一种方法，涉及：从作为光刻设备的一部分的传感器获得与光刻设备的振动有关的第一校准振动数据；以及获得第二校准振动数据，所述第二校准振动数据是光刻设备的第一参数数据的分量。根据第一校准振动数据和第二校准振动数据计算出滤波器，所述滤波器使得当...

本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。

一种用于在光刻设备中定位衬底(150、160)的定位系统，该定位系统包括：第一目标台(210)，在操作区域中可移动；第二目标台(310)，在操作区域中可移动；第一位置测量系统(100.1-100.3，200.1，200.1，300.1，...

一种辐射系统，配置成产生辐射束。所述辐射系统包括：辐射源(50)，配置成产生发射辐射和碎片的等离子体；辐射收集器(70)，配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场，以将等离子体...

本发明公开一种使用EUV光刻设备在衬底上曝光图案化区域的方法，该光刻设备具有至少大约5倍的缩小率和至少大约0.4的数值孔径，所述方法包括步骤：使用第一曝光在衬底上曝光图案化区域的第一部分，第一部分具有比常规曝光的尺寸明显小的尺寸；和使用...

一种平台系统，包括：可移动平台；以及用于测量平台的位置的编码器，其中编码器包括用于发射编码器束的发射器、用于与编码器束相互作用的光栅、以及用于检测已经与光栅相互作用的编码器束的检测器，编码器束在使用中沿着光路径传播；净化帽体，至少部分地...

本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面...

一种载物台(WT)用于支撑物体(W)，载物台具有支撑本体(100)，用于保持物体的物体保持器(30)，邻近物体保持器边缘的开口(5)，以及经由通路(14)与开口流体连通的通道(16)，其中通道由不同于限定通路的第二材料的第一材料来限定。

本发明公开了一种静电夹持装置(21)，配置成保持物体，所述静电夹持装置包括电极(24)、由位于电极上的电阻材料形成的电阻部分(23)以及由位于电阻部分上的介电材料形成的介电部分(22)。

一种用于生成适于在光刻设备中使用的EUV辐射的辐射源，所述辐射源包括：激光器，配置成用激光脉冲照射被供给燃料液滴的束流的目标区域。燃料液滴可以是锡液滴，其在被激光束激发时发射EUV辐射。EUV辐射通过收集器收集。锡液滴可以在主激光脉冲之...

一种检查方法确定了衬底图案的轮廓参数的值。制造具有基准图案目标(BP)的基准衬底，其具有由例如CD(中间临界尺寸)、SWA(侧壁角)和RH(抗蚀剂高度)等轮廓参数所描述的轮廓。散射量测用于获得来自第一和第二目标的第一和第二信号。微分图案...

一种光刻过程用于形成在横跨衬底的多个部位处分布且具有重叠的周期结构的多个目标结构(92，94)，所述重叠的周期结构具有横跨所述目标结构分布的多个不同的重叠偏置值。所述目标结构中的至少一些包括多个重叠的周期结构(例如光栅)，所述多个重叠的...

一种磁性装置，包括第一部分(FP)、第二部分(SP)、耦合到第一部分并且具有第一磁性极化的第一磁性部分(MP1)、耦合到第二部分并且具有第二磁性极化的第二磁性部分(MP2)以及耦合到第一部分并且具有额外的磁性极化的额外的磁性部分(AMP...

一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主...

一种确定光刻设备的聚焦的方法具有以下步骤。使用光刻过程在衬底上形成第一和第二结构，第一结构包括具有轮廓的特征，所述轮廓具有依赖于聚焦和例如剂量或像差的曝光扰动的不对称度。第二结构包括具有轮廓的特征，所述第二结构的特征轮廓对聚焦的敏感度与...

在此描述了一种用于光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用光刻成像设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述光刻过程具有多个设计变量，所述方法包括：相对于至少一个设计变量，计算光刻过程的多个评价点或图案中的每个的梯度；以及基于所述梯度来从所述...

一种激光驱动的光源，包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束，其中所述容器包括气体(例如，氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子，以形成输...

提供了一种用于在光刻设备中定位物体的定位系统。定位系统包括支架(210)，位置测量装置，形变传感器(250；DS)和处理器(PU)。构造支架以保持物体。配置位置测量装置以测量支架的位置。位置测量装置包括至少一个位置传感器目标(100.1...

一种光刻设备包括被构造为支撑图案形成装置(5)的图案形成装置支撑件，图案形成装置能够在辐射束的截面中施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构(3)，相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于...

一种通过光刻过程形成在衬底上的量测目标包括多个分量光栅。使用被分量光栅衍射的辐射的+1和-1级形成目标的图像。在被检测的图像中的感兴趣的区域(ROIs)对应于分量光栅被识别。在每个ROI内的强度值被处理并且在图像之间被比较，以获得不对称...