使得具有第一和第二嵌段的可自组装的嵌段共聚物(BCP)从围绕所述衬底的光刻凹陷和衬底上的伪凹陷的区域移动到所述光刻凹陷和所述伪凹陷中，使所述光刻凹陷中的嵌段共聚物自组装成有序层，所述层包括第一嵌段域和第二嵌段域，以及选择性地去除第一域，...

本文描述了一种计算机执行方法，用于改善使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上的光刻过程，所述方法包括：提供期望的光瞳轮廓；基于期望的光瞳轮廓计算离散的光瞳轮廓；选择对离散的光瞳轮廓的离散的改变；以及将所选择的离散的改变应用于所述...

本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。...

一种形成多个规律地间隔的光刻特征的方法，所述方法包括：在衬底上的多个沟道中提供能够自组装的嵌段共聚物，所述嵌段共聚物具有第一嵌段和第二嵌段，每个沟道包括相对的侧壁和基部，所述侧壁具有侧壁间的宽度，其中第一沟道具有大于第二沟道的宽度；使能...

一种光刻设备，包括：物体，所述物体具有柔顺动态特性；多个致动器，所述多个致动器被配置为作用在被驱动的物体上，其中所述多个致动器在致动器自由度上是超定的；控制系统，所述控制系统包括变换矩阵，所述变换矩阵被配置为响应于一系列设定点产生用于所...

本发明公开了一种用于将EUV辐射束投影到衬底(400)的目标部分上的所述类型的设备的衬底支撑件。该衬底支撑件包括：构造成保持衬底的衬底台；用于支撑衬底台的支撑块(420)；以及设置成围绕衬底台的盖板(450’)。盖板的顶表面和安装在衬底...

一种确定通过使用例如光栅等周期图案的光刻过程产生的结构的光刻品质的方法检测光刻过程窗口边缘并优化过程条件。方法的步骤为：602：通过使用光栅图案的光刻过程印刷结构；604：选择第一特性，例如偏振方向，用于照射；606：用具有第一特性的入...

一种改变多个辐射束的性质的组件，该组件包括多个波导，其被配置为引导多个辐射束更靠近在一起；和倍频器件，其被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束。还描述了相应的光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法和...

一种用于极紫外(EUV)光源的靶材料供应装置，包括管，该管包括第一端、第二端、以及限定在第一端和第二端之间的侧壁。管的外表面的至少一部分包括电绝缘材料，第一端接收增压的靶材料，且第二端限定一孔口，增压的靶材料通过该孔口流过以产生靶材料液...

一种用于使例如反射镜位移的致动器(300)，通过改变两个电磁体(370、372、376、378)中的电流提供了具有至少两个自由度的运动。移动部分包括具有被约束为在工作区域之上移动的磁面的永磁体(362)，该工作区域基本上位于垂直于磁体的...

用于保护光学元件，特别是反射性光学元件免于在苛刻环境(例如，EUV光源的真空室内的环境)中使它们光学性质劣化的光学元件保护系统。系统包括在各层中使用材料的组合，其中对材料进行选择并对层进行配置和布置，以延长光学元件的寿命而不损害其光学性质。

本发明涉及检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法。为了确定曝光设备是否输出正确的辐射剂量以及曝光设备的投影系统是否正确地聚焦辐射，在掩模上使用测试图案、用于印刷特定标记到衬底上。这种标记可以通过例如散射仪等检验设备测量以确...

一种用于测量物理量的传感器系统，系统包括具有多个检测器以允许在不同空间位置处并行测量的并行检测设置，其中多个检测器共享噪声源，其中配置传感器系统以使得多个检测器每个输出作为物理量的函数的信号，以及其中配置传感器系统以使得至少一个检测器与...

一种确定光刻工艺中使用的光刻设备在衬底上的曝光剂量的方法。使用光刻工艺在衬底上产生第一结构，第一结构具有剂量敏感特征，该剂量敏感特征具有取决于光刻设备在衬底上的曝光剂量的形式。使用光刻工艺在衬底上产生第二结构，第二结构具有剂量敏感特征，...

一种适用于向光刻设备提供辐射的辐射源从等离子体(12)生成辐射，等离子体从包括气体的围闭件内的燃料(31)生成。等离子体生成初级燃料碎片，初级燃料碎片被收集为碎片接收表面((33a)、(33b))上的燃料层。碎片接收表面被加热到一定温度...

一种静电夹具(12)包括电极(2)、位于电极上的阻性材料(6)的层、以及位于阻性材料上的电介质(8)的层，其中静电夹具进一步包括从电介质的层突出的突节(10)。

一种背照式传感器，包括支撑衬底、半导体层和p型掺杂保护材料层，半导体层包括光电二极管，光电二极管包括p型掺杂半导体区域和设置在半导体层的第一表面处的n型掺杂半导体区域，其中耗尽区域被形成在n型掺杂半导体区域和p型掺杂半导体区域之间，p型...

一种用于位置测量系统的光栅，该光栅包括第一方向上的光栅线的第一阵列和第二方向上的光栅线的第二阵列。第一和第二阵列将入射在第一和第二阵列上的测量束衍射为第一方向上的至少一个第一衍射束和第二方向上的至少一个第二衍射束。至少一个第一衍射束用于...

一种用于真空腔室的视口的保护器包括衬底材料，其吸收具有放大光束的波长的辐射以及具有目标材料的发射光谱中所包括的波长的辐射，上述目标材料在被所述放大光束所离子化时产生EUV光。所述衬底材料透射可见光或近红外光中的一个或多个。所述保护器还包...

描述了一种电磁致动器，该致动器包括：线圈组件(350)，包括线圈(355)；磁体组件，包括第一磁体单元和第二磁体单元(360、370)，每个磁体单元包括磁轭(365、375)和被安装至磁轭的多个永磁体(366、376)，第一磁体单元和第...