光刻设备和器件制造方法技术

一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，用于放置衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底和热调节衬底；和转移系统，用于将热调节后的衬底转移至衬底台，其中至少在将热调节后的衬底从热调节单元转移至衬底台期间所述衬底台和热调节单元布置在光刻设备的隔间内部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备和用于制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括:所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。通常，集成电路(ICs)包括多个连续的层，它们通过应用不同的图案形成。在使用光刻设备应用两个连续的层之间，衬底通常在光刻设备的外本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，配置成接纳所述衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底，和热调节所述衬底；以及转移系统，配置成将热调节后的衬底转移至所述衬底台，其中，在将热调节后的衬底从所述热调节单元转移至所述衬底台期间，所述衬底台和热调节单元布置在所述光刻设备的隔间内部。

【技术特征摘要】
2011.10.27 US 61/552,2821.一种光刻设备，包括: 衬底台，构造用以保持衬底； 隔间，配置成接纳所述衬底台； 热调节单元，布置成 接纳将要被曝光的衬底，和 热调节所述衬底；以及 转移系统，配置成将热调节后的衬底转移至所述衬底台，其中，在将热调节后的衬底从所述热调节单元转移至 所述衬底台期间，所述衬底台和热调节单元布置在所述光刻设备的隔间内部。2.按权利要求1所述的光刻设备，其中，所述热调节单元安装在所述隔间内部。3.按权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述热调节单元和所述衬底台配置成在转移期间彼此相邻地定位。4.根据前述权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中，所述转移系统包括保持器，所述保持器安装至所述热调节单元并配置成保持所述衬底。5.按权利要求4所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成围绕垂直轴线旋转所述衬底以用于衬底的粗对准。6.按权利要求4或5所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成将所述衬底保持在所述热调节单元的冷却板下面。7.按权利要求6所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成将衬底保持在冷却板的附近以允许所述衬底和冷却板之间的热交换。8.按权利要求6或7所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成当所述衬底台布...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·S·C·维斯特尔拉肯，R·詹森，E·弗乐尔特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：