一种测量光刻过程的参数的方法及相关的检查设备被公开。所述方法包括：使用多个不同的照射条件来测量衬底上至少两个目标结构，所述目标结构具有有意的重叠偏置；对于每个目标结构获得表示总体不对称度的不对称度测量，所述总体不对称度包括由于(i)有意...

用于评价结构的所感兴趣的参数的值的重构品质的方法和检验设备以及计算机程序产品，其可以应用于例如显微结构的量测中。重要的是重构提供结构的所感兴趣的参数(例如，CD)的值，当重构值被用于监测和/或控制光刻过程时所述值是精确的。这是一种通过使...

当激光撞击靶时在激光光束产生的等离子体LPP EUV光源中产生极紫外光EUV。通过返回光束诊断RBD模块测量来自靶的反射光(110)提供了关于EUV产生的数据，包括但不限于靶位置、靶焦点、靶形状和靶轮廓，在RBD模块中，控制器(240)...

公开了一种用于辐射源的部件，所述辐射源能够操作以由燃料产生辐射，所述部件具有表面，所述表面包括对于所述燃料具有高润湿性的多个第一区域，所述多个第一区域由对于所述燃料具有低润湿性的第二区域隔开。所述部件例如可以包括用于液滴生成器或污染物阱...

本发明确定衬底(W)上的目标(30)的性质，诸如晶片上的光栅。一种检验设备具有照射源(702，710)，所述照射源在高数值孔径的物镜(L3)的光瞳平面中具有两个或更多个照射束(716，716’，716”，716”’)。相对于衬底的平面从...

一种图案化光刻衬底的方法，该方法包括使用自由电子激光器(FEL)以产生EUV辐射并且输送EUV辐射至将EUV辐射投影至光刻衬底上的光刻设备(LA)，其中该方法进一步包括通过使用基于反馈的控制回路(CT)以监测自由电子激光器并相应地调整自...

提供了一种光刻设备，具有参考体(202)和定位系统(200)。所述定位系统(200)包括主体(204)；反作用体(206)；致动器(208)；以及控制器(210)。主体在第一方向(+z)和第二方向(-z)上沿一路径相对于参考体能够移动。...

衬底设置有器件结构和量测结构(800)。器件结构包括展现出对一个或多个波长的激发辐射的非弹性散射的材料。器件结构包括在一个或多个尺寸上足够小以致非弹性散射的特性显著地受量子约束的影响的结构。量测结构(800)包括在组成和尺寸上类似于器件...

确定诸如临界尺寸(CD)或曝光剂量之类的与临界尺寸相关的性质的方法。使用光刻装置在光刻工艺中处理晶片，以在晶片上产生具有不同相应临界尺寸偏差的周期性目标。照射目标中的每个目标。测量由目标散射的辐射的强度。从图像中识别和提取每个光栅。确定...

一种选择待施加至辐射源的变量的周期性调制(401)的方法，其中源传递辐射以用于投射至衬底上以及其中在衬底和辐射之间存在以扫描速度的相对运动，方法包括：针对系统参数集合以及针对衬底上的位置，计算量值，量值是源自于被施加至源的变量的调制的对...

公开了一种对准传感器及相关方法，包括诸如白光源之类的照明源，具有可操作成在取决于波长的角度下的衍射高阶辐射的照明光栅；以及用于将衍射的辐射从至少两个相反方向递送至对准光栅上的照明光学器件。针对入射在对准光栅上的每个分量波长、以及针对每个...

用于形成标靶和用于产生极紫外光的技术包括：朝向标靶位置释放初始标靶材料，标靶材料包括当转换为等离子体时发射极紫外(EUV)光的材料；引导第一放大光束朝向初始标靶材料，第一放大光束具有足以由初始标靶材料形成标靶材料块件的汇集的能量，每个块...

本发明公开了一种光刻设备，包括对准传感器，所述对准传感器包括用于读取包括周期性结构的标记的位置的自参考干涉仪。照射光学系统将不同颜色和偏振的辐射聚焦在扫描所述结构的光斑(406)处。多个依赖于位置的信号IA(G，R，N，F)、IB(G，...

本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜...

一种辐射收集器(141)，包括：多个反射表面(400-405)，其中所述多个反射表面中的每个反射表面与多个椭圆面(40-45)中的一个椭圆面的一部分重合；其中所述多个椭圆面具有共同的第一焦点(12)和第二焦点(16)；所述多个反射表面中...

一种制造用在光刻设备中的物体保持装置(100)的方法，所述物体保持装置包括一个或多个电功能部件，所述方法包括：使用包括承载板(20)和分层结构的复合结构，所述承载板与物体保持装置的主体(100a)不同，所述分层结构包括一个或多个层(22...

一种用在光刻设备中的源收集器设备，所述源收集器设备包括：燃料液滴生成器(4)，配置成在使用中生成从所述燃料液滴生成器的出口朝向等离子体形成部位(7)引导的燃料液滴流(6)。为了防止液滴伴生对等离子体形成的干扰，气体供给装置被提供以在使用...

本文公开了一种计算机执行方法，用于模拟在光刻投影设备中包括一个或更多个特征的图案形成装置的散射辐射场，所述方法包括：使用所述一个或更多个特征的特征元素的一个或更多个散射函数确定所述图案形成装置的散射函数；其中一个或更多个特征中的至少一个...

描述了使用来自靶材料的反馈来增强极紫外光源的功率的技术，该靶材料在进入目标位置之前已被修改为空间延伸的靶分布或者膨胀的靶。因为反馈发生在其之上的路径的几何学(诸如往返长度和方向)可以随时间改变，或者空间延伸的靶分布的形状可能不提供足够光...

本发明提供一种图案形成装置，用于通过光学投影在衬底上形成标记，所述图案形成装置包括具有周期性的密度分布的标记图案，基础空间频率对应于待形成的标记的期望的周期性。所述密度分布相对于具有基频的简单二元分布被调制(例如正弦曲线地)，以便抑制所...