公开了一种用于光刻设备中的衬底保持装置。所述衬底保持装置包括：主体(100)，所述主体具有表面(107)；多个突节(106)，从所述表面突出并且具有用以支撑衬底的端表面；和位于主体表面上且形成电气部件或电子部件的薄膜叠层(200)，薄膜...

一种光刻仪器，其将气体注入掩模(MA)和掩模刀片(REB-X，REB-Y)之间，以保护掩模不受污染。气体可以被注入掩模和最近的一对掩模刀片之间限定的空间中，或者注入在两对掩模刀片之间限定的空间中。

一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻。因此，热流更倾向于流向温度调节装...

本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)，第一层在使用时面对...

公开了一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括支撑台(16)以及包括传感器部分(13)和参考部分(12、14)的测量系统(12-14)，所述测量系统被配置为通过使用所述传感器部分(13)与所述参考部分(12、14)相互作用来确定所述支撑...

一种用于光刻装置的衬底保持器(100)，其包括具有提供在其表面上的薄膜叠层(110)的主体。该薄膜叠层形成电子或电气组件，诸如电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件，并且具有顶部隔离层。用于支撑衬底(W)的多个突节(106)形成在薄膜叠...

一种光谱散射仪检测从目标光栅上的照射光斑衍射的零阶或高阶辐射。设备形成并且检测了零阶(反射)辐射的光谱，并且单独地形成并检测高阶衍射辐射的光谱。使用对称相位光栅形成每个光谱，以便于形成并且检测对称光谱对。成对的光谱可以平均以获得具有减小...

一种光刻设备包括配置成调节辐射束的照射系统，构造成支撑图案化装置的支撑件，能够在其剖视面中将图案赋予辐射束以形成图案化辐射束的图案化装置；构造以固定衬底的衬底基台，配置成将图案化辐射束投影至衬底的目标部分上的投影系统，以及传感器。传感器...

本发明公开一种微粒污染物测量方法和设备。该方法例如包括：将聚氨酯弹性体(2)的测量表面(5)压靠待测的表面(7)；从该表面移除聚氨酯弹性体而不留下残余物；随后，使用光学设备(11)检测已经通过聚氨酯弹性体从该表面移除并且已经附着至聚氨酯...

本发明提供一种监视辐射源燃料微滴流产生器的操作的方法，该辐射源燃料微滴流产生器包括容纳燃料毛细管以及压电致动器(500)。该方法包括分析包含该容纳燃料毛细管以及该压电致动器的系统的谐振频谱，尤其以寻找声学系统的谐振频率的改变，该改变可指...

一种装置，具有由对于穿过波导的辐射为透明的材料的连续本体形成的波导，其中本体具有输入表面和输出表面，以及配置用于冷却输入表面和/或输出表面的冷却器。一种曝光设备，具有：包括多个辐射发射器的可编程图案形成装置，其配置用于提供多个辐射束；以...

本发明公开了一种靶材、源、EUV光刻设备和使用该设备的器件制造方法。所述靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物，或Tb，或被配置以减小Tb的熔...

一种光刻装置具有支撑件(S)，支撑件设置有用于保持物体(W)的突节(BR)。支撑件已经采用光刻制造方法制造，例如MEMS技术，以便于形成其取向或位置为单独电可控的突节。

一种光刻装置，包括用于容纳衬底的衬底台；用于将图案成像到衬底上的投影系统；以及用于测量衬底台相对于投影系统的位置的计量系统。计量系统包括连接至投影系统的计量框架，相对于计量框架静止定位的栅格，以及面向栅格的用于测量衬底台相对于栅格的位置...

用于光刻设备的对象保持器(100)具有主体(400)，该主体具有表面(400a)。在该表面上或在薄膜叠层的孔径(410、440、450)中形成用于支撑对象的多个突节(406)。通过激光烧结形成突节中的至少一个。通过激光烧结形成的突节中的...

公开了一种形成可自组嵌段共聚物层的方法，其被定向为形成交替晶域的有序阵列。该方法涉及在衬底上提供可自组嵌段共聚物的层，并且在引发该层的自组以形成晶域的有序阵列之前，将第一表面活性剂沉积在所述层的外表面上。第一表面活性剂具有疏水性尾和亲水...

光刻或曝光设备(1)具有投影系统(12、14、18)和控制器(500)。投影系统包括固定部件(12)和运动部件(14、18)。投影系统被构造成投影多个辐射光束到目标上的多个位置上。该位置根据图案选择。控制器被构造成控制设备以第一模式或第...

一种装置或者方法，用于计算多个辐射束在多个不同时间施加的目标剂量值以便在目标上形成希望的剂量图案，每个目标剂量值定义目标剂量值被施加到的辐射束所形成的光斑曝光的剂量分布，其中在光斑曝光中的每个光斑曝光的剂量分布中的特性点的标称位置落在光...

本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并...

本发明涉及参照部位的位置和/或旋转确定用于照射目标上的多个部位的多个束的强度值。此外提供相关的光刻或曝光设备，相关的器件制造方法和相关的计算机程序。