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具。所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。在一个实施例中，真空夹紧装置布置成...